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原子平面错位取向有助于提高纳米图案化蓝宝石 (0001) 表面上 AlN 外延生长的晶体质量，用于深紫外光电器件
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Atomic Energy Central School-4，孟买年度报告 -
一开始，我们享有特权，即欢迎今天的首席嘉宾Shri Joe Mohan，Barc反应堆项目小组副主任和今天的荣誉嘉宾P. Christopher Selvin博士，HBNI，HBNI，MUMBAI，MUMBAI，MUMBAI，MUMBAI成员，AEES理事会成员。，我们很荣幸地代表孟买AECS 4的学生和员工社区欢迎我们的新主席Shri Ranajit Kumar Shri Ranajit Kumar。我们很荣幸欢迎我们心爱的秘书AEES，Shri P Govardhan，尊敬的Shri Chandrashekar G Karhatkar，校长，AEC Schools，AEC Schools和Junior College Schools和校长Shri K. Ramachandran校长Shri K. Ramachandran of Ally Ans Ans Ans Ans Ans Ans All All Ans All Shri Dilep Singh的Shri Chandrashekar g Karhatkar，反应堆集团和地方管理委员会主任兼本地管理委员会主席兼董事长LMC，SAC，PUVVN，我们光明的信标，我们的老师，父母，祝福者和我们亲爱的朋友！在这里的每个人都温暖的夜晚。我们欢迎大家孟买的AECS-4年度2023年年度的ADRETION。
原子级薄晶体银纳米结构中的超受限等离子体
将光限制到原子尺度的能力对于光电子学和光学传感应用的开发以及纳米级量子现象的探索至关重要。厚度仅为几个原子层的金属纳米结构中的等离子体可以实现这种限制，尽管亚纳米级的制造缺陷阻碍了实际发展。在这里，通过预图案化硅基板并外延沉积厚度仅为几个原子层的银膜制造的原子级薄结晶银纳米结构中展示了窄等离子体。具体而言，对硅晶片进行光刻图案化以引入按需横向形状，对样品进行化学处理以获得原子级平坦的硅表面，并外延沉积银以获得具有指定形态的超薄结晶金属膜。按照此程序制造的结构可以对近红外光谱区域的光场约束进行前所未有的控制，这里通过观察具有极端空间约束和高品质因子的基阶和高阶等离子体来说明这一点，这些因子反映了金属的晶体性。本研究在空间约束程度和品质因数方面取得了实质性的改进，这将有助于设计和利用原子级纳米等离子体器件用于光电子、传感和量子物理应用。
通过深度学习对扭曲的原子薄双层材料的识别和结构表征
摘要：二维材料有望在下一代电子和光电设备中发挥重要作用。最近，由于其独特的物理特性和潜在的应用，扭曲的双层石墨烯和过渡金属二核苷引起了极大的关注。在这项研究中，我们描述了光学显微镜的使用来收集二硫化钼（MOS 2）的化学蒸气沉积（CVD）的色彩空间，并应用了语义分割卷积神经网络（CNN）的应用，以准确且快速地识别MOS 2 Flakes的厚度。第二个CNN模型经过训练，以在CVD生长的双层薄片的扭曲角度提供精确的预测。该模型利用了一个数据集，该数据集包含10,000多个合成图像，其中包括从六角形到三角形形状的几何形状。通过第二次谐波产生和拉曼光谱执行了对扭曲角度深度学习预测的后续验证。我们的结果引入了一种可扩展的方法，用于自动检查扭曲的原子薄的CVD生长双层。关键字：扭曲角度，过渡金属二核苷（TMD），深度学习，OpenCV，拉曼
原子簇动力学导致金属眼镜的间歇性老化
在过去的二十年中，金属眼镜的大量放松或物理老化实验揭示了间歇性原子级过程的特征。通过使用X射线光子相关光谱（XPC）从相干散射的强度互相关来揭示，观察到的原子运动时间域突然变化并不适合逐渐减慢松弛时间的逐渐减慢速度，其起源仍在不清楚。使用经受微秒长的等温线的二进制Lennard-Jones模型玻璃，我们在这里表明，在不同的长度尺度上，在时间和空间上，在空间上和空间异质性原子群集活性驱动了高度非单调强度互相关的出现。模拟的XPCS实验揭示了各种依赖时间的强度 - 跨性相关性，这些相关性取决于结构演化和𝑞空间采样，对用XPC测量的间歇性衰老的可能结构起源提供了详细的见解。
44. EAS - 会议“极端原子系统” 11
自发参量下转换 (SPDC) 在生成纯净且不可区分的单光子方面显示出巨大的潜力。块体晶体中产生的光子对在横向空间和频率方面高度相关。这些相关性限制了光子的不可区分性并导致光子源效率低下。人们已经探索了具有高斯非线性响应的域工程晶体以最大限度地降低光谱相关性。在这里，我们研究了这种域工程对产生的光子的空间相关性的影响。我们表明，具有高斯非线性响应的晶体会降低光子之间的空间相关性。然而，高斯非线性响应不足以完全消除空间相关性。因此，开发一种全面的方法来最大限度地降低这些相关性仍然是一个悬而未决的挑战。我们对这个问题的解决方案涉及同时设计泵浦光束和晶体。我们在没有任何空间滤波的情况下实现了高达 99% 的单光子态纯度。我们的发现为结构化 SPDC 晶体中产生的空间波形提供了宝贵的见解，对玻色子采样等应用具有重要意义。
