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机器人清洁或干洗机器人的缺点
I.引言由于气候变化和全球变暖对我们星球的未来构成了威胁，因此找到满足我们能源需求的环境有益的替代方案比以往任何时候都重要。太阳能产生的动力是最有效的清洁，可再生能源之一。太阳面板使用太阳能量发电。太阳能电池板是最便宜，最低的维护方法，因为它们没有任何活动部件。参考[4]对太阳能电池板效率进行了研究，该研究量化了太阳能电池板在其理论最大效率方面产生的功率。该研究测试了在各种设置中的太阳能电池板的清洁度和跟踪机制，包括固定，清洁，肮脏和固定，肮脏和跟踪以及清洁和跟踪。已经证明，即使通过集成的阳光跟踪，太阳能电池板表面上的灰尘收集也会降低其效率。光传输速率的提高提高了清洁的太阳能电池板的效率[5]。与保持太阳能电池板静止和清洁相比，跟踪它可能会导致效率损失高达50％。大规模发电厂由于太阳能电池板上的尘埃堆积而更频繁地损失兆瓦[6]。能力下降1％可能会对内部收益率（IRR）产生重大影响。相比之下，低水平的尘埃堆积可能不会对小太阳能电厂产生负面影响[7]。在能源行业中，光伏（PV）是一种新技术，可将太阳辐照度（来自太阳的辐射能量转换为电力）。在这里，光伏细胞取下了太阳发出的光子中包含的能量，并将其转化为可用的能量。能源行业已经进行了根本性的转变，因为对PV技术，这使得全球有可能朝着更可持续的能源实践迈进[1，2]。这为光伏部门打开了大门，以便在较早的时候取得巨大的工业进步，并且随着技术的发展而继续这样做。，如果他们遵循实验室规模模型，实验规模模型和当前的PV业务实时运行发电厂的开发，则可以观察到技术的重大进步。为了解决负载中心本身能源需求的问题，并最大程度地减少了对延长传输和分配的需求，这些PV技术已经出现并成为许多其他部门的关键组成部分。商业光伏技术开发导致了大型公用事业或多兆瓦电源设施的创建。实用程序
用于 CMP 后清洗的无氨清洗溶液
摘要 自 2010 年 1 月 1 日起，氨氮是《环境质量法》（EQA）中《工业废水管理条例》中新增的参数之一。根据该条例，工业设施位于集水区上游还是下游，氨氮限值最高限制为 10 ppm 和 20 ppm。然而，由于一些受影响公司的担忧，对于 2010 年之前开始运营的半导体公司，氨氮限值已提高到最初限值的两倍。这一临时限制将放宽至 2020 年 1 月 1 日。氨氮是由晶圆制造行业使用氢氧化铵溶液产生的，特别是在化学机械抛光（CMP）过程中。在 CMP 中，用浆料抛光硅晶圆表面会导致碎屑沉积在晶圆上。抛光后的清洁过程称为 CMP 后步骤。本文重点介绍使用 SpeedFam IPEC (SFI) AvantGaard™ 776 抛光机工具评估 CMP 后清洁效率。CMP 后步骤分为两个阶段，即抛光和擦洗过程。过去的研究人员对 CMP 后清洁进行了研究，但这些研究都无法采用，因为与湿法清洁工艺相比，这些技术在生产规模上不经济，或者所选化学品是氨基的。这项研究的目的是分析抛光和擦洗步骤的清洁效率，并制定一种不含氨的替代溶液，而不会影响清洁效率。研究发现，在抛光步骤中，晶圆上的颗粒被有效去除，去除效率为 99%，特殊配制的酸 SilTerra 清洁溶液 (SCS) 对颗粒和金属的去除能力与氢氧化铵相当，两者都实现了高于 97% 的阳离子和阴离子去除效率。SCS 的独特配方含有过氧化氢、硫酸和添加剂。该化学品是 SilTerra 的专利，由包括通讯作者在内的四位发明人拥有。之所以选择 SCS 进行评估，是因为它含有氧化和溶解污染物的必要成分。在 CMP 后清洗过程中跳过使用化学品的尝试并不理想，因为阴离子去除效率低于 95%。关键词：氨氮、环境和 CMP 后清洗。1. 简介氨氮是衡量废品或废水中氨含量的指标。根据《环境质量法》（工业废水）2009 年法规 [1]，必须对废水废水分析中的氨氮进行监测和报告。
问答2024年6月WA IIS用户培训 - WA IIS Updates
•消毒至关重要，因为仅清洁并不能消除细菌。•仅消毒剂可能不会有效地应对过多的污垢，溢出物或涂片，并且可能会散布污染物。•清洁前不应发生消毒。建议在消毒之前同时清洁和消毒或两步过程进行清洁。
清洁“食品接触表面”
时间：微生物可能通过器皿、砧板、温度计或其他与食物接触的表面从一种食物传播到另一种食物。用于潜在危险食品的与食物接触的表面和设备应全天根据需要进行清洁，但必须每 4 小时清洁一次，以防止微生物在这些表面上生长。冷藏温度会减缓细菌病原体的产生时间，因此无需每四小时清洁一次。与没有潜在危险的食物接触的器皿和设备的表面，如冰茶分配器、碳酸饮料分配器喷嘴、饮料分配电路或管线、自动售水设备、咖啡豆研磨机、制冰机和冰柜，必须定期清洁，以防止产生可能导致微生物积聚的黏液、霉菌或土壤残留物。
