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MoP_ Ep4 - 量子力学 TRANSCRIPT.docx
克里斯·蒂普森：首先我要说的是，任何物理学都是奇怪的。量子力学就是这样，更重要的是，它之所以如此，是因为它不仅混淆了我们通常认为的世界真相（考虑到我们对周围中等大小物体的常识理解），而且事物属性的组合方式不符合经典逻辑。因此，我们有一个著名的量子叠加概念。经典物理学中也有叠加的概念。例如，当一个人拨动吉他弦时，就会产生不同频率和不同谐波的叠加，从数学上讲，就是将这些不同的状态相加，以创建一个新的允许状态。但在量子力学中，情况有所不同，因为我们在非经典属性结构的背景下进行了叠加。
开发和噪声技术附录
1。引言1.1克劳利自治市镇通过政策EP4和随附的噪音附件，试图管理发展与噪音之间的关系，以保护人们的生活质量和健康。1.2随着噪音的暴露增加，它将对人产生越来越多的不利影响。受影响的人可能不知道会发生不良影响，尤其是对于健康和认知效应，而烦恼是个人可以清楚地感知的。1.3此外，由于影响是渐进的，因此在最糟糕的情况下，它们会产生深远的影响，从根本上影响生活质量，并可能导致严重的健康和压力与压力有关的问题，便利设施问题以及对生产力和学习的负面影响。1.4噪声通常是孤立考虑的。然而，噪声的暴露也受其他因素的影响，例如属性过热，通风以保持良好的室内空气质量以及与机械通风系统的运行和维护相关的财务成本，以取代旨在替代对开放式窗户的依赖。1.5由于这些原因，噪声敏感性发展与噪声源之间的关系有效，通过本地计划进行了适当的管理是至关重要的。1.6地方计划政策EP4与英格兰的噪声政策声明（2010）1，国家规划政策框架2，规划实践指南3以及在适当的国家政策相对于考虑航空需求的情况下。1.6地方计划政策EP4与英格兰的噪声政策声明（2010）1，国家规划政策框架2，规划实践指南3以及在适当的国家政策相对于考虑航空需求的情况下。1.7本主题论文总结了与噪声相关的影响有关的当前证据，阐明了噪声政策的基本原理以及与本地计划中规定的运输源的噪声有关的标准。本文还提出了有关当地计划对航空来源噪声所采取的方法的理由的更详细的评论。1.8在策略中具有数值阈值是有利的，因为除其他外，它们提供了以下确定性：
使用Greyfmea和RCA方法分析供应链风险，以改善公司Rosmalina Hanafi的运营性能
摘要公司中的供应链流动的过程将取决于拥有的供应链流的复杂性水平。供应链分配流中经常发生的风险是由于存在脆弱性而导致的，这可能会造成少量损失或损失很大的损失。pt XYZ当然通常会面临供应链中的各种风险。进行了这项研究是为了分析PT XYZ供应链的风险，并设计了缓解和控制策略。所使用的方法是确定优先级风险和RCA 5型的Greyfmea，以确定风险和设计缓解策略和处理的根本原因。使用的数据是与公司专家进行的访谈结果。使用Greyfmea计算33种风险的结果获得了从最小到最大的灰色关系的价值，然后基于Pareto 20:80的原则，其中20％的风险代表80％的风险，因此7风险是优先级。缓解策略和处理这7种风险的策略，在木材和硬板中的延迟（ES2）中，即应用正确的库存控制方法并制作SOP来采购商品。损坏热压发动机（EM16）发动机以及对Girocing Machine（EM17）的损坏，该发动机（EM17）是为了制定维护时间表，对备件进行定期检查并添加机器。。在库存数据输入错误（ES1）中，即更新仓库管理信息系统并向员工提供与SIMS相关的培训。向有许可或生病的员工（EM2），即更新工作设施，尤其是用于运营商的椅子和评估员工绩效。在产品返回中的是为残疾提供公差限制，在最终检查中加强监督，并根据包装过程中的Butsudan的颜色和变化来订单。 在对Butsudan（EP4）类型生产的需求变化中，即进行与市场需求趋势和对其他公司产品进行研究有关的研究。是为残疾提供公差限制，在最终检查中加强监督，并根据包装过程中的Butsudan的颜色和变化来订单。在对Butsudan（EP4）类型生产的需求变化中，即进行与市场需求趋势和对其他公司产品进行研究有关的研究。
