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使用高选择性浆料进行化学机械抛光 (CMP)，实现 IC 背面可靠制备至 STI 级别
ISTFA 2023：第 49 届国际测试和故障分析研讨会论文集，2023 年 11 月 12 日至 16 日，美国亚利桑那州凤凰城 https://doi.org/10.31339/asm.cp.istfa2023p0265
采用高选择性浆料进行化学机械抛光 (CMP)，在具有完整电路功能的 STI 上停止新型 IC 背面制备
样品安装 平行样品安装和调整是实现全区域块状硅去除的关键步骤，特别是在使用 Allied Multiprep 或 UltraTech UltraPol 等系统时。尽管在使用 Allied X-Prep 或 UltraTech ASAP-1 等系统进行腔体减薄时，这一步骤并不那么重要，但我们想分享最近在全区域减薄均匀性方面的内部改进。 事实证明，使用压力范围为 0.05 MPa – 0.20 MPa 的富士胶片 Prescale 测量胶片有利于提高样品和抛光垫之间的平行度。该过程包括将压敏胶片放在抛光垫上，然后将样品浸到胶片上。胶片产生的彩色图案指示压力分布，从而可以精确调整样品支架。重复此过程，直到实现均匀分布的彩色图案，确保最佳平行度。图 2 展示了指导调整过程的结果彩色图案。
与污染物相关的化学机械平坦化
化学机械平坦化 (CMP) 工艺已广泛用于平坦化硅基半导体器件中的各种材料，包括电介质、金属和半导体。它是实现纳米级晶圆和芯片级平坦度的最关键步骤之一。然而，在 CMP 工艺之后，晶圆表面上会观察到各种污染物，并且由于它们对器件性能和可靠性具有最直接的影响，因此它们成为许多代快速减小的特征尺寸中最关键的良率降低因素。本书章节提供了 (1) CMP 耗材引起的污染物，例如残留颗粒、表面残留物、有机残留物、焊盘碎片和金属杂质、焊盘污染、水印等，(2) CMP 后清洁过程中刷子引起的交叉污染，(3) 去除这些污染物的 CMP 后清洁。对各种类型的 CMP 污染物的形成及其特性的基本了解将极大地有利于下一代 CMP 浆料和 CMP 后清洁解决方案的开发。
CMP 10 3 边缘智能：如何利用 Silicon Labs AI/ML 提高效率和性能
MVP cpu 周期指令停顿 2x2 2x2 226 304 403 8 0 4x2 2x4 602 913 424 32 0 6x2 2x6 1210 1921 464 72 0 8x2 2x8 2050 3321 516 128 0 10x2 2x10 3122 5113 592 200 0 12x2 2x12 4426 7297 676 288 0 14x2 2x14 5962 9873 784 392 0 16x2 2x16 7730 12841 904 512 0 18x2 2x18 9730 16201 1036 648 0 20x2 2x20 11962 19953 1192 800 0 20x4 4x20 17962 27956 1593 1200 1 20x6 6x20 23742 39956 2193 1600 201 20x8 8x20 27562 47556 2793 2000 400 20x10 10x20 33162 59556 3393 2400 601 20x12 12x20 37162 67156 3993 2800 801 20x14 14x20 42762 79156 4593 3200 1000 20x16 16x20 46762 86756 5193 3600 1201 20x18 18x20 52362 98756 5793 4000 1401 20x20 20x20 56362 106356 6393 4400 1600
Imugene 凭借去年收购的 Azer-Cel 技术提供积极的早期数据
Bioshares 如何对股票进行评级 为了进行估值，Bioshares 将生物技术股票分为两类。第一类是目前有正现金流或接近产生正现金流的股票。第二类是近期没有正现金流、没有亏损历史或处于商业化早期阶段的股票。第二类本质上是投机性股票，Bioshares 根据该类股票的相对风险对其进行评级，以更好地反映这些股票中非常大的风险分散。对于这两类股票，“获利回吐”评级意味着投资者可以通过出售 25%-75% 的股票来重新调整持股比例。A 类股票目前有正现金流或接近产生正现金流。买入 CMP 为 20% < 公允价值 累积 CMP 为 10% < 公允价值 持有价值 = CMP 减持 CMP 为 10% > 公允价值 卖出 CMP 为 20% > 公允价值（CMP - 当前市场价格）
摘要。 Dosan R，Mudana So，Julyanto CMP，Purnama ET，Sugata M，Jo J，Tan TJ。 2024年。从嗡嗡声中隔离和鉴定双歧杆菌物种
