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使用Deenanttrac 900的冷却水处理计划减少了东北炼油厂的铁污染
探索了大多数化学溶液，包括螯合铁，隔离井中的铁，用更高水平的氯处理，甚至添加了氧化铁至Fe 2 O 3的氧化。在飞行员工厂中证明了一些治疗方案，可以控制反应时间和结算率。但是，由于没有实际方法去除铁，任何治疗计划的应用在现场几乎没有成功。此外，试图管理六个散落的井站点，而操作人员几乎没有每天关注的人很难。
如何清洁制服：ACU 和靴子 中士时间训练的简单大纲
1.要清洗 ACU，请取下所有补丁并关闭所有钩环扣件。将制服翻过来。2.使用不含漂白剂、增白剂、增白剂或柔顺剂的温和洗涤剂，在冷水中进行免烫机洗。3.彻底冲洗，但不要拧干或扭曲衣服。4.悬挂晾干（避免阳光直射以防止褪色）或使用低温至中温机器烘干。5.请勿干洗、上浆、使用氯漂白剂或对 ACU 进行商业压制。
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防止其进一步的繁殖和乘法。饮用水首先使用UVC辐照到100年前。但是，由于氯化的价格要便宜得多，因此该过程因氯化而流离失所。氯是数十年来最重要的消毒方法。然而，在存在有机水成分的情况下，发现了与氯化有关的有机质原化合物和其他与氯化相关的DBP的形成，导致食物链中化学药品公众对化学物质的接受降低，并推动寻找一种替代涂抹方法的搜索。这导致了UV-C消毒。使用UVC
C15550-22UP，C15550-22UP01指令手册
•温度不是规格中指示的工作温度的位置•温度不为温度的位置在规格中指示的存储温度•温度在温度变化很大的地方差异很大•在阳光直射或靠近加热器附近•湿度水平不是在湿度级别的操作湿度水平，在液体范围内可能曝光液体湿度•在液体范围内显示液体的位置•在湿度级别的位置•在湿度范围的位置•在湿度级别的位置•在湿度级别的位置•在湿度级别的位置•在湿度级别的位置•在湿度级别•在湿度级别•在湿度级别•在湿度级别•在湿度范围内指示的位置•磁性或无线电波的强大来源•存在振动的地方•相机可能与腐蚀气体接触（例如氯或氟）•有很多灰尘
单组分等离子体在光电探测器阵列周期性结构的 ICP-RIE 蚀刻工艺中的应用
红外 (IR) 探测技术的发展主要依赖于 InAs/GaSb SL 外延 [1] 和生长后处理 [2] 的改进。为了实现最佳性能，必须优化器件架构 [3] 以及台面结构，使其侧壁垂直且光滑，以防止像素间距较小的焦平面阵列 (FPA) 中的串扰，其中周长与表面积的纵横比很高 [2, 4]。表面台面的粗糙度、反应产物的存在以及电活性缺陷的表面密度（包括断裂的化学键）都会影响表面漏电流的大小 [5]。台面型结构可以通过湿法或干法蚀刻来创建。先前的研究表明，无机和有机酸性蚀刻剂都适用于 InAs/GaSb 超晶格 (SL) 的湿法蚀刻 [5, 6]。湿法蚀刻有许多优点，例如断裂的化学键数量少、自由载流子密度降低，因此漏电流低 [6, 7]。然而，也会产生不良反应产物并残留在侧壁表面上，导致漏电流的显著增加。湿法蚀刻也是各向异性的，导致台面侧壁几何形状不理想 [8]。另一方面，InAs 和 GaSb 材料的干法蚀刻经常使用气态氯与惰性气体（如氩气）的组合 [9, 10]。气态氯因其高挥发性和高蚀刻速率而受到青睐，而氩离子通过轰击蚀刻表面简化了反应产物的解吸。BCl 3 蚀刻具有较低的蚀刻速率，但使用它会产生更光滑的台面侧壁 [11]。BCl 3 /Ar 等离子体的使用已被证明在分立探测器中是有效的。尽管如此，当用于台面时，它表现出次优性能
制造AQ2S/GR复合光敏剂，用于模拟太阳能硫吡啶的降解
