本文件及其随附的视频和 CD-ROM 的目的是提供:(1) 有关如何设计高速公路隔音屏障的指南,该隔音屏障应与周围环境相适应,并以合理的生命周期成本发挥其预期的声学和结构功能;(2) 为专业公路工程师、声学和设计工程师和规划人员以及非专业社区参与者提供常见概念、设计、材料和安装技术的最新参考。本手册还可用作其他应用的指南,例如用于减弱铁路线噪音的隔音屏障,以及交通运输中不一定存在的其他来源的噪音。我们已尽一切努力解决常见的设计、材料和安装技术。但是,不可能涵盖每天进入市场的新概念和新材料的激增。因此,本手册中的具体描述不应被视为包罗万象,也不旨在限制设计师、制造商和施工承包商的创造力。本手册中未涉及的任何新理论、设计、材料或安装技术都应根据耐用性、安全性和功能性的一般基本原则进行评估。
免责声明:1-本文给出的信息,包括规格和维度,可能会更改,而无需事先通知以改善产品特征。在订购之前,建议购买者与SMC-最新版本的数据表销售部联系SMC -Sangdest最微电子(NANJING)CO.2-如果需要极高的可靠性(例如在核电控制,航空航天和航空,交通设备,医疗设备和安全设备中使用),则应通过使用具有确保安全性或用户的故障安全预防或其他安排的半导体设备来确保安全性。3-在任何情况下,SMC-最倾斜的微电子(NANJING)Co.,Ltd对根据数据表的操作期间因事故或任何其他原因造成的任何损害均承担责任。SMC-最微电子(NANJING)CO.,LTD对任何知识产权索赔或由于数据表中所述的信息,产品或电路的应用而可能导致的任何其他问题承担任何责任。4-在任何情况下,SMC-最倾斜的微电子(NANJING)Co.,Ltd对半导体设备中的任何故障或在超过绝对最大额定值的值时造成的任何次要损害均承担责任。出口这些产品(技术)时,必须根据相关法规采取必要的程序。5-数据表的任何专利或其他权利均未授予任何第三方或SMC的权利 - 最佳微电子(NANJING)Co.,Ltd。6- 6-数据表(s)不可能在任何形式或部分中以明确的书面形式复制或重复,或者不得以任何形式的零件复制或重复。 Ltd. 7-数据中描述的产品(技术)不得向其申请目的的任何一方提供限制国际和平与安全的任何一方,也不应由其直接购买者或任何第三方应用于该目的。
电子邮件:stephane.calvez@laas.fr 简介 原子层沉积 (ALD) 纳米厚的 Al 2 O 3 层或其他电介质层已被证实是一种有效的方法,可用于创建敏感材料封装层,防止其因周围大气中的水分和氧气含量而发生降解 [1,2]。另外,由氧气(分别是水)引起的半导体材料向绝缘体的腐蚀转变,称为干(湿)氧化,通常用于微电子和光子器件以及集成电路的制造,作为引入实现晶圆上光学路由 [3–6] 和/或电连接所需的电和/或光子限制的一种方式。特别是在硅光子器件制造中,后者的工艺通常涉及将硅层在高温或等离子体中暴露于水/氧气中,并通过厚度大于 100 nm 的 SiN x 掩模实现局部氧化保护 [3,4]。在此背景下,我们在此报告了使用 ALD 沉积的 Al 2 O 3 作为节省材料的氧化屏障以防止硅晶片的等离子诱导或高温热氧化的能力的研究。样品制备通过热 ALD 在硅晶片上沉积具有纳米厚度的 Al 2 O 3 薄膜。低压热 ALD 沉积由重复循环组成,每个循环包括 300 ms 的三甲胺铝 (TMA) 脉冲,然后在 N 2 下进行 2800 ms 的吹扫,150 ms 的水蒸气脉冲,以及在 N 2 下进行 6700 ms 的第二次吹扫。这里测试了两个沉积温度,90°C 和 150°C。使用可变角度光谱椭圆偏振法(使用 Accurion EP4 系统)测量所得层厚度。图 1 显示了 Al 2 O 3 厚度随沉积循环次数变化的记录。在 0 个循环时,测量到的厚度对应于天然氧化硅(测量到约 2 纳米)。在 15 个沉积循环之前,成核开始以异质生长(见图 1 插图)。超过 15 个循环后,沉积厚度以每循环生长率 (GPC) 0.19 纳米/循环线性增加,并且与沉积温度的依赖性较弱。随后使用紫外光刻和湿法蚀刻对 Al 2 O 3 涂层样品进行图案化,以获得具有 Al 2 O 3 保护和未保护硅区域的样品。使用稀磷酸(去离子水/H 3 PO 4 (37%) 1/1 溶液)在精确的 67°C 温度下进行层蚀刻,蚀刻速率为 30 纳米/分钟。分别用水和丙酮进行冲洗和清洁。测试了两种类型的氧化:干热氧化和等离子氧化。