E. T. Crowley 和 R. C. Thomas,《首字母缩略词和首字母缩略词》(第 3 版,密歇根州底特律:盖尔研究公司,约 1970 年)和《海军水下系统中心使用的首字母缩略词、首字母缩略词和缩写精选列表》,comp.Myron S. Hoyt,由 Dorothy E. Kennedy 修订,美国海军水下系统中心,新伦敦
美国宇航局电子零件保证小组 (NEPAG) 每周电话会议 NEPAG 政府工作组 (GWG) 每两周会议 JEDEC 半年会议 每两年一次的中心零件管理会议 • 与太空工业基地工作组 (SIBWG) 合作解决关键问题 • 利用制造商/供应商关系和政府/行业合作伙伴缓解供应链限制
带有自动电流调节器Muhammad Fathurrahman Rustam 1,Asmarashid Ponniran 1 * 1电气和电子工程学院的转换器,马来西亚,马来西亚86400,马来西亚Johor,马来西亚 * https://doi.org/10.30880/eee.2023.04.01.028 2023年1月17日收到; 2023年3月2日接受; 2023年4月30日在线可用:本文着重于锂离子电池充电器系统的电源转换器的设计。将电池用作电源成为高需求,这是良好的电池充电器的铅。为此,提出了使用电池管理系统的电池充电器系统。该系统实现了CC-CV充电方法,用于控制充电过程中电压和电流阶段。pi控制器参与获得恒定电流是密切的循环系统,使用Arduino uno对微控制器进行了编程。该项目结果观察到输出电压和电流并进行分析。此电池充电器系统的功能具有保护机构的电池组平衡,以确保锂离子电池组的安全可靠操作。此充电器适用于各种锂离子电池,可用于电动汽车,便携式电子设备和可再生能源系统等应用。总体而言,该充电器提供了一种可靠,高效且安全的方法,可以使用电源转换器为锂离子电池充电。关键字:电池充电器,CC-CV,锂离子,电源转换器
使用 SF 6 和 CHF 3 气体的工艺 Muhammad Hidayat Mohd Noor 1 , Nafarizal Nayan 1,2 * 1 电气和电子工程学院 (FKEE), Universiti Tun Hussein Onn Malaysia, 86400, Batu Pahat, Johor, MALAYSIA 2 微电子和纳米技术 - Shamsuddin 研究中心 (MiNT-SRC), Universiti Tun Hussein Onn Malaysia, 86400, Batu Pahat, Johor, MALAYSIA *通讯作者指定 DOI:https://doi.org/10.30880/eeee.2022.03.02.010 2022 年 6 月 27 日收稿; 2022 年 7 月 24 日接受; 2022 年 10 月 31 日在线提供摘要:反应离子刻蚀 (RIE) 是一种用于微加工的刻蚀技术,也是干法刻蚀的方法之一,与湿法刻蚀相比具有不同的特性。RIE 中的反应等离子体的化学过程用于去除晶圆上沉积的材料。RIE 蚀刻机有几个可变因素,例如射频功率、压力、气体流速和蚀刻时间,这些因素对应于其蚀刻深度和蚀刻速率的输出参数。需要进行大量实验才能找到 RIE 的最佳设置,从而为输出蚀刻速率建立理想的条件。在本研究中,使用供给 RIE 系统的 SF 6 和 CHF 3 工艺气体对 Si 和 SiO 2 晶圆进行蚀刻。使用 Dektak XT Bruker 表面轮廓仪研究了蚀刻深度和蚀刻速率,并使用 3D 映射模式表征了蚀刻后的 Si 和 SiO 2 的表面粗糙度。结果显示了不同射频功率、时间和流速对蚀刻深度和速率的影响,从而可以选择最佳参数。关键词:反应离子蚀刻、RIE、等离子蚀刻、硅、二氧化硅
•基于任务分类的NASA筛查和批次接受测试标准(星期一 @ 1230 EDT)•航空电子硬度保证准则(星期二 @ 1000 EDT)•从COTS电容器的筛查和资格中学到的经验教训(星期三 @ 1345 EDT)
– 辐射对 EEEE 部件的影响在范围内,管理机构辐射测试设施批量购买也在范围内 – GSFC 是牵头中心,JPL 提供支持 • 为中心提供资源以获得范围内的员工专业知识和一个论坛来协调与利益相关者(例如 OCE、OSMA 等)和客户的活动 • 跟踪机构员工的状态,包括中心的专业知识、需求和能力 • 支持机构的政策和技术决策过程 • 根据需要与外部合作伙伴合作以支持机构目标 • 根据需要发展管理职能
测试峰值推力为 130 牛顿或更低、总冲量高达 100 牛顿秒的固体燃料火箭发动机。它测量了峰值推力、总冲量、燃烧时间、烟火延迟时间和最大壳体外部温度,所有相对精度均为最小预期值的 2%。这相当于优于 0.1%-)-
AD-AO8 083 海军研究生院蒙特利 CA F/8 14/2 微处理器静态测试仪器的开发--EIC(U) SEP 79 AH Barber 未保密 NL _ j.lhEEElhmE ElhhlhhEEEElhE EhlhhEEElhhEEE lllllEEEEelhlhE IIIIIIIIIIIIIII EEEEllllhhlllE EEEEEEni~inhiniEE