氯化已被深入研究，用于用于水消毒和消除污染物，原因是其效率和便利性；但是，氯和次氯酸盐的产生和运输是能量消耗且复杂的。在这项研究中，通过P-P堆栈吸附方法合成了由蒽醌-2-磺酸盐（AQ2S）和石墨烯组成的新型二元光敏剂；这种化合物可以使用现场氯的产生来氯化有机污染物。在这种光敏的降解过程中，磺吡啶（间谍）被选为模型污染物，并被氯化物光敏氧化过程中产生的反应性物种（Cl 2-，Cl和O 2-）分解。合成的AQ2S/石墨烯表现出优异的活性，在可见光照射12小时后，间谍的降解率超过90％，动力学常数为0.2034H 1。结果表明，在pH 7间谍溶液中，AQ2S的重量百分比为21％的20 mg aq2s/gr，1 mol/l cl的动力学速率达到0.353 H 1的最高动力学速率。自由基捕获实验表明，Cl 2-和O 2是在太阳光下参与间谍分解的主要物种。通过进行五次连续运行的循环实验来验证该复合材料的可重复性和稳定性。这5次运行后，光降解的能力仍然超过90％。当前的研究为水相控制提供了一种能量和简单的手术方法。©2021哈尔滨技术学院。由Elsevier B.V.代表中国环境科学研究所，中国环境科学学院出版。这是CC BY-NC-ND许可证（http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/）下的开放访问文章。
材料/产品安全数据表 (MSDS-PSDS)
锂金属与水反应会产生氢气 (H 2 ) 以及氧化锂 (Li 2 O) 和氢氧化锂 (LiOH) 粉尘。亚硫酰氯在 140°C 以上热分解时会产生氯气 (Cl 2 )、二氧化硫 (SO 2 ) 和二氯化二硫 (S 2 Cl 2 )。亚硫酰氯在室温下与水反应会产生盐酸 (HCl) 和二氧化硫 (SO 2 )。四氯铝酸锂 (LiAlCl 4 ) 与水反应会产生盐酸 (HCl) 烟雾、氧化锂 (Li 2 O)、氢氧化锂 (LiOH) 和氢氧化铝 (Al(OH) 3 ) 粉尘。
广泛用途的抗微生物氯激活聚合物：...
这项工作的目的是用固定的n-氯酰胺基团体评估聚合物材料的抗菌活性，以针对多种耐药的常见微生物菌株，并确定这些材料对微生物渗透的耐药性。材料和方法：所研究的样品是苯乙烯与divinylbenzene的共聚物，形式是主纤维和非织造织物，具有各种结构的固定的N-氯二酰胺基团。微生物的医院菌株已从临床材料中分离出来；它们的抗生素灵敏度已通过Kirby-Bauer方法确定。琼脂分解方法确定聚合物的抗菌活性。通过膜滤过方法确定了非织造织物样品的微生物渗透。结果：聚合物样品已与Na-和H形式中的固定的N-氯二酰胺基合成，以及氯浓度范围为3.7–12.5％的N，N，N-二氯苏磺酰胺基。所有样本都表现出对标准菌株和医院菌株的明显抗菌活性。由于较高的特定表面积，主食通常更有效。观察到抑制微生物生长的区域，并增加了固定氯的浓度。所有研究的织物样品对金黄色葡萄球菌不渗透。含有游离磺酰胺基的对照样品未显示抗菌特性。Conclusions: synthesized chlorine-active polymers have a pronounced antimicrobial activity against multi- drug-resistant microorganisms, demonstrate high resistance to microbial penetration and therefore are promising for creating a wide range of medical products on their basis: dressings, protective masks, antimicrobial fi lters, etc.关键字：抗菌聚合物，活性氯，N-氯磺酰胺，固定化，抗生素耐药性，微生物渗透性耐药性，敷料，敷料，口罩
HAZ MAT TECH 模块 4：危险品响应人员的高级技能完整描述：危险品技术人员的第四个模块
HAZ MAT TECH 模块 4：危险品响应人员的高级技能 完整描述：危险品技术员课程的第四个模块为危险品响应人员提供了正确控制和减轻损坏容器中危险品所造成的危害的知识。本课程将讨论并允许动手学习以下主题：损坏评估和产品行为、堵塞、修补、圆顶盖夹、过度包装、氯气应急包 A、B、C。我们还将讨论与加压容器、桶和中型散装容器相关的特殊注意事项。设计对象：所有应急响应人员 课程长度：24 小时 课程编号：01-09-0101