干热氧化方案包括在 5L/min 的 O 2 流量下从 30°C 开始线性升温(8.2°C/min),然后在 9L/min 的 O 2 流量下以 1000°C 进行恒温步骤,然后在 5L/min 的 O 2 流量下以 -16.3°C/min 的温度衰减。低压 O 2 等离子体氧化在 Sentech Si-500 设备中进行,使用 30 分钟的重复处理,其中样品受到 O 2 等离子体处理,RF 功率为 800W,基板温度保持在 100°C 以下。在这两种情况下,通过成像光谱椭圆偏振法测量处理过的样品的保护区和未保护区的氧化厚度。图 2 左侧显示,如果 Al 2 O 3 厚度大于 ~9 nm(45 个循环),则干氧化不会进行,而对于更薄的覆盖层,干氧化会减少。SEM 横截面(如图 2 中的插图所示)进一步证实了这一观察结果。类似地,观察到等离子体氧化导致氧化物生长遵循平方根定律的时间依赖性(Deal 和 Grove 模型 [7]),但对于(30 次循环)Al 2 O 3 涂层样品部分,其氧化速率降低。
尽管在减少营养不良的人数和近几十年来营养不良的次数方面进展,但居住在农村地区的人们仍被抛在后面,许多人继续面对磨碎的贫困和饥饿。尤其是偏远和山区的小农户,干旱和荒漠化影响的地区,小岛发展中国家面临着种植农作物的持续挑战,使他们处于贫困和饥饿的风险。COVID-19大流行的社会经济影响进一步加剧了这些挑战,加剧了呼吁对可持续发展目标的促进行动和交付以及消除贫困和饥饿的迫切性,尤其是在农村地区。土地使用模式不足,缺乏足够的土地,土地退化和荒漠化使许多发展中国家的贫困和饥饿造成了多年生问题。
代替了拟议的环形屏障,建议您考虑一种设计方法,该设计方法将城市功能纳入了城市景观建筑的最佳实践中。因为多年来可能不需要从海平面上升的大部分浪涌保护,因此最好采用一种自适应管理方法,该方法结合了威胁的实际增加,建筑和自然环境的变化以及旨在在不断发展的保护方案中进行的新技术,旨在为加尔维斯顿市捍卫加尔维斯顿市的较高的危害洪水而受到较高的降雨和降雨量的增加,以及从降雨量增加的事件,以及较大的降雨量以及较大的外观。重要的是将主要的涌动保护与保护不断增加的滋扰洪水的问题相结合。加尔维斯顿(Galveston)将随着海平面和相关的国王潮流的增加而更频繁地看到滋扰洪水。,与飓风的重大激增事件相比,滋扰泛滥的频率要多得多。一个环形屏障,需要确保许多道路,铁路和贝乌·盖茨(Bayou Gates)的保护,这是防御恒定的小洪水的防御。实施障碍物很可能比小洪水本身更具破坏性。
呼吸道的先前病毒感染使宿主易患次生细菌性肺炎,这被称为发病率和死亡率的主要原因。然而,导致疾病进展的病毒 - 细菌协同作用的潜在机制仍然难以捉摸,从而阻碍了有效的预防性和治疗干预措施的产生。除了病毒诱导的气道上皮损伤外,还允许细菌传播到下呼吸道并增加其侵袭性,病毒感染后免疫防御功能的功能障碍已被视为增强对次级细菌感染的敏感性的因素。鉴于口腔与病毒进入和复制的呼吸道相邻,还可以很好地建立口腔健康状况可以显着影响呼吸病毒感染的起始,进展和病理。进行了这项综述的重点是呼吸障碍的功能障碍,该功能在提供物理和分泌障碍以及在病毒 - 细菌协同的背景下在提供物理和分泌障碍以及免疫防御方面起着至关重要的作用。对障碍对病毒 - 细菌共感染的障碍反应有更大的了解,最终将导致开发有效的广谱治疗方法,以预先提高增强对这些病原体的易感性。
认知障碍是与年龄相关的合并症,与血脑屏障(BBB)泄漏是一个关键事件。BBB泄漏随着年龄的增长而增加,但这些机制仍未完全理解。在当前文章中,我们简要讨论了中性粒细胞外陷阱(NET)在与年龄相关的认知障碍增加中的作用。Netosis是一种过程中性粒细胞,释放了由DNA,组蛋白和抗菌蛋白组成的网络样结构。这些网是陷阱和杀死病原体的物理障碍,例如细菌,病毒和真菌。过多的网络形成与各种病理状况有关,例如血栓形成,癌症转移,炎症性疾病和自身免疫性疾病。最近的研究进一步表明,在鼠模型中,Netosis在中风和中性粒细胞耗尽期间在BBB泄漏中起关键作用,可以减弱阿尔茨海默氏病(AD)的病理学。在当前文章中,我们简要讨论了Netosis在BBB泄漏和与年龄有关的认知障碍中的推定作用。它应该简要总结文章的主要内容,并且可能包括文章的背景,目的,意义,方法和结论。
设施障碍分析工作组 (IBAWG) • 拥有 2,000 名或更多文职雇员的设施将建立一个障碍分析工作组,该工作组由 CPS、NAF-HRS、EO 和其他职能社区的代表以及设施指挥官(或同等人员)指定的其他适当人员组成。设施 AEPM 将担任 IBAWG 的主席。IBAWG 负责为其设施执行障碍分析过程。此外,IBAWG 还将负责在切实可行的范围内解决 AFBAWG 建立的障碍。