[1]在这个新的放射学时代,计算机断层扫描已成为头部受伤患者初步评估的基本主要选择。在检测颅骨骨折和急性颅内出血方面,它也很容易获得,更快且高度准确。[2]基于50名被转诊为NCCT头部调查的患者,根据调查的50名患者,基于便利性抽样进行了一项前瞻性研究。进行了研究以确定临床发现,断裂的类型和骨折部位。这项研究得出的结论是,NCCT头部调查是最佳的脑损伤史患者的主要方式。关键字:NCCT头,MDCT,断层扫描,重建。简介CT扫描代表计算机断层扫描。这是一种特殊的断层扫描形式,其中计算机用于对层析成像平面或切片进行数学重建。1971年10月1日,在由Godfrey N. Hounsfield爵士开发的原型扫描仪上进行了涉嫌进行额叶肿瘤的患者进行的第一次临床计算机断层扫描(CT)扫描。扫描仪产生了具有80 x 80矩阵的图像。[3] 1974年,罗伯特·史蒂文·莱德利(Robert Steven Ledley)博士给了整个 -
100157 Sreram v 2 100461 Vishal Hooda 3 100475 Ade Sachin Baburao 4 100709 Masood Ahmad Malik 5 101342 Pintt Kumar 6 101433 Akshay Lal Sharma 7 101434 Ashish Sharma 8 101435 Maji Sankararao 9 101437 Vinod Kumar Sonkar 10 101440 Kuldeep Raghuwanshi 11 1014444 pawan Vishwakarma 12 101452 apoorva Jangir 13 101481 Vikas Kumar 14 101481 Aasim 15 101497 Deep Singh 16 101503 AbiPSa Swaain 17 101510 MD Tasinul Hoque 18 101538 Pardeep Kumar 19 101542 Suman Bharti 20 101570 G K Naveen Kumar 22 101606 Mukku Pavan Kumar 22 101607 Stanzin Gyatso 23 101672 Himanshu Dixit 24 101688 Patanchala Rama Krishna 25 101696 Pradeep Kumar Pandit 26 101761 Anuja 27 101762 Gadhe Chandra Reddy 28 101806 Chandra prakash singh 29 101819 Ankur Yadav 30 101820 Prasanjit Kar 31 101837 Anjum Razi 32 101882 Ranjith Devulapalli 33 101884 Mandeep Singh 34 101886 Sandeep Kumar Yadav 35 101928 Ashutosh Shah 36 101961 Samiya Majid 37 101980 Jay Kumar Yadav 38185 Malik Faizan 39 101988 Ambar Abdullah Koul100157 Sreram v 2 100461 Vishal Hooda 3 100475 Ade Sachin Baburao 4 100709 Masood Ahmad Malik 5 101342 Pintt Kumar 6 101433 Akshay Lal Sharma 7 101434 Ashish Sharma 8 101435 Maji Sankararao 9 101437 Vinod Kumar Sonkar 10 101440 Kuldeep Raghuwanshi 11 1014444 pawan Vishwakarma 12 101452 apoorva Jangir 13 101481 Vikas Kumar 14 101481 Aasim 15 101497 Deep Singh 16 101503 AbiPSa Swaain 17 101510 MD Tasinul Hoque 18 101538 Pardeep Kumar 19 101542 Suman Bharti 20 101570 G K Naveen Kumar 22 101606 Mukku Pavan Kumar 22 101607 Stanzin Gyatso 23 101672 Himanshu Dixit 24 101688 Patanchala Rama Krishna 25 101696 Pradeep Kumar Pandit 26 101761 Anuja 27 101762 Gadhe Chandra Reddy 28 101806 Chandra prakash singh 29 101819 Ankur Yadav 30 101820 Prasanjit Kar 31 101837 Anjum Razi 32 101882 Ranjith Devulapalli 33 101884 Mandeep Singh 34 101886 Sandeep Kumar Yadav 35 101928 Ashutosh Shah 36 101961 Samiya Majid 37 101980 Jay Kumar Yadav 38185 Malik Faizan 39 101988 Ambar Abdullah Koul
1. Baral, LR,《尼泊尔的反对派政治》,新德里:Abhinav Publications,1977 年。2. Baral, LS,《尼泊尔毛派叛乱的方方面面》,新德里:Adroit Publishers,2011 年。3. Parmanand,《尼泊尔大会党自成立以来》,新德里:Ankur,1977 年。Gyanwali, Ram Prasad,2012 年。《了解尼泊尔》。加德满都:Bhundipuran Prakashan。 4. Manandhar,Tri Ratna,《尼泊尔:动乱之年》,加德满都:Purna Devi Manandhar,1986 年 5. Sharan,P.《尼泊尔政府与政治》,新德里:Metropolitan Publications,1983 年。 6. Shah,Rishikesh,《尼泊尔政治》,新德里:Manohar,1993 年 7. Uprety,Prem R.,《尼泊尔政治觉醒》,新德里:Commonwealth Publishers。1992 年。 8. cfrfo{, afa'/fd, >L % a8fdxf/fhflw/fh k[YjLgf/fo0f zfxsf] ;+lIfKt hLjgL -efu !–$_, sf7df8f}FM ;femf k|sfzg, lj=;+= @)^! . 9. uf}td, /fh]z, g]kfnsf] k|hftflGqs cfGbf]ng / g]kfnL sf+u|];, sf7df8f}FM >L/fd >]i7 / s[i0fd'/f/L clwsf/L, lj=;+= @)%% 10. uf}td, /fh]z, g]kfnsf] k|hftflGqs cfGbf]ng / g]kfnL sf+u|];, efu–@, sf7df8f}FM s[i0fd'/f/L clwsf/L / >L/fd >]i7,
1. Baral, LR,《尼泊尔的反对派政治》,新德里:Abhinav Publications,1977 年。2. Baral, LS,《尼泊尔毛派叛乱的方方面面》,新德里:Adroit Publishers,2011 年。3. Parmanand,《尼泊尔大会党自成立以来》,新德里:Ankur,1977 年。Gyanwali, Ram Prasad,2012 年。《了解尼泊尔》。加德满都:Bhundipuran Prakashan。 4. Manandhar,Tri Ratna,《尼泊尔:动乱之年》,加德满都:Purna Devi Manandhar,1986 年 5. Sharan,P.《尼泊尔政府与政治》,新德里:Metropolitan Publications,1983 年。 6. Shah,Rishikesh,《尼泊尔政治》,新德里:Manohar,1993 年 7. Uprety,Prem R.,《尼泊尔政治觉醒》,新德里:Commonwealth Publishers。1992 年。 8. cfrfo{, afa'/fd, >L % a8fdxf/fhflw/fh k[YjLgf/fo0f zfxsf] ;+lIfKt hLjgL -efu !–$_, sf7df8f}FM ;femf k|sfzg, lj=;+= @)^! . 9. uf}td, /fh]z, g]kfnsf] k|hftflGqs cfGbf]ng / g]kfnL sf+u|];, sf7df8f}FM >L/fd >]i7 / s[i0fd'/f/L clwsf/L, lj=;+= @)%% 10. uf}td, /fh]z, g]kfnsf] k|hftflGqs cfGbf]ng / g]kfnL sf+u|];, efu–@, sf7df8f}FM s[i0fd'/f/L clwsf/L / >L/fd >]i7,
DR。 H. M.Desai,Dharmsinh Desai University(DDU)的副校长H. M.Desai,Nadiad。 先生纳迪亚德博士Dharmsinh Desai大学校园主任Ankur Desai纳德(D. Tejal Soni,院长,DDU的药学学院,纳德。 DR。 P. A. Joshi,前主席主持人学院和DDU化学工程系教授,Nadiad Dr. B. N. Suhagia,院长,DDU,NADIAD ENGINEERING,NADIAD DR. DDU教授GTSD副教授Vimal G. Gandhi。 DDU博士化学工程系GTSD副教授Mihir P. Shah纳杜德DDU化学工程系助理教授Anand Tiwari。 教授纳杜德DDU化学工程系助理教授Siddharth Modi。 DR。美国佛罗里达大学Dinesh O. Shah。 DR。 Hyunook Kim,韩国首尔大学。 DR。 Chuanyi Wang,Shaanxi科学技术大学,中国博士R. V. Jasra,Reliance Technology Group,Indian Dr.阿联酋阿联酋大学的穆纳瓦尔·谢赫(Munawar Shaikh)博士Alessandro Di Prtero,法国图鲁斯大学博士T. M. Rabiul Islam,澳大利亚塔斯马尼亚大学。 DR。 Syed Mohammad Tauseaf,Upes,Dehradun,印度Dr.印度博帕尔国家理工学院国家理工学院Sundar Lal Pal博士Shailendra Bajpai,印度Jalandhar国家理工学院Nitin Padhiyar,部门 印度IIT-Gandhinagar化学工程。DR。 H. M.Desai,Dharmsinh Desai University(DDU)的副校长H. M.Desai,Nadiad。先生纳迪亚德博士Dharmsinh Desai大学校园主任Ankur Desai纳德(D. Tejal Soni,院长,DDU的药学学院,纳德。DR。 P. A. Joshi,前主席主持人学院和DDU化学工程系教授,Nadiad Dr. B. N. Suhagia,院长,DDU,NADIAD ENGINEERING,NADIAD DR. DDU教授GTSD副教授Vimal G. Gandhi。 DDU博士化学工程系GTSD副教授Mihir P. Shah纳杜德DDU化学工程系助理教授Anand Tiwari。 教授纳杜德DDU化学工程系助理教授Siddharth Modi。 DR。美国佛罗里达大学Dinesh O. Shah。 DR。 Hyunook Kim,韩国首尔大学。 DR。 Chuanyi Wang,Shaanxi科学技术大学,中国博士R. V. Jasra,Reliance Technology Group,Indian Dr.阿联酋阿联酋大学的穆纳瓦尔·谢赫(Munawar Shaikh)博士Alessandro Di Prtero,法国图鲁斯大学博士T. M. Rabiul Islam,澳大利亚塔斯马尼亚大学。 DR。 Syed Mohammad Tauseaf,Upes,Dehradun,印度Dr.印度博帕尔国家理工学院国家理工学院Sundar Lal Pal博士Shailendra Bajpai,印度Jalandhar国家理工学院Nitin Padhiyar,部门 印度IIT-Gandhinagar化学工程。DR。 P. A. Joshi,前主席主持人学院和DDU化学工程系教授,Nadiad Dr. B. N. Suhagia,院长,DDU,NADIAD ENGINEERING,NADIAD DR. DDU教授GTSD副教授Vimal G. Gandhi。 DDU博士化学工程系GTSD副教授Mihir P. Shah纳杜德DDU化学工程系助理教授Anand Tiwari。教授纳杜德DDU化学工程系助理教授Siddharth Modi。 DR。美国佛罗里达大学Dinesh O. Shah。 DR。 Hyunook Kim,韩国首尔大学。 DR。 Chuanyi Wang,Shaanxi科学技术大学,中国博士R. V. Jasra,Reliance Technology Group,Indian Dr.阿联酋阿联酋大学的穆纳瓦尔·谢赫(Munawar Shaikh)博士Alessandro Di Prtero,法国图鲁斯大学博士T. M. Rabiul Islam,澳大利亚塔斯马尼亚大学。 DR。 Syed Mohammad Tauseaf,Upes,Dehradun,印度Dr.印度博帕尔国家理工学院国家理工学院Sundar Lal Pal博士Shailendra Bajpai,印度Jalandhar国家理工学院Nitin Padhiyar,部门 印度IIT-Gandhinagar化学工程。教授纳杜德DDU化学工程系助理教授Siddharth Modi。DR。