使用顺序氧化和脱氧氯化反应
摘要：使用O 3（臭氧）和SOCL 2（硫代氯化物）的顺序暴露证明了钼（MO）的热原子层蚀刻（MO）。原位石英晶体微量平衡（QCM）研究对溅射的Mo涂层QCM晶体进行。QCM结果表明，在短暂蚀刻延迟后，Mo Ale显示出线性质量下降与啤酒周期。每次o 3暴露都会观察到明显的质量增加。每次SOCL 2暴露都会发生巨大的质量下降。Mo Ale的每个周期的质量变化（MCPC）是在长时间的SCOL 2暴露后是自限制的。MCPC随着3个暴露时间的较长而增加。原位QCM研究表明，这种软饱和度更长的O 3暴露于Mo的扩散限制氧化引起的。mo蚀刻速率随蚀刻温度逐渐增加。在饱和条件下，在75、125、175和225°C时，mo蚀刻速率分别为0.94、5.77、8.83和10.98Å/循环。X射线光电子光谱（XPS）和原位四倍质谱法（QMS）研究进行了研究，以了解反应机制。XPS在150°C下暴露于O 3后主要在MO表面上显示MOO 3。从QMS研究中，当MO在200°°C中接触MO在MO中暴露于SOCL 2时，监测了挥发性SO 2和MOO 2 Cl 2。这些结果表明，这些结果表明，通过氧化和脱氧氯次反应发生。mo用O 3氧化为MOO 3。随后，MOO 3经历了脱氧氯化反应，其中SOCL 2接受氧气产生SO 2并捐赠氯以产生MOO 2 Cl 2。Additional QCM experiments revealed that sequential exposures of O 3 and SO 2 Cl 2 (sulfuryl chloride) did not etch Mo at 250 ° C. Time-resolved QMS studies at 200 ° C also compared sequential O 3 and SOCl 2 or SO 2 Cl 2 exposures on Mo at 200 ° C. The volatile release of MoO 2 Cl 2 was observed only using the SOCl 2 deoxychlorination reactant.原子力显微镜（AFM）测量结果表明，MO表面的粗糙度与Mo Ale循环缓慢增加。
原子、分子和光学物理冬季研究生院：Tq
欢迎参加第 12 届 ITAMP 原子、分子和光学物理冬季研究生院。今年的课程重点关注量子热力学：多体量子与热力学的结合。我们很高兴有该领域无可争议的世界领导者研究人员和杰出的教师。我们感谢他们愿意投入大量时间来准备和展示他们的讲座。我们举办这所学校的主要目标是在学校期间实现和鼓励非正式互动以及正式讨论。我们希望您能利用 Biosphere 2 校园的独特环境及其轻松随意的环境与讲师进行广泛的互动。他们中的大多数人将能够与我们一起度过几天。所以，不要错过这个机会！
对我们的读者的内容 - 国际原子能局
作为部分负责人，我知道SWMCN团队及其实验室应被视为研究活动和科学探索的枢纽，以帮助我们的成员国通过打击气候变化，保护土壤和水的保护，并改善未知农民的生计，从而实现其粮食安全目标。在过去六个月中发生了几次活动。In July, Joseph Adu-Gyamfi presided over the Final Research Coordination Meeting on ‘Integrated Isotopic Approaches to monitor Sources of Agro Contaminants, in Vienna, while in the same month he also took part in the Regional Training Course on Assessing and Mitigating Agro-Contaminants to Improve Water Quality and Soil Productivity in Catchments Using Integrated Isotopic Approaches, in Da Lat, Vietnam.9月，哈米说，艾哈迈德（Ahmed）参加了埃及开罗的先进核技术和遥感技术的结合，参加了有关农业水管理数字水平管理数字平台的区域培训课程。10月，Gerd Dercon代表该机构在CGIAR中代表该机构，该机构在蒙彼利埃大学举行了为期两天的国际聚会，以“合并集体情报”。
高级实验室原子力显微镜
样品持有人的主要任务是将样品保持在稳定的位置。它也可以配备功能单元，例如加热器或液体腔室。扫描头用于固定悬臂并将其移到样品上。通常，压电驱动器用作精确的电动机，在X和Y方向上扫描样品。z方向上的运动通常也由压电电动机执行。1扫描头最重要的部分是尖端，该尖端位于小悬臂末端。悬臂大约只有头发宽（0.1毫米），通常由硅或氮化硅制成（Si 3 N 4）。尖端本身通常具有4-30 nm的半径（见图2 a）。四季度光电二极管用作从悬臂背面反射的激光的检测单元（见图2 b）。