摘要。Dosan R，Mudana So，Julyanto CMP，Purnama ET，Sugata M，Jo J，Tan TJ。2024。从印度尼西亚的人类母乳和婴儿粪便中分离和鉴定双歧杆菌种类。生物多样性25：337-343。由于它们对人类健康的益处，人们对识别新兴益生菌菌株的兴趣越来越大。据报道，许多来自人类的双歧杆菌具有益生菌特性。它们通常在母乳喂养的婴儿肠中发现。因此，这项研究旨在隔离和鉴定印度尼西亚人类母乳和婴儿粪便样品中的双歧杆菌，并评估其益生菌特性。从两个独立的粪便样品和两个独立的母乳样品中分离出二十个菌落。十个分离物（BR1-M1，BR1-B1，BR2-5，BR2-6，BR2-12，BS2-PB3，BS2-PB3，BS2-PB5，BS2-PS1，BS2-PS1，BS2-PS2，BS2-MB1）显示出与Bergey catel catel catel，Irreg catel，Irreg catel，Irreg catel，Irreg catel，Irreg catel，Irreg catel，Irreg catel，Irreg catel，Irreg catel，Irreg catel，Irrem-Postinal，Irrem-Postimant，均显示出一个兼容的表型。非散型和非运动。随后，四个分离株具有与双歧杆菌相似的碳水化合物发酵模式。以进一步的分子鉴定。结果表明，发现BR2-5和BR2-6与分别具有100和98.39％相似性的动物双歧杆菌亚种密切相关。同时，发现BS2-PS1和BS2-PB3分别与Breve的Bifidobacterium Greve密切相关，分别为100和98.26％。进一步的研究表明，BR2-5和BS2-PB3对低pH值有抵抗力（≥4），并且可以忍受胆汁盐的暴露（1％）。在不同的氧化应激条件下（有氧和微量潜水）中，两种分离物都幸存下来。总而言之，BR2-5和BS2-PB3作为益生菌候选者表现出令人鼓舞的特征，尽管需要进一步研究来证实这些当前的发现。
ICPT 2022程序
8:35 AM AM综合计量学OVADIA ILGAYEV（NOVA LTD）8:55 AM AM机器学习与基于物理学的CMP建模用于新兴技术的CMP建模Ruben Ghulghazaryan（SIEMENS工业软件）9:15 amnotight viorel balan（New Insight viorel balan）（new Insight viorel balan）（cea）。 Edge-Over-Erosion for Advanced CMP Processes Davit Piliposyan (Siemens Industry Software) 9:55 AM Morning Break Session I Session chair: Catharina Rudolph 10:15 AM Automatic Analysis of CMP Dishing in Via Arrays from AFM Images Jan Langer (Fraunhofer ENAS) 10:35 AM Next Generation Particle Detection in CMP Slurries Rashid Mavliev (Mavlipa LLC)上午10:55抛光垫的关键特征大小及其性能Mary McGahay（Smart Pad Inc）
博士Jae-Dong Lee（韩国 KC Tech）- KISM 2024
Jae-Dong Lee 拥有延世大学化学工程学士学位，以及韩国科学技术院 (KAIST) 化学工程硕士和博士学位。1998 年，他加入三星电子半导体研发中心担任 CMP 工程师。他参与了 CMP 技术领域的各种研发活动，例如浆料、垫片、计量（包括设备硬件和先进工艺控制 (APC)）。2005 年至 2006 年，他被派往比利时，担任 IMEC 先进互连计划的 CMP 受让人，为期 2 年。2014 年，他调往卡博特微电子公司 (CMC)，在 CMC 美国总部（美国伊利诺伊州）从事研发和技术营销工作 7 年。他在 CMP/清洁和半导体技术领域拥有 50 多项国际专利和出版物。自 2022 年以来，他一直担任 KC Tech 材料部门的研发和销售总经理。
施工管理计划
施工管理计划 任何住宅或商业建筑项目，如果要经过 Mill Valley 规划委员会或 Mill Valley 分区管理员的审查和批准，或经公共工程部主任、规划和建筑部主任或建筑官员确定其规模、工作范围或位于可能同时发生开发活动集中的区域，则必须制定施工管理计划 (CMP)。CMP 应作为建筑或分级许可证申请的一部分提交，并应在项目许可证签发前接受公共工程部、规划和建筑部、Mill Valley 消防局和 Mill Valley 警察局（视情况而定）的审查和批准。CMP 应以 24 英寸 x 36 英寸的纸张形式提供（参见附件示例），并作为许可证申请的一部分提交给市政府审查。CMP 应包括以下信息： 1. 时间表：申请人应提供项目时间表。时间表应
pNeurFill：基于增强型神经网络模型的带周长调整的虚拟填充合成
摘要 —虚拟填充被广泛用于显著改善 VLSI 制造中化学机械抛光 (CMP) 工艺的表面图案平面性。在虚拟填充流程中，虚拟合成是调整 CMP 后轮廓高度的关键步骤。然而，现有的虚拟合成优化方法通常无法平衡填充质量和效率。本文提出了一种基于模型的新型虚拟填充合成框架 NeurFill，该框架集成了多起点-顺序二次规划 (MSP-SQP) 优化求解器。在该框架内，首先将全芯片 CMP 模拟器迁移到神经网络，通过后向传播实现 8134 倍的梯度计算加速。在 CMP 神经网络模型的基础上，我们进一步实现了 NeurFill 的改进版本 (pNeurFill)，以缓解虚拟周长引起的 CMP 后高度变化。在每次虚拟密度优化迭代之后，都会基于给定的候选虚拟图案集进行额外的周长调整，以寻找最佳周长填充量。实验结果表明，提出的 NeurFill 优于现有的基于规则和模型的方法。与 NeurFill 相比，pNeurFill 中的额外周长调整策略可使高度变化平均减少 66.97 Å，质量提高 8.92%。这将为 DFM 提供指导，从而提高 IC 芯片的成品率。