美国佛罗里达大学Dinesh O. Shah。 DR。 Hyunook Kim,韩国首尔大学。 DR。 Chuanyi Wang,Shaanxi科学技术大学,中国博士R. V. Jasra,Reliance Technology Group,Indian Dr.阿联酋阿联酋大学的穆纳瓦尔·谢赫(Munawar Shaikh)博士Alessandro Di Prtero,法国图鲁斯大学博士T. M. Rabiul Islam,澳大利亚塔斯马尼亚大学。 DR。 Syed Mohammad Tauseaf,Upes,Dehradun,印度Dr.印度博帕尔国家理工学院国家理工学院Sundar Lal Pal博士Shailendra Bajpai,印度Jalandhar国家理工学院Nitin Padhiyar,部门 印度IIT-Gandhinagar化学工程。DR。美国佛罗里达大学Dinesh O. Shah。DR。 Hyunook Kim,韩国首尔大学。 DR。 Chuanyi Wang,Shaanxi科学技术大学,中国博士R. V. Jasra,Reliance Technology Group,Indian Dr.阿联酋阿联酋大学的穆纳瓦尔·谢赫(Munawar Shaikh)博士Alessandro Di Prtero,法国图鲁斯大学博士T. M. Rabiul Islam,澳大利亚塔斯马尼亚大学。 DR。 Syed Mohammad Tauseaf,Upes,Dehradun,印度Dr.印度博帕尔国家理工学院国家理工学院Sundar Lal Pal博士Shailendra Bajpai,印度Jalandhar国家理工学院Nitin Padhiyar,部门 印度IIT-Gandhinagar化学工程。DR。 Hyunook Kim,韩国首尔大学。DR。 Chuanyi Wang,Shaanxi科学技术大学,中国博士R. V. Jasra,Reliance Technology Group,Indian Dr.阿联酋阿联酋大学的穆纳瓦尔·谢赫(Munawar Shaikh)博士Alessandro Di Prtero,法国图鲁斯大学博士T. M. Rabiul Islam,澳大利亚塔斯马尼亚大学。 DR。 Syed Mohammad Tauseaf,Upes,Dehradun,印度Dr.印度博帕尔国家理工学院国家理工学院Sundar Lal Pal博士Shailendra Bajpai,印度Jalandhar国家理工学院Nitin Padhiyar,部门 印度IIT-Gandhinagar化学工程。DR。 Chuanyi Wang,Shaanxi科学技术大学,中国博士R. V. Jasra,Reliance Technology Group,Indian Dr.阿联酋阿联酋大学的穆纳瓦尔·谢赫(Munawar Shaikh)博士Alessandro Di Prtero,法国图鲁斯大学博士T. M. Rabiul Islam,澳大利亚塔斯马尼亚大学。DR。 Syed Mohammad Tauseaf,Upes,Dehradun,印度Dr.印度博帕尔国家理工学院国家理工学院Sundar Lal Pal博士Shailendra Bajpai,印度Jalandhar国家理工学院Nitin Padhiyar,部门 印度IIT-Gandhinagar化学工程。DR。 Syed Mohammad Tauseaf,Upes,Dehradun,印度Dr.印度博帕尔国家理工学院国家理工学院Sundar Lal Pal博士Shailendra Bajpai,印度Jalandhar国家理工学院Nitin Padhiyar,部门印度IIT-Gandhinagar化学工程。印度IIT-Gandhinagar化学工程。博士Chetinad研究与教育学院博士Wan-Hyuy Nguny Bhavesh Bharatiya,Deutsches Elektronen Synchrotron Dr. Avinash Deshmukh教授Nirav Bhavsar教授。 Hitesh Panchal教授Dhrumil Gandhi教授Niraj Nair教授JayDeep Jivani
SL No. 名称部门课程分配了1个Abhijith.A微生物学PG BH-4 2 Abinash Kalita Earth Science PG BH-4 3 Aditya Raj Ae,B.Tech。 UG B-5 4 Affair Ali Education PG BH-4 5 Ajin Krishna P U Ae,B.Tech。 UG B-4 6 Akash Kumar CSE,B.Tech。 UG B-3 7 Amit Daimari CSE,B.Tech。 ug B-1 8 Ankur Raj Ae,B.Tech。 ug b-59 anshujeet kumar law-1 10 Anshul Raj Law-11 Anujit Das Commerce PG BH-2 12 Asim Kumar Roy Business Administ PG BH-2 13 Asif Imtiaz Physics Pg BH-4 14 Ayush Raj Law-15 Banteikuparnongrang Economics PG BH-2 16 Bapon Das Library & Inf. sc。 PG BH-17 BHARV NANDA DAS LIFE SC。 &BioInformmatics PG BH-4 18 Bikash Talukdar Life Sc。 &BioInformmatics PG BH-2 19 Binesh Safi政治学PG BH-4 20 CityJithaosen Life Sc。 &BioInformmatics PG BH-4 21 Brajnandan Prasad CSE,B.Tech。 UG B-3 22 Chirag Sarda CSE,B.Tech。 UG B-1 23 Deepak Singh ECE,B.Tech。 UG B-5 24 DHENDUP SHERPA ECE,B.Tech。 UG B-5 25 Dipak Biswas AE,B.Tech。 UG B-3 26 Elugala Shiva Kumar Economics PG BH-4 27名望LunminalDoungel历史PG BH-4 28 Gaurav Das Ece,B.Tech。 UG B-3 29 Googina Pavan Kumar ECE,B.Tech,UG BH-4 30 Gyanjyoti Sonowal微生物学PG BH-4 31 Hridesh Ranjan Chakraborty Hindi Hindi Pg BH-2 32 32 Jahid Hussain Mazumder Mathimatics PG BH-4 33 JAN 33 JAN 3 JAN 3 JAN 3 JAN 3 JAN MASKICAID PH.-4 JAN 3 JAN JAN MANINE pH. 4 JAN JAN MANINE pH.SKICAID PHICCKICAICH JAN MANINANE MESKKICAL MAD pH。 Nath Mazurbhuiya Law PG BH-1 35 Jitul Gogoi Physics PG BH-4 36 Jnyanendra Barman政治分数PH.D BH-37 JUBIN GOGOGOI GOGOI SOCIOLOGY PG BH-2SL No.名称部门课程分配了1个Abhijith.A微生物学PG BH-4 2 Abinash Kalita Earth Science PG BH-4 3 Aditya Raj Ae,B.Tech。UG B-5 4 Affair Ali Education PG BH-4 5 Ajin Krishna P U Ae,B.Tech。UG B-4 6 Akash Kumar CSE,B.Tech。UG B-3 7 Amit Daimari CSE,B.Tech。ug B-1 8 Ankur Raj Ae,B.Tech。ug b-59 anshujeet kumar law-1 10 Anshul Raj Law-11 Anujit Das Commerce PG BH-2 12 Asim Kumar Roy Business Administ PG BH-2 13 Asif Imtiaz Physics Pg BH-4 14 Ayush Raj Law-15 Banteikuparnongrang Economics PG BH-2 16 Bapon Das Library & Inf. sc。 PG BH-17 BHARV NANDA DAS LIFE SC。 &BioInformmatics PG BH-4 18 Bikash Talukdar Life Sc。 &BioInformmatics PG BH-2 19 Binesh Safi政治学PG BH-4 20 CityJithaosen Life Sc。 &BioInformmatics PG BH-4 21 Brajnandan Prasad CSE,B.Tech。 UG B-3 22 Chirag Sarda CSE,B.Tech。 UG B-1 23 Deepak Singh ECE,B.Tech。 UG B-5 24 DHENDUP SHERPA ECE,B.Tech。 UG B-5 25 Dipak Biswas AE,B.Tech。 UG B-3 26 Elugala Shiva Kumar Economics PG BH-4 27名望LunminalDoungel历史PG BH-4 28 Gaurav Das Ece,B.Tech。 UG B-3 29 Googina Pavan Kumar ECE,B.Tech,UG BH-4 30 Gyanjyoti Sonowal微生物学PG BH-4 31 Hridesh Ranjan Chakraborty Hindi Hindi Pg BH-2 32 32 Jahid Hussain Mazumder Mathimatics PG BH-4 33 JAN 33 JAN 3 JAN 3 JAN 3 JAN 3 JAN MASKICAID PH.-4 JAN 3 JAN JAN MANINE pH. 4 JAN JAN MANINE pH.SKICAID PHICCKICAICH JAN MANINANE MESKKICAL MAD pH。 Nath Mazurbhuiya Law PG BH-1 35 Jitul Gogoi Physics PG BH-4 36 Jnyanendra Barman政治分数PH.D BH-37 JUBIN GOGOGOI GOGOI SOCIOLOGY PG BH-2ug b-59 anshujeet kumar law-1 10 Anshul Raj Law-11 Anujit Das Commerce PG BH-2 12 Asim Kumar Roy Business Administ PG BH-2 13 Asif Imtiaz Physics Pg BH-4 14 Ayush Raj Law-15 Banteikuparnongrang Economics PG BH-2 16 Bapon Das Library & Inf.sc。PG BH-17 BHARV NANDA DAS LIFE SC。&BioInformmatics PG BH-4 18 Bikash Talukdar Life Sc。&BioInformmatics PG BH-2 19 Binesh Safi政治学PG BH-4 20 CityJithaosen Life Sc。&BioInformmatics PG BH-4 21 Brajnandan Prasad CSE,B.Tech。UG B-3 22 Chirag Sarda CSE,B.Tech。UG B-1 23 Deepak Singh ECE,B.Tech。 UG B-5 24 DHENDUP SHERPA ECE,B.Tech。 UG B-5 25 Dipak Biswas AE,B.Tech。 UG B-3 26 Elugala Shiva Kumar Economics PG BH-4 27名望LunminalDoungel历史PG BH-4 28 Gaurav Das Ece,B.Tech。 UG B-3 29 Googina Pavan Kumar ECE,B.Tech,UG BH-4 30 Gyanjyoti Sonowal微生物学PG BH-4 31 Hridesh Ranjan Chakraborty Hindi Hindi Pg BH-2 32 32 Jahid Hussain Mazumder Mathimatics PG BH-4 33 JAN 33 JAN 3 JAN 3 JAN 3 JAN 3 JAN MASKICAID PH.-4 JAN 3 JAN JAN MANINE pH. 4 JAN JAN MANINE pH.SKICAID PHICCKICAICH JAN MANINANE MESKKICAL MAD pH。 Nath Mazurbhuiya Law PG BH-1 35 Jitul Gogoi Physics PG BH-4 36 Jnyanendra Barman政治分数PH.D BH-37 JUBIN GOGOGOI GOGOI SOCIOLOGY PG BH-2UG B-1 23 Deepak Singh ECE,B.Tech。UG B-5 24 DHENDUP SHERPA ECE,B.Tech。 UG B-5 25 Dipak Biswas AE,B.Tech。 UG B-3 26 Elugala Shiva Kumar Economics PG BH-4 27名望LunminalDoungel历史PG BH-4 28 Gaurav Das Ece,B.Tech。 UG B-3 29 Googina Pavan Kumar ECE,B.Tech,UG BH-4 30 Gyanjyoti Sonowal微生物学PG BH-4 31 Hridesh Ranjan Chakraborty Hindi Hindi Pg BH-2 32 32 Jahid Hussain Mazumder Mathimatics PG BH-4 33 JAN 33 JAN 3 JAN 3 JAN 3 JAN 3 JAN MASKICAID PH.-4 JAN 3 JAN JAN MANINE pH. 4 JAN JAN MANINE pH.SKICAID PHICCKICAICH JAN MANINANE MESKKICAL MAD pH。 Nath Mazurbhuiya Law PG BH-1 35 Jitul Gogoi Physics PG BH-4 36 Jnyanendra Barman政治分数PH.D BH-37 JUBIN GOGOGOI GOGOI SOCIOLOGY PG BH-2UG B-5 24 DHENDUP SHERPA ECE,B.Tech。UG B-5 25 Dipak Biswas AE,B.Tech。 UG B-3 26 Elugala Shiva Kumar Economics PG BH-4 27名望LunminalDoungel历史PG BH-4 28 Gaurav Das Ece,B.Tech。 UG B-3 29 Googina Pavan Kumar ECE,B.Tech,UG BH-4 30 Gyanjyoti Sonowal微生物学PG BH-4 31 Hridesh Ranjan Chakraborty Hindi Hindi Pg BH-2 32 32 Jahid Hussain Mazumder Mathimatics PG BH-4 33 JAN 33 JAN 3 JAN 3 JAN 3 JAN 3 JAN MASKICAID PH.-4 JAN 3 JAN JAN MANINE pH. 4 JAN JAN MANINE pH.SKICAID PHICCKICAICH JAN MANINANE MESKKICAL MAD pH。 Nath Mazurbhuiya Law PG BH-1 35 Jitul Gogoi Physics PG BH-4 36 Jnyanendra Barman政治分数PH.D BH-37 JUBIN GOGOGOI GOGOI SOCIOLOGY PG BH-2UG B-5 25 Dipak Biswas AE,B.Tech。UG B-3 26 Elugala Shiva Kumar Economics PG BH-4 27名望LunminalDoungel历史PG BH-4 28 Gaurav Das Ece,B.Tech。UG B-3 29 Googina Pavan Kumar ECE,B.Tech,UG BH-4 30 Gyanjyoti Sonowal微生物学PG BH-4 31 Hridesh Ranjan Chakraborty Hindi Hindi Pg BH-2 32 32 Jahid Hussain Mazumder Mathimatics PG BH-4 33 JAN 33 JAN 3 JAN 3 JAN 3 JAN 3 JAN MASKICAID PH.-4 JAN 3 JAN JAN MANINE pH. 4 JAN JAN MANINE pH.SKICAID PHICCKICAICH JAN MANINANE MESKKICAL MAD pH。 Nath Mazurbhuiya Law PG BH-1 35 Jitul Gogoi Physics PG BH-4 36 Jnyanendra Barman政治分数PH.D BH-37 JUBIN GOGOGOI GOGOI SOCIOLOGY PG BH-2
∗ 本文的早期版本题为“超越无限:通过逻辑紧凑性扩展经济理论”,以一页摘要的形式出现在第 21 届 ACM 经济与计算会议论文集上。我们感谢 David Ahn、Bob Anderson、Morgane Austern、Archishman Chakrabortyz、Chris Chambers、Yunseo Choi、Henry Cohn、Piotr Dworczak、Andrew Ellis、Tam´as Fleiner、Drew Fudenberg、Wayne Gau、Jerry Green、Joseph Halpern、Ron Holzman、Ravi Jagadeesan、M. Ali Khan、David Laibson、Rida Laraki、Bar Light、Elliot Lipnowski、Ce Liu、George Mailath、Michael Mandler、Paul Milgrom、Ankur Moitra、Yoram Moses、Juan Pereyra、Marek Pycia、Debraj Ray、John Rehbeck、Phil Reny、Joseph Root、Ariel Rubinstein、Dov Samet、Chris Shannon、Tomasz Strzalecki、Sergiy Verstyuk、Rakesh Vohra、Shing-Tung Yau、Bill Zame 以及众多研讨会观众有帮助的评论。 Gonczarowski 的部分资助来自以色列科学与人文学院的亚当斯奖学金项目;他的工作部分资助来自以色列科学院管理的 ISF 拨款 1435/14、317/17 和 1841/14;美国-以色列双边科学基金会(BSF 拨款 2014389);以及欧洲研究理事会 (ERC) 的欧盟地平线 2020 研究与创新计划(拨款编号 740282)和欧盟第七框架计划 (FP7/2007-2013)/ERC 拨款编号 337122。Kominers 非常感谢美国国家科学基金会(拨款 SES-1459912)以及哈佛大学数学科学与应用中心的 Ng 基金和经济学数学研究基金的支持。 Shorrer 得到了美国-以色列双边科学基金会 (BSF 拨款 2016015 和 2022417) 的资助。这项工作的一部分是在西蒙斯劳弗数学科学研究所 2023 年秋季市场和机制设计的数学和计算机科学项目期间进行的,该项目由美国国家科学基金会资助,拨款编号为 DMS-1928930,由阿尔弗雷德 P. 斯隆基金会资助,拨款编号为 G-2021-16778。† 哈佛大学经济学系和计算机科学系 — 电子邮件:yannai@gonch.name。Gonczarowski 的部分工作是在耶路撒冷希伯来大学、特拉维夫大学和微软研究院进行的。‡ 哈佛商学院创业管理部;哈佛大学经济学系和 CMSA;和 a16z crypto — 电子邮件:kominers@fas.harvard.edu。§ 宾夕法尼亚州立大学经济学系 — 电子邮件:shorrer@psu.edu。
The molecular basis for DNA-binding by competence T4P is distinct in Gram-positive and Gram-negative species Nicholas D. Christman 1 and Ankur B. Dalia 1, * 1 Department of Biology, Indiana University, Bloomington, IN *Correspondence to: ankdalia@iu.edu ABSTRACT Competence type IV pili (T4P) are bacterial surface appendages that facilitate DNA uptake during通过自然转化的水平基因转移。这些动态结构从细胞表面积极延伸,与环境中的DNA结合,然后缩回以将结合的DNA进口到细胞中。能力T4P在不同的革兰氏阴性(DIDERS)和革兰氏阳性(单胚层)细菌中发现。虽然DIDERM能力T4P的DNA结合机制已成为强化研究的最近重点,但对单胚层能力T4P的DNA结合知之甚少。在这里,我们使用肺炎链球菌作为模型系统来解决此问题。能力T4P可能通过称为次要PILIN的尖端相关的蛋白质复合物与DNA结合,最近的工作突出了单胚层和DIDERM能力T4P之间的高度结构保护。在diderms中,一个次要的pilin fimt中带正电荷的残基对于DNA结合至关重要。我们表明,尽管这些残基在comgd中保存下来,但它们的单胚层同源物,但它们仅在DNA吸收中起较小的作用以进行自然转化。相反,我们发现邻近的小pilin comgf(单胚层的PILW同源物)中有两孔充电的残基在自然转化的DNA吸收中起主要作用。在diderm和单胚层中,一个此外,我们发现这些残基在其他单死机中是保守的,但不是diderms。在一起,这些结果表明,DNA结合的分子基础在单胚层和DIDERS能力T4P中独立发散或演变。作者摘要多种细菌使用称为IV型pili型能力(T4P)的细胞外结构,从其环境中吸收DNA。T4P对DNA的摄取是自然转化的第一步,这是一种水平基因转移模式,有助于抗生素抗性和毒力性状在各种临床上相关的革兰氏阴性(DIDERM)和革兰氏阳性(革兰氏阳性(单一型)细菌种类物种中的传播。虽然能力T4P在DIDERMS中的DNA结合的机理一直是最近研究的领域,但对单胚层能力T4P如何结合DNA的了解相对较少。在这里,我们探讨了单胚层能力T4P如何使用肺炎链球菌作为模型系统结合DNA。我们的结果表明,虽然单胚层T4P和DIDERS T4P可能具有保守的结构特征,但每个系统的DNA结合机制都是不同的。引言自然转化(NT;也称为遗传转化或自然能力)是多种细菌和古细菌中水平基因转移的广泛保守机制[1]。在此过程中,细胞从环境中占用自由DNA,通过同源重组将其整合到其基因组中。NT的第一步是细胞外DNA的吸收,这是由称为能力T4P的动态表面附属物促进的。能力T4P积极延伸到细胞外环境,与游离DNA结合,然后缩回以促进DNA的摄取,如Diderm Vibrio cholerae [2]和单肽S.肺炎[3]中所示。由细胞质ATPase Motor提供动力的跨膜分子机支持了Pili的主动延伸和缩回[4-6]。通过这种活性,T4P的能力促进了双链DNA在DIDERMS中的prode骨中的吸收,或单胚层中细胞壁和细胞质膜之间的空间(即“革兰氏阳性的periplasm” [7])。这种DNA的弯曲被ComeA结合,ComeA是一种周围(DIDERS)或膜上的(单胚层)DNA结合蛋白,该蛋白充当分子棘轮,以进一步驱动DNA摄取[8-10]。
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海报 ID 标题 口头报告轨道 作者 组织(第一作者) 国家 1252 光电子气溶胶喷射印刷封装:线形态研究 先进的光电子学和 MEMS 封装 Siah, Kok Siong (1); Basu, Robin (2); Distler, Andreas (2); Häußler, Felix (1); Franke, Jörg (1); Brabec, Christoph J. (2,3,4); Egelhaaf, Hans-Joachim (2,3,4) 埃尔朗根-纽伦堡弗里德里希-亚历山大大学 德国 1341 量子级联激光器与中红外光子集成电路集成用于各种传感应用 先进的光电子学和 MEMS 封装 Kannojia, Harindra Kumar (1); Zhai, Tingting (1); Maulini, Richard (2); Gachet, David (2); Kuyken, Bart (1); Van Steenberge, Geert (1) Imec BE 1328 使用 SnAg 焊料在光子集成电路上进行 III-V 激光二极管倒装芯片键合 先进的光电子学和 MEMS 封装 Chi, Ting Ta (1); Ser Choong, Chong (1); Lee, Wen (1); Yuan, Xiaojun (2) 新加坡微电子研究所(IME) SG 1154 MEMS 腔体封装的芯片粘接材料选择 先进的光电子学和 MEMS 封装 Shaw, Mark; Simoncini, Daniele; Duca, Roseanne; Falorni, Luca; Carulli, Paola; Fedeli, Patrick; Brignoli, Davide STMicroelectronics IT 1262 使用高分辨率感光聚合物进行 500nm RDL 的双大马士革工艺 先进封装 1 Gerets, Carine Helena; Pinho, Nelson; Tseng, Wen Hung; Paulus, Tinneke; Labyedh, Nouha; Beyer, Gerald; Miller, Andy; Beyne, Eric Imec BE 1342 基于 ECC 的助焊剂清洁监控以提高先进封装产品的可靠性 先进封装 1 Wang, Yusheng; Huang, Baron; Lin, Wen-Yi; Zou, Zhihua; Kuo, Chien-Li TSMC TW 1256 先进封装中的助焊剂清洗:关键工艺考虑因素和解决方案 先进封装 1 Parthasarathy, Ravi ZESTRON Americas US 1357 根据 ICP 溅射蚀刻条件和关键设计尺寸调查 UBM/RDL 接触电阻 先进封装 2 Carazzetti, Patrik (1); Drechsel, Carl (1); Haertl, Nico (1); Weichart, Jürgen (1); Viehweger, Kay (2); Strolz, Ewald (1) Evatec AG CH 1389 使用薄蚀刻停止层在法布里-珀罗滤波器中实现精确的波长控制 先进封装 2 Babu Shylaja, Tina; Tack, Klaas; Sabuncuoglu Tezcan, Deniz Imec BE 1348 模块中亚太赫兹天线的封装技术 先进封装 2 Murayama, Kei (1); Taneda, Hiroshi (1); Tsukahara, Makoto (1); Hasaba, Ryosuke (2); Morishita, Yohei (2); Nakabayashi, Yoko (1) Shinko Electric Industries Co.,Ltd. JP 1230 55nm 代码低 k 晶圆组装和制造技术的多光束激光开槽工艺和芯片强度研究 1 Xia, Mingyue; Wang, Jianhong; Xu, Sean; Li, guangming; Liu, haiyan; Zhu, lingyan NXP Semiconductor CN 1215 批量微波等离子体对超宽引线框架尺寸的优化研究,以实现与分层组装和制造技术的稳健结果 1 LOO, Shei Meng; LEONE, Federico; CAICEDO,Nohora STMicroelectronics SG 1351 解决超薄芯片封装制造中的关键问题 组装与制造技术 1 Talledo, Jefferson; Tabiera, Michael; Graycochea Jr, Edwin STMicroelectronics PH 1175 系统级封装模块组装与制造技术中的成型空洞问题调查 2 Yang, Chaoran; Tang, Oscar; Song, Fubin Amazon CN 1172 利用倒装芯片铜柱高密度互连组装与制造技术增强 Cu OSP 表面粘性助焊剂的 DI 水清洁性 2 Lip Huei, Yam; Risson Olakkankal, Edrina; Balasubramanian, Senthil KUmar Heraeous SG 1326 通过组件设计改进薄膜辅助成型性能 装配和制造技术 2 Law, Hong Cheng;Lim, Fui Yee;Low, Boon Yew;Pang, Zi Jian;Bharatham, Logendran;Yusof, Azaharudin;Ismail, Rima Syafida;Lim, Denyse Shyn Yee;Lim, Shea Hu NXP 半导体 MY 1224 对不同引线框架材料进行等离子清洗以研究超大引线框架上氧化与分层的影响 装配和制造技术 2 CHUA, Yeechong; CHUA, Boowei; LEONE, Federico; LOO, Shei Meng STMicroelectronics SG 1185 在低温系统中为射频传输线寻找最佳材料选择 装配和制造技术 3 Lau, Daniel (1); Bhaskar, Vignesh Shanmugam (1); Ng, Yong Chyn (1); Zhang, Yiyu (2); Goh, Kuan Eng Johnson (2); Li, Hongyu (1) 新加坡微电子研究院 (IME) SG 1346 探索直接激光回流技术以在半导体基板上形成稳定可靠的焊料凸点界面 装配与制造技术 3 Fisch, Anne; PacTech US 1366 通过改进工艺和工具设计消除陶瓷 MEMS 封装上的受损引线键合 装配与制造技术 3 Bamba, Behra Esposo;Tabiera, Michael Tabiera;Gomez, Frederick Ray Gomez STMicroelectronics PH 1255 原位表征等离子体种类以优化和改进工艺 装配与制造技术 3 Capellaro, Laurence; STMicroelectronics PH 1234 高度集成的 AiP 设计,适用于 6G 应用 汽车和功率器件封装 WU, PO-I;Kuo, Hung-Chun;Jhong, Ming-Fong;Wang, Chen-Chao 日月光集团 TW 1298 用于自动导引车的高分辨率 MIMO 雷达模块开发的封装协同设计 汽车和功率器件封装 Tschoban, Christian;Pötter, Harald Fraunhofer IZM DE 1306 下一代汽车微控制器倒装芯片铜柱技术的稳健性方法 汽车和功率器件封装 Tan, Aik Chong;Bauer, Robert;Rau, Ingolf;Doering, Inga 英飞凌科技 SG 1387 在烧结工艺改进下商业和定制铜烧结膏的键合强度比较 汽车和功率器件封装 Meyer, Meyer;Gierth, Karl Felix Wendelin;Meier, Karsten;Bock,德累斯顿卡尔海因茨工业大学 DE 1380 用于红外激光脱粘的高温稳定临时粘接粘合剂使薄晶圆的新型工艺集成成为可能 键合与脱粘工艺 Koch, Matthew (1); kumar, Amit (1); Brandl, Elisabeth (2); Bravin, Julian (2); Urban, Peter (2); Geier, Roman (3); Siegert, Joerg (3) Brewer Science UK 1250 临时键合晶圆的分层:综合研究 键合与脱粘工艺 JEDIDI, NADER Imec BE 1192 芯片堆叠应用中临时键合和脱粘工艺相关的表面质量挑战 键合与脱粘工艺 Chaki Roy, Sangita; Vasarla, Nagendra Sekhar; Venkataraman, Nandini 微电子研究所(IME),新加坡 SG 1108 针对 UCIe 和 BOW 应用的 2.5D 基板技术上密集线通道的信号完整性分析 电气模拟和特性 1 Rotaru, Mihai Dragos 微电子研究所(IME),新加坡 SG 1161 用于无线电信应用的自互补缝隙地下结构覆盖层的设计 电气模拟和特性 1 Rong, Zihao (1); Yi, Yuantong (1); Tateishi, Eiichi (2); Kumagae, Takaya (2); Kai, Nobuhiro (2); Yamaguchi, Tatsuya (3); Kanaya, Haruichi (1) 九州大学 JP 1167 基于近场扫描的芯片等效电磁辐射模型,用于陶瓷 SiP 中的 EMI 分析 电气模拟和特性 1 liang, yaya;杜平安 电子科技大学 CN 1280 三维集成系统中高速互连传输结构设计与优化 电气仿真与特性分析 2 李存龙;李振松;苗敏 北京信息科技大学 CN 1355 基于通用 Chiplet 互连快递(UCIe)的 2.5D 先进封装互连信号完整性仿真与分析 电气仿真与特性分析 2 范宇轩(1,2);甘汉臣(1,2);周云燕(1);雷波(1);宋刚(1);王启东(1) 中国科学院微电子研究所 CN 1109 具有 5 层正面铜金属和 2 层背面铜 RDL 的硅通孔中介层(TSI)电气特性与可靠性研究 电气仿真与特性分析 2 曾雅菁;刘丹尼尔;蔡鸿明;李宏宇 新加坡微电子研究所 (IME) SG 1241 利用多层基板集成同轴线开发紧凑型宽带巴伦 电气仿真和特性 2 Sato, Takumi (1); Kanaya, Haruichi (1); Ichirizuka, Takashi (2); Yamada, Shusaku (2) 九州大学 JP 1200 一种降低 IC 封装中高速通道阻抗不连续性的新方法 电气仿真和特性 3 Luo, Jiahu (1); zheng, Boyu (1,2); Song, Xiaoyuan (1); Jiang, Bo (1); Lee, SooLim (1) 长沙安木泉智能科技有限公司Ltd CN 1201 去耦电容位置对 fcBGA 封装中 PDN 阻抗的影响 电气仿真与特性 3 宋小元 (1); 郑博宇 (1,2); 罗家虎 (1); 魏平 (1); 刘磊 (1) 长沙安木泉智能科技有限公司 CN 1162 有机基板中 Tera-Hz 电气特性探讨 电气仿真与特性 3 林和川; 赖家柱; 施天妮; 康安乐; 王宇珀 SPIL TW 1202 采用嵌入式硅扇出型 (eSiFO®) 技术的双 MOSFET 开关电路集成模块 嵌入式与扇出型封装 强文斌; 张先鸥; 孙祥宇; 邓帅荣;杨振中 中国工程物理研究院 中国成都 CN 1131 FOStrip® 技术 - 一种用于基板封装上条带级扇出的低成本解决方案 嵌入式和扇出型封装 林义雄 (1); 施孟凯 (2); 丁博瑞 (2); 楼百耀 (1); 倪汤姆 (1) 科雷半导体有限公司,鸿海科技集团 TW 1268 扇出型面板级封装(FOPLP)中铝焊盘的腐蚀行为 嵌入式和扇出型封装 余延燮 (1); 朴世允 (2); 金美阳 (2); 文泰浩 (1) 三星电子 KR 1253 全加成制造灯泡的可行性和性能 新兴技术 Ankenbrand, Markus; Piechulek, Niklas; Franke, Jörg Friedrich-Alexander-Universität Erlangen-Nürnberg DE 1377 航空用激光直接结构化机电一体化设备的创新和挑战:材料开发、组件设计和新兴技术 Piechulek, Niklas;安肯布兰德,马库斯;徐雷;弗罗利希,扬;阮香江; Franke, Jörg Lehrstuhl für Fertigungsautomatisierung und Produktionssyste DE 1128 使用深度神经网络新兴技术从芯片到自由空间耦合生成光束轮廓 Lim, Yu Dian (1); Tan, Chuan Seng (1,2) 南洋理工大学 SG 1195 SiCN 混合键合应用的 CMP 后清洁优化 混合和熔融键合 1 JI, Hongmiao (1);LEE, Chaeeun (1);TEE, Soon Fong (1);TEO, Wei Jie (1);TAN, Gee Oon (1);Venkataraman, Nandini (1);Lianto, Prayudi (2);TAN, Avery (2);LIE, Jo新加坡微电子研究所 (IME) SG 1187 混合键合中模糊对准标记的改进边缘检测算法 混合和熔融键合 1 Sugiura, Takamasa (1);Nagatomo, Daisuke (1);Kajinami, Masato (1);Ueyama, Shinji (1);Tokumiya, Takahiro (1);Oh, Seungyeol (2);Ahn, Sungmin (2);Choi, Euisun ( 三星日本公司 JP 1313 芯片到晶圆混合和熔融键合以实现先进封装应用混合和熔融键合 1 Papanu, James Stephen (2,5);Ryan, Kevin (2);Noda, Takahiro (1);Mine, Yousuke (1);Ishii, Takayuki (1);Michinaka, Satoshi (1);Yonezawa, Syuhei (4);Aoyagi,Chika Tokyo Electron Limited 美国 1283 细间距混合键合中结构参数和错位对键合强度影响的有限元分析 混合与熔融键合 1 石敬宇(1); 谭林(1); 胡杨(1); 蔡健(1,2); 王倩(1,2); 石敬宇(1) 清华大学 CN 1211 下一代热压键合设备 混合与熔融键合 2 Abdilla, Jonathan Besi NL 1316 聚对二甲苯作为晶圆和芯片键合以及晶圆级封装应用的粘合剂 混合与熔融键合 2 Selbmann, Franz (1,2); Kühn, Martin (1,2); Roscher, Frank (1); Wiemer, Maik (1); Kuhn, Harald (1,3); Joseph, Yvonne (2) 弗劳恩霍夫电子纳米系统研究所 ENAS DE 1368 芯片到晶圆混合键合与聚合物钝化混合和熔融键合的工艺开发 2 Xie, Ling 新加坡微电子研究所 (IME) SG 1221 使用经验和数值方法研究焊料凸点和接头间隙高度分布 互连技术 1 Wang, Yifan; Yeo, Alfred; CHAN, Kai Chong JCET SG 1134 焊球合金对板级可靠性的影响 热循环和振动测试增强 互连技术 1 Chen, Fa-Chuan (1); Yu, Kevin (1); Lin, Shih-Chin (1); Chu, Che-Kuan (2); Lin, Tai-Yin (2); Lin, Chien-Min (2) 联发科 TW 1295 SAC305/SnBi 混合焊料界面分析及焊料硬度与剪切力关系比较 互连技术 1 Sung, Minjae (1); Kim, Seahwan (2); Go, Yeonju (3); Jung, Seung-boo (1,2) 成均馆大学 KR 1146 使用夹子作为互连的多设备功率封装组装 互连技术 2 Wai, Leong Ching; Yeo, Yi Xuan; Soh, Jacob Jordan; Tang, Gongyue 微电子研究所 (IME),新加坡 SG 1129 存储器封装上再生金键合线的特性 互连技术 2 Chen, Yi-jing; Zou, Yung-Sheng; Chung, Min-Hua;颜崇良 Micron TW 1126 不同条件下焊料凸块电迁移行为调查 互连技术 2 罗毅基 Owen (1); 范海波 (1); 钟晨超 Nick (1); 石宇宁 (2) Nexperia HK 1168 SnBi 焊料与 ENEPIG 基板关系中 NiSn4 形成的研究 互连技术 2 王毅文; 蔡正廷; 林子仪 淡江大学 TW 1159 用于 3D 晶圆级封装中电感器和平衡不平衡变压器的感光水性碱性显影磁性材料 材料与加工 1 增田诚也; 出井弘彰; 宫田哲史; 大井翔太; Suzuki, Hiroyuki FUJIFILM Corporation JP 1118 新型芯片粘接粘合剂满足汽车 MCU 封装材料和加工的严苛性能、可靠性和成本目标 1 Kang, Jaeik; Hong, Xuan; Zhuo, Qizhuo; Yun, Howard; Shim, Kail; Rathnayake, Lahiru; Surendran, Rejoy; Trichur,Ram Henkel Corporation 美国 1173 通过在铜引线框架上进行无压烧结提高器件性能 材料与加工 1 Danila, Bayaras, Abito; Balasubramanian, Senthil KUmar Heraeous SG 1137 用于功率分立器件的新型无残留高铅焊膏 材料与加工 2 Bai, Jinjin; Li, Yanfang; Liu, Xinfang; Chen, Fen; Liu, Yan 铟泰公司 CN 1220 用于系统级封装(SiP)应用的低助焊剂残留免清洗焊膏 材料与加工 2 Liu, Xinfang; Bai, Jinjin; Chen, Fen; Liu, Yan 铟泰公司(苏州)有限公司 CN 1176 不同熔点焊料的基本性质及键合性质分析 材料与加工 2 Kim, Hui Joong; Lee, Jace; Lee, Seul Gi; Son, Jae Yeol; Won, Jong Min; Park, Ji Won; Kim, Byung Woo; Shin, Jong Jin; Lee, Tae Kyu MKE KR 1124 一种用于表征 WLCSP 封装材料和加工中 PBO 附着力的新方法 2 CHEN, Yong; CHANG, Jason; GANI, David; LUAN, Jing-en; CATTARINUZZI, Emanuele STMicroelectronics SG 1247 磁控溅射制备银及银铟固溶体薄膜微结构与力学性能研究 材料与工艺 3 赵爽 (1);林鹏荣 (2,3);张东林 (1);王泰宇 (1);刘思晨 (1);谢晓晨 (2);徐诗萌 (2);曲志波 (2);王勇 (2);赵秀 北京理工大学 CN 1206 多功能感光聚合物在与纳米晶 Cu 材料低温混合键合中的应用及工艺 3 陈忠安 (1);李嘉欣 (1);李欧翔 (2);邱伟兰 (2);张祥鸿 (2); Yu, Shih-cheng (2) Brewer Science TW 1308 闪光灯退火(FLA)方法对热处理 Cu 薄膜和低介电树脂膜的适用性材料与加工 3 NOH, JOO-HYONG (1,2); Yi, DONG-JAE (1,2); SHISHIDO, YUI (1,2); PARK, JONG-YOUNG (2,3); HONMA, HIDEO (2) 关东学院大学 JP 1286 使用无有机溶胶的 Ag 纳米多孔片在 145°C 和 175°C 下对 Au 成品 Cu 基材进行低温 Ag 烧结和驱动力材料与加工 3 Kim, YehRi (1,2); Yu, Hayoung (1); Noh, Seungjun (3); Kim, Dongjin (1) 韩国工业技术研究院 KR 1279 用于 MEMS 应用的 AlN/Mo/AlN/多晶硅堆栈中的应力补偿效应 材料与加工 4 sharma, jaibir; Qing Xin, Zhang 新加坡微电子研究所(IME) SG 1254 热循环下 RDL 聚酰亚胺与底部填充材料之间相互作用对倒装芯片互连可靠性的影响研究 材料与加工 4 Chang, Hongda (1); Soriano, Catherine (1); Chen, WenHsuan (1); Yang, HungChun (2); Lai, WeiHong (2); Chaware, Raghunandan (1) 莱迪思半导体公司 TW 1281 使用低 α 粒子焊料消除沟槽 MOSFET 中的参数偏移 材料与加工 4 Gajda, Mark A. (1); de Leon, Charles Daniel T. (2); A/P Ramalingam, Vegneswary (3);桑蒂坎,Haima (3) Nexperia UK 1218 Sn–5Ag 无铅焊料中 Bi 含量对 IMC 机械性能和形态的影响 材料与加工 4 Liu, Kuan Cheng; Li, Chuan Shun; Teng, Wen Yu; Hung, Liang Yih; Wang, Yu-Po SPIL TW 1198 流速和电流密度对通孔铜沉积的影响 材料与加工 5 Zeng, Barry; Ye, Rick; Pai, Yu-Cheng; Wang, Yu-Po SPIL TW 1156 用于 MEMS 器件的可布线可润湿侧翼 材料与加工 5 Shaw, Mark; Gritti, Alex; Ratti, Andrea; Wong, Kim-Sing; Loh, Hung-meng; Casati, Alessandra; Antilano Jr, Ernesto; Soreda, Alvin STMicroelectronics IT 1294 ENEPIG 中 Pd 层厚度对焊点形貌和可靠性的影响 材料与加工 5 Yoon, JaeJun (1); Kim, SeaHwan (1); Jin, HyeRin (1); Lee, Minji (1); Shin, Taek Soo (1,2); Jung, Seung-Boo (1) 成均馆大学 KR 1228 无翘曲扇出型封装 材料与加工 6 Schindler, Markus; Ringelstetter, Severin; Bues, Martin; Kreul, Kilian; Chian, Lim See; Königer, Tobias Delo DE 1179 用于先进 BGA 组装的创新无助焊剂焊球附着技术(FLAT) 材料与加工 6 Kim, Dongjin (1); Han, Seonghui (1,3); Han, Sang Eun (1,4); Choi, Dong-Gyu (1,5); Chung, Kwansik (2); Kim, Eunchae (2); Yoo, Sehoon (1) 韩国工业技术研究院 KR 1375 用于电子封装材料与加工的超薄 ta-C 气密封接 6 Phua, Eric Jian Rong; Lim, Song Kiat Jacob; Tan, Yik Kai; Shi, Xu 纳米膜技术 SG 1246 用于高性能汽车 BGA 封装材料与加工的掺杂 SAC 焊球合金比较 6 Capellaro, Laurence (1); STMicroelectronics FR 1324 铜平衡和晶圆级翘曲控制以及封装应力和板级温度循环焊点可靠性的影响 机械模拟与特性 1 Mandal, Rathin 微电子研究所(IME),新加坡 SG 1340 扇出型封装翘曲的材料敏感性 - 模拟与实验验证 机械模拟与特性 1 Tippabhotla, Sasi Kumar; Soon Wee, David Ho 新加坡微电子研究所 (IME) SG 1147 用于汽车存储器应用的 SACQ 焊料可靠性评估的高级预测模型 机械模拟与特性 1 Pan, Ling (1); Che, Faxing (1); Ong, Yeow Chon (1); Yu, Wei (1); Ng, Hong wan (1); Kumar, Gokul (2); Fan, Richard (3); Hsu, Pony (3) 美光半导体亚洲 SG 1245 扇出型有机 RDL 结构的低翘曲解决方案 机械模拟与特性 2 Liu, Wei Wei; Sun, Jalex; Hsu, Zander; Hsu, Brian; Wu, Jeff; Chen, YH; Chen, Jimmy; Weng, Berdy; Yeh, CK 日月光集团 TW 1205 结构参数对采用铟热界面材料的 fcBGA 封装翘曲的影响 机械模拟与特性 2 Liu, Zhen (1); Dai, Qiaobo (1);聂林杰 (1);徐兰英 (1);滕晓东 (1);郑,博宇 (1,2) 长沙安木泉智能科技有限公司 CN 1141 三点弯曲试验条件下封装翘曲对封装强度评估的影响 机械模拟与表征 2 车发星 (1); Ong, Yeow Chon (1); 余伟 (1); 潘玲 (1); Ng, Hong Wan (1); Kumar, Gokul (2); Takiar, Hem (2) 美光半导体亚洲 SG 1181 回流焊过程中 PCB 基板影响下微导孔热机械疲劳寿命评估 机械模拟与表征 2 Syed, Mujahid Abbas; 余强 横滨国立大学 JP 1121 单调四点弯曲试验设计的分析 K 因子模型 机械模拟与表征 3 Kelly, Brian (1); Tarnovetchi, Marius (2); Newman, Keith (1) 高级微设备公司 美国 1135 增强带有嵌入式细间距互连芯片的大型先进封装的机械稳健性和完整性 机械仿真与表征 3 Ji, Lin; Chai, Tai Chong 微电子研究所 (IME),新加坡 SG 1116 通过实验和模拟研究基板铜垫裂纹 机械仿真与表征 3 Yu, Wei; Che, Fa Xing; Ong, Yeow Chon; Pan, Ling; Cheong, Wee Gee 美光半导体亚洲 SG 1130 不同晶圆预薄厚度的隐形切割工艺预测数值建模 机械模拟与表征 3 Lim, Dao Kun (1,2);Vempaty, Venkata Rama Satya Pradeep (2);Shah, Ankur Harish (2);Sim, Wen How (2);Singh, Harjashan Veer (2);Lim, Yeow Kheng (1) 美光半导体亚洲 SG 1235 扇出型基板上芯片平台的细线 RDL 结构分析 机械模拟与表征 4 Lai, Chung-Hung 日月光集团 TW 1197 极高应变率下板级封装结构中互连的动态响应 机械模拟与表征 4 Long, Xu (1); Hu, Yuntao (2); Shi, Hongbin (3);苏玉泰 (2) 西北工业大学 CN 1393 用于电动汽车应用的氮化硼基功率模块基板:一种使用有限元分析机械模拟和表征的设计优化方法 4 Zainudin,Muhammad Ashraf; onsemi MY 1345 面向 AI 辅助热管理策略设计 AI 应用的封装设计和特性 REFAI-AHMED, GAMAL (1);Islam, MD Malekkul (1);Shahsavan, Martia (1);Do, Hoa (1);Kabana, Hardik (2);Davenport, John L (2);Kocheemoolayil, Joseph G (2);HAdvanced Micro Devices US 1320 用于深度学习硬件加速器的双 2 芯片堆叠模块的工艺开发 AI 应用的封装设计和特性 Ser Choong Chong 微电子研究所 (IME),新加坡 SG 1398 用于表征 AI 芯片热性能的热测试载体 AI 应用的封装设计和特性 Shangguan, Dongkai (1); Yang, Cheng (2); Hang,Yin (3) 美国热工程协会 US 1164 使用 B 型扫描声学显微镜 (B-SAM) 对高性能计算设备的 TIM 中的空洞进行无损分析 质量、可靠性和故障分析 1 Song, Mei Hui; Tang, Wai Kit; Tan, Li Yi 超威半导体 SG 1361 通过环上的纳米压痕评估芯片级断裂韧性的方法 质量、可靠性和故障分析 1 Zhu, Xintong; Rajoo, Ranjan; Nistala, Ramesh Rao; Mo, Zhi Qiang 格芯 新加坡 SG 1140 移动带电物体在不同类型电子设备盒中产生的静电感应电压 质量、可靠性和故障分析 1 Ichikawa, Norimitsu 日本工学院大学 JP 1350 使用 NanoSIMS 对半导体器件的掺杂剂和杂质进行高空间分辨率成像 质量、可靠性和故障分析 1 Sameshima, Junichiro; Nakata, Yoshihiko; Akahori, Seishi; Hashimoto, Hideki; Yoshikawa, Masanobu 东丽研究中心,公司 JP 1184 铌上铝线键合的优化用于低温封装质量、可靠性和故障分析 2 Norhanani Jaafar 微电子研究所 (IME),新加坡 SG 1182 基于超声波兰姆波静态分量的层压芯片连接中的原位微裂纹定位和成像质量、可靠性和故障分析 2 Long, Xu (1); Li, Yaxi (2); Wang, Jishuo (3); Zhao, Liang (3);袁伟锋 (3) 西北工业大学 CN 1122 采用 OSP/Cu 焊盘表面处理的 FCCSP 封装的 BLR 跌落试验研究 质量、可靠性和故障分析 2 刘金梅 NXP CN 1236 材料成分对铜铝线键合可靠性的影响 质量、可靠性和故障分析 2 Caglio, Carolina (1); STMicroelectronics IT 1362 通过 HALT 测试建立多层陶瓷电容器的寿命建模策略 质量、可靠性和故障分析 3 杨永波; 雍埃里克; 邱文 Advanced Micro Devices SG 1407 使用实验和数值方法研究铜柱凸块的电迁移 质量、可靠性和故障分析 3 赵发成; 朱丽萍; Yeo, Alfred JCET SG 1370 使用 NIR 无模型 TSOM 进行嵌入式缺陷深度估计 质量、可靠性和故障分析 3 Lee, Jun Ho (1); Joo, Ji Yong (1); Lee, Jun Sung (1); Kim, Se Jeong (1); Kwon, Oh-Hyung (2) 公州国立大学KR 1207 自适应焊盘堆栈使嵌入式扇出型中介层中的桥接芯片位置公差提高了数量级 硅中介层和加工 Sandstrom, Clifford Paul (1);Talain, John Erickson Apelado (1);San Jose, Benedict Arcena (1);Fang, Jen-Kuang (2);Yang, Ping-Feng (2);Huang, Sheng-Feng (2);Sh Deca Technologies US 1119 硅中介层用于毫米波 Ka 和 V 波段卫星应用的异构集成平台 硅中介层和加工 Sun, Mei;Ong, Javier Jun Wei;Wu, Jia Qi;Lim, Sharon Pei Siang;Ye, Yong Liang;Umralkar, Ratan Bhimrao;Lau,Boon Long;Lim, Teck Guan;Chai, Kevin Tshun Chua新加坡微电子研究所 (IME) SG 1138 大型 RDL 中介层封装的开发:RDL 优先 FOWLP 和 2.5D FO 中介层硅中介层和加工 Ho, Soon Wee David; Soh, Siew Boon; Lau, Boon Long; Hsiao, Hsiang-Yao; Lim, Pei Siang; Rao, Vempati Srinivasa 新加坡微电子研究所 (IME) SG 1209 硅集成多端深沟槽电容器技术的建模和制造硅中介层和加工 Lin, Weida (1); Song, Changming (2); Shao, Ziyuan (3); Ma, Haiyan (2); Cai, Jian (2,4); Gao, Yuan (1);王倩 (2,4) 清华大学 CN 1309 探索半导体缺陷检测的扩散模型 智能制造、设备和工具协同设计 陆康康;蔡礼乐;徐迅;帕瓦拉曼普里特;王杰;张理查德;符传胜 新加坡科技研究局信息通信研究所 (I2R) SG 1287 用于 HBM 3D 视觉检查的端到端快速分割框架 智能制造、设备和工具协同设计 王杰 (1);张理查德 (1);林明强 (2);张斯忠 (2);杨旭蕾 (1); Pahwa, Ramanpreet Singh (1) 新加坡科技研究局 (A*STAR) 信息通信研究所 (I2R) SG 1327 半导体芯片和封装协同设计和组装,用于倒装芯片和引线键合 BGA 封装智能制造、设备和工具协同设计 rongrong.jiang@nxp.com, trent.uehling@nxp.com, bihua.he@nxp.com, tingdong.zhou@nxp.com, meijiang.song@nxp.com, azham.mohdsukemi@nxp.com, taki.fan NXP CN 1113 评估带盖高性能微处理器上铟热界面材料 (TIM) 横截面方法热界面材料 Neo, Shao Ming; Song, Mei Hui; Tan, Kevin Bo Lin; Lee, Xi Wen; Oh, Zi Ying; Foo, Fang Jie 美国超微半导体公司 SG 1125 铟银合金热界面材料可靠性和覆盖率下降机制分析 热界面材料 Park, Donghyeon 安靠科技 韩国 KR 1225 金属 TIM 热界面材料的免清洗助焊剂选择 Li, Dai-Fei; Teng, Wen-Yu; Hung, Liang-Yih; Kang, Andrew; Wang, Yu-Po SPIL TW 1136 倒装芯片 GaN-on-SiC HEMT 的热设计和分析 热管理和特性 1 Feng, Huicheng; Zhou, Lin; Tang, Gongyue; Wai, Eva Leong Ching; Lim, Teck Guan 新加坡微电子研究所 (IME) SG 1163 用于高性能计算的硅基微流体冷却器封装集成 热管理和特性 1 Han, Yong; Tang, Gongyue; Lau, Boon Long 微电子研究所 (IME),新加坡 SG 1103 电源管理 IC 器件效率和热研究 热管理和特性 1 Ge, Garry; Xu, LQ; Zhang, Bruce; Zeng, Dennis NXP 半导体 CN 1274 实时评估重新分布层 (RDL) 有效热导率分布 热管理和特性 2 Liu, Jun; Li, Yangfan; Cao, Shuai; Sridhar, N.新加坡科技研究局高性能计算研究所 SG 1282 POD-ANN 热建模框架,用于 2.5D 芯片设计的快速热分析 热管理和特性 2 李扬帆;刘军;曹帅;Sridhar, Narayanaswamy 新加坡科技研究局高性能计算研究所 SG 1171 接触特性对无油脂均匀接触表面热接触阻的影响 热管理和特性 2 Aoki, Hirotoshi (1); Fushinobu, Kazuyoshi (2); Tomimura, Toshio (3) KOA corporation JP 1259 从封装热测量到材料特性:远程荧光粉老化测试 热管理和特性 3 Hegedüs, János; Takács, Dalma; Hantos, Gusztáv; Poppe, András 布达佩斯技术与经济大学 HU 1343 使用强化学习优化热感知异构 2.5D 系统中的芯片放置 热管理和特性 3 Kundu, Partha Pratim (1); Furen, Zhuang (1); Sezin, Ata Kircali (1); Yubo, Hou (1); Dutta, Rahul (2); James, Ashish (1) 新加坡科技城信息通信研究所 (I2R) SG 1354 使用贝叶斯优化进行高效的热感知平面规划:一种高效模拟方法 热管理和特性 3 Zhuang, Furen (1); Pratim Kundu, Partha (1); Kircali Sezin, Ata (1); Hou, Yubo (1); Dutta, Rahul (2); James, Ashish (1) 新加坡科技研究局 (A*STAR) 信息通信研究所 (I2R) SG 1258 大面积覆盖波长转换荧光粉的 LED 封装的热特性 热管理和特性 4 Hantos, Gusztáv;Hegedüs, János;Lipák, Gyula;Németh, Márton;Poppe, András 布达佩斯理工经济大学 HU 1199 多芯片功率 µModules 热性能增强研究 热管理和特性 4 Dai, Qiaobo (1); Liu, Zhen (1); Liao, Linjie (2); Zheng, Boyu (1,3); Liu, Zheng (1); Yuan, Sheng (1) 长沙安木泉智能科技有限公司 CN 1269 用于电源逆变器应用中直接冷却的大面积银微孔连接的耐热可靠性 热管理和特性 4 Yu, HaYoung;Kim, Seoah; Kim, Dongjin 韩国工业技术研究院 KR 1289 基于 PCM 的散热器的数值优化用于高功率密度电子产品热管理 热管理和特性 4 HU, RAN (1,2); Du, Jianyu (2); Shi, Shangyang (1,2); Lv, Peijue (1,2); Cao, Huiquan (2); Jin, Yufeng (1,2); Zhang, Chi (2,3,4); Wang, Wei (2,3,4) 北京大学 CN 1344 通过机器学习 TSV 和晶圆级封装加速细间距晶圆间混合键合中的套刻误差优化 1 James, Ashish (1); Venkataraman, Nandini (2); Miao, Ji Hong (2); Singh, Navab (2);李晓莉 (1) 新加坡微电子研究所 (IME) SG 1373 300mm 晶圆级 TSV 工艺中钌种子层直接镀铜研究 TSV 和晶圆级封装 1 Tran,Van Nhat Anh;Venkataraman, Nandini;Tseng, Ya-Ching;陈智贤 新加坡微电子研究所 (IME) SG 1227 利用小型数据库上的集成学习预测晶圆级封装的可靠性寿命 TSV 和晶圆级封装 1 苏清华 (1);袁卡德摩斯 (2);蒋国宁 (1) 国立清华大学 TW 1396 数字光刻在利用新型 PI 电介质进行 UHD FoWLP 图案化中的优势 TSV 和晶圆级封装 2 Varga, Ksenija EV Group AT 1193 芯片到晶圆和晶圆到晶圆密度估计和设计规则物理验证。TSV 和晶圆级封装 2 Mani, Raju;Dutta, Rahul;Cheemalamarri, Hemanth Kumar; Vasarla Nagendra,Sekhar 微电子研究所 (IME),新加坡 SG 1374 面板级精细图案化 RDL 中介层封装 TSV 和晶圆级封装 2 Park, Jieun;Kim, Dahee;Choi, Jaeyoung;Park, Wooseok;Choi, Younchan;Lee, Jeongho;Choi, Wonkyoung 三星电子 KR 1180 针对透模中介层 (TMI) 加工 TSV 和晶圆级封装的高深宽比铜柱制造优化 4 Peh, Cun Jue;Lau, Boon Long;Chia, Lai Yee;Ho, Soon Wee。新加坡微电子研究所(IME) SG 1405 2.5D/3D 封装的拆分工艺集成 TSV 和晶圆级封装 4 Li, Hongyu (1);Vasarla Nagendra, Sekhar (1);Schwarzenbach, Walter (2);Besnard, Guillaume (2);Lim, Sharon (1);BEN MOHAMED, Nadia (2);Nguyen, Bich-Yen (2) 新加坡微电子研究所(IME) SG 1369 通过晶圆芯片工艺中的键合序列优化实现生产率最大化 TSV 和晶圆级封装 4 Kim, Junsang (1);Yun, Hyeonjun (1);Kang, Mingu (1);Cho, Kwanghyun (1);Cho, Hansung (1);Kim, Yunha (1);Moon, Bumki (1);Rhee, Minwoo (1);Jung, Youngseok (2 三星电子 KR 1412 综合使用不同分割方法的玻璃芯片强度比较晶圆加工和特性 1 WEI, FRANK DISCO CORPORATION 美国 1388 用于微流体和 CMOS 电子扇出型 200mm 重组晶圆晶圆加工和特性 1 Wei, Wei; Zhang, Lei; Tobback, Bert; Visker, Jakob; Stakenborg, Tim; Karve, Gauri; Tezcan, Deniz Sabuncuoglu Imec BE 1332 基于衍射的对准传感器和标记设计优化,以实现与玻璃晶圆粘合的 50 微米厚 Si 晶圆的精细覆盖精度晶圆加工和特性 1 Tamaddon, Amir-Hossein (1);Jadli, Imene (1);Suhard, Samuel (1);Jourdain, Anne (1);Hsu, Alex (2);Schaap, Charles (2);De Poortere, Etienne (2);Miller, Andy (1);Ke Imec BE 1352 用于 200mm 晶圆上传感器应用的 CMOS 兼容 2D 材料集成晶圆加工和特性 2 Yoo, Tae Jin; Tezcan, Deniz Sabuncuoglu Imec BE 1384 在 200mm CMOS 图像传感器晶圆上制造高光谱组件晶圆加工和特性 2 Babu Shylaja, Tina;柳泰金;吉伦,伯特;塔克,克拉斯;萨本库奥卢·特兹坎,Deniz Imec BE 1367 在基于芯片的异构集成中,在芯片尺寸和封装参数之间进行权衡以实现最佳性价比。晶圆加工和特性 2 Zhai, Max (1); Sahoo, Krutikesh (2); Iyer, Subramanian (2) UCLA US 1390 表征键合界面处的含碳薄膜以用于背面供电网络 晶圆加工和特性 2 Kitagawa, Hayato; Sato, Ryosuke; Fuse, Junya; Yoshihara, Yuki; Inoue, Fumihiro 横滨国立大学 JP 1411 使用正性光刻胶掩模通过光刻步进机对 1µm 关键尺寸硅通孔进行图案化 晶圆加工和特性 3 Sundaram, Arvind (1); Kang, Riley (2); Bhesetti, Chandra Rao (1) 新加坡微电子研究所 (IME) SG 1410 用于多代工厂兼容超导中介层晶圆级处理的铌最后工艺晶圆加工和特性 3 Goh, Simon Chun Kiat;Ng, Yong Chyn;Ong, Javier Jun Wei;Lau, Daniel;Tseng, Ya-Ching;Jaafar, Norhanani;Yoo, Jae Ok;Liu, Liyuan;Teo, Everline Shu Yun;Chua, N 新加坡微电子研究所 (IME) SG 1331 一种使用磁和毛细管辅助自对准的新型 D2W 键合对准方案晶圆加工和特性 3 Choi, Daesan (1); Kim, Sumin (2); Hahn, Seung Ho (1); Moon, Bumki (1); Rhee, Daniel Minwoo (1) 三星电子 KR 1233 高可靠性底部端接封装侧壁电镀的新型湿化学处理 晶圆加工和特性 4 Hovestad, Arjan (1); Basu, Tarun (2) Besi NL 1285 通孔氧化铝通孔的制造:一种使用超声波加工和化学沉积的经济高效的替代方法 晶圆加工和特性 4 Pawar, Karan; Pandey, Harsh; Dixit, Pradeep 印度理工学院孟买分校 IN 1123 fcBGA 与扇出型 SiPlet 封装的电气、热学和机械性能比较 晶圆加工和特性 4 Ouyang, Eric; Ahn, Billy; Han, BJ; Han, Michael; Kang, Chen; Oh, Michael Silicon Box US 1397 用于 5G 毫米波智能手机应用的带可控波束的紧凑型 1x4 天线阵列 无线和天线封装设计 Hsieh, Sheng-Chi ASE GROUP TW 1139 开发 2.4GHz 频段 L 形圆极化缝隙天线 无线和天线封装设计 Suehiro, Kazuki; Nakashima, Kenta; Kanaya, Haruichi 九州大学 JP 1203 通过多级 Cockcroft-Walton 电路开发远程无线能量收集电路 无线和天线封装设计 Tagawa, Nobuya; Hosaka, Ryoma; Tanaka, Hayato; Goodwill, Kumar; Kanaya, Haruichi 九州大学 JP 1261 Chiplet 时代的成本性能协同优化 AI 应用的封装设计和特性 Graening, Alexander Phillip (1);Patel, Darayus Adil (2);Sisto, Giuliano (2);Lenormand, Erwan (2);Perumkunnil, Manu (2);Pantano, Nicolas (2);Kumar, Vinay BY (2);GUCLA US(2);GUCLA美国(2);GUCLA美国(2);GUCLA美国(2);GUCLA美国(2);GUCLA美国(2);GUCLA美国晶圆加工和特性 2 Zhai, Max (1); Sahoo, Krutikesh (2); Iyer, Subramanian (2) UCLA US 1390 键合界面含碳薄膜的特性分析以应用于背面功率传输网络 晶圆加工和特性 2 Kitagawa, Hayato; Sato, Ryosuke; Fuse, Junya; Yoshihara, Yuki; Inoue, Fumihiro 横滨国立大学 JP 1411 使用正性光刻胶掩模通过光刻步进机对 1µm 临界尺寸硅通孔进行图案化 晶圆加工和特性 3 Sundaram, Arvind (1); Kang, Riley (2); Bhesetti, Chandra Rao (1) 新加坡微电子研究所 (IME) SG 1410 用于多代工厂兼容超导中介层晶圆级处理的铌最后工艺晶圆加工和特性 3 Goh, Simon Chun Kiat;Ng, Yong Chyn;Ong, Javier Jun Wei;Lau, Daniel;Tseng, Ya-Ching;Jaafar, Norhanani;Yoo, Jae Ok;Liu, Liyuan;Teo, Everline Shu Yun;Chua, N 新加坡微电子研究所 (IME) SG 1331 一种使用磁和毛细管辅助自对准的新型 D2W 键合对准方案晶圆加工和特性 3 Choi, Daesan (1); Kim, Sumin (2); Hahn, Seung Ho (1); Moon, Bumki (1); Rhee, Daniel Minwoo (1) 三星电子 KR 1233 高可靠性底部端接封装侧壁电镀的新型湿化学处理 晶圆加工和特性 4 Hovestad, Arjan (1); Basu, Tarun (2) Besi NL 1285 通孔氧化铝通孔的制造:一种使用超声波加工和化学沉积的经济高效的替代方法 晶圆加工和特性 4 Pawar, Karan; Pandey, Harsh; Dixit, Pradeep 印度理工学院孟买分校 IN 1123 fcBGA 与扇出型 SiPlet 封装的电气、热学和机械性能比较 晶圆加工和特性 4 Ouyang, Eric; Ahn, Billy; Han, BJ; Han, Michael; Kang, Chen; Oh, Michael Silicon Box US 1397 用于 5G 毫米波智能手机应用的带可控波束的紧凑型 1x4 天线阵列 无线和天线封装设计 Hsieh, Sheng-Chi ASE GROUP TW 1139 开发 2.4GHz 频段 L 形圆极化缝隙天线 无线和天线封装设计 Suehiro, Kazuki; Nakashima, Kenta; Kanaya, Haruichi 九州大学 JP 1203 通过多级 Cockcroft-Walton 电路开发远程无线能量收集电路 无线和天线封装设计 Tagawa, Nobuya; Hosaka, Ryoma; Tanaka, Hayato; Goodwill, Kumar; Kanaya, Haruichi 九州大学 JP 1261 Chiplet 时代的成本性能协同优化 AI 应用的封装设计和特性 Graening, Alexander Phillip (1);Patel, Darayus Adil (2);Sisto, Giuliano (2);Lenormand, Erwan (2);Perumkunnil, Manu (2);Pantano, Nicolas (2);Kumar, Vinay BY (2);GUCLA US晶圆加工和特性 2 Zhai, Max (1); Sahoo, Krutikesh (2); Iyer, Subramanian (2) UCLA US 1390 键合界面含碳薄膜的特性分析以应用于背面功率传输网络 晶圆加工和特性 2 Kitagawa, Hayato; Sato, Ryosuke; Fuse, Junya; Yoshihara, Yuki; Inoue, Fumihiro 横滨国立大学 JP 1411 使用正性光刻胶掩模通过光刻步进机对 1µm 临界尺寸硅通孔进行图案化 晶圆加工和特性 3 Sundaram, Arvind (1); Kang, Riley (2); Bhesetti, Chandra Rao (1) 新加坡微电子研究所 (IME) SG 1410 用于多代工厂兼容超导中介层晶圆级处理的铌最后工艺晶圆加工和特性 3 Goh, Simon Chun Kiat;Ng, Yong Chyn;Ong, Javier Jun Wei;Lau, Daniel;Tseng, Ya-Ching;Jaafar, Norhanani;Yoo, Jae Ok;Liu, Liyuan;Teo, Everline Shu Yun;Chua, N 新加坡微电子研究所 (IME) SG 1331 一种使用磁和毛细管辅助自对准的新型 D2W 键合对准方案晶圆加工和特性 3 Choi, Daesan (1); Kim, Sumin (2); Hahn, Seung Ho (1); Moon, Bumki (1); Rhee, Daniel Minwoo (1) 三星电子 KR 1233 高可靠性底部端接封装侧壁电镀的新型湿化学处理 晶圆加工和特性 4 Hovestad, Arjan (1); Basu, Tarun (2) Besi NL 1285 通孔氧化铝通孔的制造:一种使用超声波加工和化学沉积的经济高效的替代方法 晶圆加工和特性 4 Pawar, Karan; Pandey, Harsh; Dixit, Pradeep 印度理工学院孟买分校 IN 1123 fcBGA 与扇出型 SiPlet 封装的电气、热学和机械性能比较 晶圆加工和特性 4 Ouyang, Eric; Ahn, Billy; Han, BJ; Han, Michael; Kang, Chen; Oh, Michael Silicon Box US 1397 用于 5G 毫米波智能手机应用的带可控波束的紧凑型 1x4 天线阵列 无线和天线封装设计 Hsieh, Sheng-Chi ASE GROUP TW 1139 开发 2.4GHz 频段 L 形圆极化缝隙天线 无线和天线封装设计 Suehiro, Kazuki; Nakashima, Kenta; Kanaya, Haruichi 九州大学 JP 1203 通过多级 Cockcroft-Walton 电路开发远程无线能量收集电路 无线和天线封装设计 Tagawa, Nobuya; Hosaka, Ryoma; Tanaka, Hayato; Goodwill, Kumar; Kanaya, Haruichi 九州大学 JP 1261 Chiplet 时代的成本性能协同优化 AI 应用的封装设计和特性 Graening, Alexander Phillip (1);Patel, Darayus Adil (2);Sisto, Giuliano (2);Lenormand, Erwan (2);Perumkunnil, Manu (2);Pantano, Nicolas (2);Kumar, Vinay BY (2);GUCLA USSubramanian (2) UCLA US 1390 表征键合界面处含碳薄膜以用于背面功率传输网络晶圆处理和表征 2 Kitagawa, Hayato; Sato, Ryosuke; Fuse, Junya; Yoshihara, Yuki; Inoue, Fumihiro 横滨国立大学 JP 1411 使用正性光刻胶掩模通过光刻步进机对 1µm 临界尺寸硅通孔进行图案化晶圆处理和表征 3 Sundaram, Arvind (1); Kang, Riley (2); Bhesetti, Chandra Rao (1) 新加坡微电子研究所 (IME) SG 1410 用于多代工厂兼容超导中介层晶圆级处理的铌最后工艺晶圆加工和特性 3 Goh, Simon Chun Kiat;Ng, Yong Chyn;Ong, Javier Jun Wei;Lau, Daniel;Tseng, Ya-Ching;Jaafar, Norhanani;Yoo, Jae Ok;Liu, Liyuan;Teo, Everline Shu Yun;Chua, N 新加坡微电子研究所 (IME) SG 1331 一种使用磁和毛细管辅助自对准的新型 D2W 键合对准方案晶圆加工和特性 3 Choi, Daesan (1); Kim, Sumin (2); Hahn, Seung Ho (1); Moon, Bumki (1); Rhee, Daniel Minwoo (1) 三星电子 KR 1233 高可靠性底部端接封装侧壁电镀的新型湿化学处理 晶圆加工和特性 4 Hovestad, Arjan (1); Basu, Tarun (2) Besi NL 1285 通孔氧化铝通孔的制造:一种使用超声波加工和化学沉积的经济高效的替代方法 晶圆加工和特性 4 Pawar, Karan; Pandey, Harsh; Dixit, Pradeep 印度理工学院孟买分校 IN 1123 fcBGA 与扇出型 SiPlet 封装的电气、热学和机械性能比较 晶圆加工和特性 4 Ouyang, Eric; Ahn, Billy; Han, BJ; Han, Michael; Kang, Chen; Oh, Michael Silicon Box US 1397 用于 5G 毫米波智能手机应用的带可控波束的紧凑型 1x4 天线阵列 无线和天线封装设计 Hsieh, Sheng-Chi ASE GROUP TW 1139 开发 2.4GHz 频段 L 形圆极化缝隙天线 无线和天线封装设计 Suehiro, Kazuki; Nakashima, Kenta; Kanaya, Haruichi 九州大学 JP 1203 通过多级 Cockcroft-Walton 电路开发远程无线能量收集电路 无线和天线封装设计 Tagawa, Nobuya; Hosaka, Ryoma; Tanaka, Hayato; Goodwill, Kumar; Kanaya, Haruichi 九州大学 JP 1261 Chiplet 时代的成本性能协同优化 AI 应用的封装设计和特性 Graening, Alexander Phillip (1);Patel, Darayus Adil (2);Sisto, Giuliano (2);Lenormand, Erwan (2);Perumkunnil, Manu (2);Pantano, Nicolas (2);Kumar, Vinay BY (2);GUCLA USSubramanian (2) UCLA US 1390 表征键合界面处含碳薄膜以用于背面功率传输网络晶圆处理和表征 2 Kitagawa, Hayato; Sato, Ryosuke; Fuse, Junya; Yoshihara, Yuki; Inoue, Fumihiro 横滨国立大学 JP 1411 使用正性光刻胶掩模通过光刻步进机对 1µm 临界尺寸硅通孔进行图案化晶圆处理和表征 3 Sundaram, Arvind (1); Kang, Riley (2); Bhesetti, Chandra Rao (1) 新加坡微电子研究所 (IME) SG 1410 用于多代工厂兼容超导中介层晶圆级处理的铌最后工艺晶圆加工和特性 3 Goh, Simon Chun Kiat;Ng, Yong Chyn;Ong, Javier Jun Wei;Lau, Daniel;Tseng, Ya-Ching;Jaafar, Norhanani;Yoo, Jae Ok;Liu, Liyuan;Teo, Everline Shu Yun;Chua, N 新加坡微电子研究所 (IME) SG 1331 一种使用磁和毛细管辅助自对准的新型 D2W 键合对准方案晶圆加工和特性 3 Choi, Daesan (1); Kim, Sumin (2); Hahn, Seung Ho (1); Moon, Bumki (1); Rhee, Daniel Minwoo (1) 三星电子 KR 1233 高可靠性底部端接封装侧壁电镀的新型湿化学处理 晶圆加工和特性 4 Hovestad, Arjan (1); Basu, Tarun (2) Besi NL 1285 通孔氧化铝通孔的制造:一种使用超声波加工和化学沉积的经济高效的替代方法 晶圆加工和特性 4 Pawar, Karan; Pandey, Harsh; Dixit, Pradeep 印度理工学院孟买分校 IN 1123 fcBGA 与扇出型 SiPlet 封装的电气、热学和机械性能比较 晶圆加工和特性 4 Ouyang, Eric; Ahn, Billy; Han, BJ; Han, Michael; Kang, Chen; Oh, Michael Silicon Box US 1397 用于 5G 毫米波智能手机应用的带可控波束的紧凑型 1x4 天线阵列 无线和天线封装设计 Hsieh, Sheng-Chi ASE GROUP TW 1139 开发 2.4GHz 频段 L 形圆极化缝隙天线 无线和天线封装设计 Suehiro, Kazuki; Nakashima, Kenta; Kanaya, Haruichi 九州大学 JP 1203 通过多级 Cockcroft-Walton 电路开发远程无线能量收集电路 无线和天线封装设计 Tagawa, Nobuya; Hosaka, Ryoma; Tanaka, Hayato; Goodwill, Kumar; Kanaya, Haruichi 九州大学 JP 1261 Chiplet 时代的成本性能协同优化 AI 应用的封装设计和特性 Graening, Alexander Phillip (1);Patel, Darayus Adil (2);Sisto, Giuliano (2);Lenormand, Erwan (2);Perumkunnil, Manu (2);Pantano, Nicolas (2);Kumar, Vinay BY (2);GUCLA US横滨国立大学文弘 JP 1411 使用正性光刻胶掩模通过光刻步进机对 1µm 关键尺寸硅通孔进行图案化晶圆处理和特性 3 Sundaram, Arvind (1); Kang, Riley (2); Bhesetti, Chandra Rao (1) 新加坡微电子研究所 (IME) SG 1410 用于多代工厂兼容超导中介层晶圆级处理的铌最后工艺晶圆加工和特性 3 Goh, Simon Chun Kiat;Ng, Yong Chyn;Ong, Javier Jun Wei;Lau, Daniel;Tseng, Ya-Ching;Jaafar, Norhanani;Yoo, Jae Ok;Liu, Liyuan;Teo, Everline Shu Yun;Chua, N 新加坡微电子研究所 (IME) SG 1331 一种使用磁和毛细管辅助自对准的新型 D2W 键合对准方案晶圆加工和特性 3 Choi, Daesan (1); Kim, Sumin (2); Hahn, Seung Ho (1); Moon, Bumki (1); Rhee, Daniel Minwoo (1) 三星电子 KR 1233 高可靠性底部端接封装侧壁电镀的新型湿化学处理 晶圆加工和特性 4 Hovestad, Arjan (1); Basu, Tarun (2) Besi NL 1285 通孔氧化铝通孔的制造:一种使用超声波加工和化学沉积的经济高效的替代方法 晶圆加工和特性 4 Pawar, Karan; Pandey, Harsh; Dixit, Pradeep 印度理工学院孟买分校 IN 1123 fcBGA 与扇出型 SiPlet 封装的电气、热学和机械性能比较 晶圆加工和特性 4 Ouyang, Eric; Ahn, Billy; Han, BJ; Han, Michael; Kang, Chen; Oh, Michael Silicon Box US 1397 用于 5G 毫米波智能手机应用的带可控波束的紧凑型 1x4 天线阵列 无线和天线封装设计 Hsieh, Sheng-Chi ASE GROUP TW 1139 开发 2.4GHz 频段 L 形圆极化缝隙天线 无线和天线封装设计 Suehiro, Kazuki; Nakashima, Kenta; Kanaya, Haruichi 九州大学 JP 1203 通过多级 Cockcroft-Walton 电路开发远程无线能量收集电路 无线和天线封装设计 Tagawa, Nobuya; Hosaka, Ryoma; Tanaka, Hayato; Goodwill, Kumar; Kanaya, Haruichi 九州大学 JP 1261 Chiplet 时代的成本性能协同优化 AI 应用的封装设计和特性 Graening, Alexander Phillip (1);Patel, Darayus Adil (2);Sisto, Giuliano (2);Lenormand, Erwan (2);Perumkunnil, Manu (2);Pantano, Nicolas (2);Kumar, Vinay BY (2);GUCLA US横滨国立大学文弘 JP 1411 使用正性光刻胶掩模通过光刻步进机对 1µm 关键尺寸硅通孔进行图案化晶圆处理和特性 3 Sundaram, Arvind (1); Kang, Riley (2); Bhesetti, Chandra Rao (1) 新加坡微电子研究所 (IME) SG 1410 用于多代工厂兼容超导中介层晶圆级处理的铌最后工艺晶圆加工和特性 3 Goh, Simon Chun Kiat;Ng, Yong Chyn;Ong, Javier Jun Wei;Lau, Daniel;Tseng, Ya-Ching;Jaafar, Norhanani;Yoo, Jae Ok;Liu, Liyuan;Teo, Everline Shu Yun;Chua, N 新加坡微电子研究所 (IME) SG 1331 一种使用磁和毛细管辅助自对准的新型 D2W 键合对准方案晶圆加工和特性 3 Choi, Daesan (1); Kim, Sumin (2); Hahn, Seung Ho (1); Moon, Bumki (1); Rhee, Daniel Minwoo (1) 三星电子 KR 1233 高可靠性底部端接封装侧壁电镀的新型湿化学处理 晶圆加工和特性 4 Hovestad, Arjan (1); Basu, Tarun (2) Besi NL 1285 通孔氧化铝通孔的制造:一种使用超声波加工和化学沉积的经济高效的替代方法 晶圆加工和特性 4 Pawar, Karan; Pandey, Harsh; Dixit, Pradeep 印度理工学院孟买分校 IN 1123 fcBGA 与扇出型 SiPlet 封装的电气、热学和机械性能比较 晶圆加工和特性 4 Ouyang, Eric; Ahn, Billy; Han, BJ; Han, Michael; Kang, Chen; Oh, Michael Silicon Box US 1397 用于 5G 毫米波智能手机应用的带可控波束的紧凑型 1x4 天线阵列 无线和天线封装设计 Hsieh, Sheng-Chi ASE GROUP TW 1139 开发 2.4GHz 频段 L 形圆极化缝隙天线 无线和天线封装设计 Suehiro, Kazuki; Nakashima, Kenta; Kanaya, Haruichi 九州大学 JP 1203 通过多级 Cockcroft-Walton 电路开发远程无线能量收集电路 无线和天线封装设计 Tagawa, Nobuya; Hosaka, Ryoma; Tanaka, Hayato; Goodwill, Kumar; Kanaya, Haruichi 九州大学 JP 1261 Chiplet 时代的成本性能协同优化 AI 应用的封装设计和特性 Graening, Alexander Phillip (1);Patel, Darayus Adil (2);Sisto, Giuliano (2);Lenormand, Erwan (2);Perumkunnil, Manu (2);Pantano, Nicolas (2);Kumar, Vinay BY (2);GUCLA USLiyuan;Teo, Everline Shu Yun;Chua, N 新加坡微电子研究所 (IME) SG 1331 一种使用磁性和毛细管辅助自对准的新型 D2W 键合对准方案 晶圆加工和特性 3 Choi, Daesan (1); Kim, Sumin (2); Hahn, Seung Ho (1); Moon, Bumki (1); Rhee, Daniel Minwoo (1) 三星电子 KR 1233 用于高可靠性底部端接封装侧壁电镀的新型湿化学处理 晶圆加工和特性 4 Hovestad, Arjan (1); Basu, Tarun (2) Besi NL 1285 制造通孔氧化铝通孔:一种使用超声波加工和化学沉积的经济高效的替代方法 晶圆加工和特性 4 Pawar, Karan; Pandey, Harsh; Dixit, Pradeep 印度理工学院 孟买 IN 1123 fcBGA 与扇出型 SiPlet 封装的电气、热学和机械性能比较 晶圆加工和特性 4 Ouyang, Eric; Ahn, Billy; Han, BJ; Han, Michael; Kang, Chen; Oh, Michael Silicon Box US 1397 用于 5G 毫米波智能手机应用的带可控波束的紧凑型 1x4 天线阵列 无线和天线封装设计 Hsieh, Sheng-Chi 日月光集团 TW 1139 2.4GHz 频段 L 形圆极化缝隙天线的开发 无线和天线封装设计 Suehiro, Kazuki; Nakashima, Kenta; Kanaya, Haruichi 九州大学 JP 1203 通过多级 Cockcroft-Walton 电路开发远程无线能量收集电路 无线和天线封装设计 Tagawa, Nobuya;保坂、龙马;田中、隼人;善意,库马尔; Kanaya,Haruichi 九州大学 JP 1261 Chiplet 时代的性价比协同优化 AI 应用的封装设计和表征 Graening,Alexander Phillip (1);Patel,Darayus Adil (2);Sisto,Giuliano (2);Lenormand,Erwan (2);Perumkunnil,Manu (2);Pantano,Nicolas (2);Kumar,Vinay BY (2);古克拉美国Liyuan;Teo, Everline Shu Yun;Chua, N 新加坡微电子研究所 (IME) SG 1331 一种使用磁性和毛细管辅助自对准的新型 D2W 键合对准方案 晶圆加工和特性 3 Choi, Daesan (1); Kim, Sumin (2); Hahn, Seung Ho (1); Moon, Bumki (1); Rhee, Daniel Minwoo (1) 三星电子 KR 1233 用于高可靠性底部端接封装侧壁电镀的新型湿化学处理 晶圆加工和特性 4 Hovestad, Arjan (1); Basu, Tarun (2) Besi NL 1285 制造通孔氧化铝通孔:一种使用超声波加工和化学沉积的经济高效的替代方法 晶圆加工和特性 4 Pawar, Karan; Pandey, Harsh; Dixit, Pradeep 印度理工学院 孟买 IN 1123 fcBGA 与扇出型 SiPlet 封装的电气、热学和机械性能比较 晶圆加工和特性 4 Ouyang, Eric; Ahn, Billy; Han, BJ; Han, Michael; Kang, Chen; Oh, Michael Silicon Box US 1397 用于 5G 毫米波智能手机应用的带可控波束的紧凑型 1x4 天线阵列 无线和天线封装设计 Hsieh, Sheng-Chi 日月光集团 TW 1139 2.4GHz 频段 L 形圆极化缝隙天线的开发 无线和天线封装设计 Suehiro, Kazuki; Nakashima, Kenta; Kanaya, Haruichi 九州大学 JP 1203 通过多级 Cockcroft-Walton 电路开发远程无线能量收集电路 无线和天线封装设计 Tagawa, Nobuya;保坂、龙马;田中、隼人;善意,库马尔; Kanaya,Haruichi 九州大学 JP 1261 Chiplet 时代的性价比协同优化 AI 应用的封装设计和表征 Graening,Alexander Phillip (1);Patel,Darayus Adil (2);Sisto,Giuliano (2);Lenormand,Erwan (2);Perumkunnil,Manu (2);Pantano,Nicolas (2);Kumar,Vinay BY (2);古克拉美国Michael Silicon Box US 1397 用于 5G 毫米波智能手机应用的带可控波束的紧凑型 1x4 天线阵列 无线和天线封装设计 Hsieh, Sheng-Chi ASE GROUP TW 1139 开发 2.4GHz 频段 L 形圆极化缝隙天线 无线和天线封装设计 Suehiro, Kazuki; Nakashima, Kenta; Kanaya, Haruichi 九州大学 JP 1203 通过多级 Cockcroft-Walton 电路开发远程无线能量收集电路 无线和天线封装设计 Tagawa, Nobuya; Hosaka, Ryoma; Tanaka, Hayato; Goodwill, Kumar; Kanaya, Haruichi 九州大学 JP 1261 Chiplet 时代的成本性能协同优化 AI 应用的封装设计和特性 Graening, Alexander Phillip (1);Patel, Darayus Adil (2);Sisto, Giuliano (2);Lenormand, Erwan (2);Perumkunnil, Manu (2);Pantano, Nicolas (2);Kumar, Vinay BY (2);GUCLA USMichael Silicon Box US 1397 用于 5G 毫米波智能手机应用的带可控波束的紧凑型 1x4 天线阵列 无线和天线封装设计 Hsieh, Sheng-Chi ASE GROUP TW 1139 开发 2.4GHz 频段 L 形圆极化缝隙天线 无线和天线封装设计 Suehiro, Kazuki; Nakashima, Kenta; Kanaya, Haruichi 九州大学 JP 1203 通过多级 Cockcroft-Walton 电路开发远程无线能量收集电路 无线和天线封装设计 Tagawa, Nobuya; Hosaka, Ryoma; Tanaka, Hayato; Goodwill, Kumar; Kanaya, Haruichi 九州大学 JP 1261 Chiplet 时代的成本性能协同优化 AI 应用的封装设计和特性 Graening, Alexander Phillip (1);Patel, Darayus Adil (2);Sisto, Giuliano (2);Lenormand, Erwan (2);Perumkunnil, Manu (2);Pantano, Nicolas (2);Kumar, Vinay BY (2);GUCLA US