对海上风力涡轮机的应用评估……
本文利用能源资源混合优化模型 (HOMER) 软件，对沙特阿拉伯延布地区的十种不同风力涡轮机进行了模型和经济性分析。这项研究可帮助决策者选择最合适的风力涡轮机来满足沙特“2030 愿景”中 58.7GW 的可再生能源目标。分析基于涡轮机的初始资本成本、运营成本、净现值成本 (NPC) 和平准化能源成本 (LCOE)。此外，还根据风力涡轮机的发电量、过剩能量和所需存储设备的大小对其进行了比较。结果表明，对于延布村庄的典型负载曲线，Enercon E-126 EP4 风力涡轮机的平准化能源成本 (0.0885 美元/千瓦时) 和 NPC (23.8 美元) 最低，而 WES 30 的平准化能源成本 (0.142 美元/千瓦时) 和 NPC (38.3 美元) 最高。
地方发展计划 - 第1卷 - 苏格兰边界委员会
环境促进和保护（EP）99•政策EP1：国际自然保护地点和受保护物种100•政策EP2：国家自然保护地点和受保护物种103•政策EP3：当地生物多样性和地理多样性105•政策•政策EP4：国家风景区域108•政策•政策EP5•特殊范围EP6•COLIGY EP6：EP6•EP6•112•城镇112•城镇112•城镇112：7：112•城镇112：7：112•环境资产和预定的纪念碑118•政策EP9：保护区122•政策EP10：花园和设计景观125•政策EP11：保护格林斯空间127•政策EP12：绿色网络130•政策EP13：树木，林地和Hedgerows和Hedgerows和Hedgerows 134•政策EP14：COLIGY EP14：COLIGY EP14：POLIGY EP15：EP15•EP15•EP15•YERVIL EP15•EPS EP15•IMPER EP15•IMPART EPS EP15•IMPART EPS EP16•型号138•影响•影响•影响138 EP17：非商业食品种植和社区种植空间142
Brevets d'invention Uitvindingsoctrooien Erfindungspatente ...
目录标题 NP1 包含根据比利时专利法公布的比利时专利申请数据（A1 出版物）。标题 NP2 包含根据比利时专利法授予的比利时专利的数据（B1 出版物）。标题 NP3 包含根据比利时专利法（B3 出版物）部分放弃、部分撤销或部分无效后重新公布的比利时专利的数据。标题 EP1 包含以英语（A1 或 A2 出版物）公布的欧洲专利申请的权利要求书的荷兰语、法语或德语译文的数据。标题 EP2 包含比利时授予和公布的欧洲专利（B1 出版物）的数据，且无需提交翻译。标题 EP3 包含向比利时授予并以英语出版（B1 出版物）的欧洲专利数据，并且已根据比利时专利法提交了荷兰语、法语或德语翻译。标题 EP4 包含比利时授予和以修改形式（B2 或 B3 出版物）重新发布的欧洲专利的数据，且无需提交翻译。标题 EP5 包含授予比利时的欧洲专利数据，并以修改后的形式（B2 或 B3 出版物）重新发布在
原子层沉积 Al2O3 作为热氧化和等离子氧化的屏障
电子邮件：stephane.calvez@laas.fr 简介 原子层沉积 (ALD) 纳米厚的 Al 2 O 3 层或其他电介质层已被证实是一种有效的方法，可用于创建敏感材料封装层，防止其因周围大气中的水分和氧气含量而发生降解 [1,2]。另外，由氧气（分别是水）引起的半导体材料向绝缘体的腐蚀转变，称为干（湿）氧化，通常用于微电子和光子器件以及集成电路的制造，作为引入实现晶圆上光学路由 [3–6] 和/或电连接所需的电和/或光子限制的一种方式。特别是在硅光子器件制造中，后者的工艺通常涉及将硅层在高温或等离子体中暴露于水/氧气中，并通过厚度大于 100 nm 的 SiN x 掩模实现局部氧化保护 [3,4]。在此背景下，我们在此报告了使用 ALD 沉积的 Al 2 O 3 作为节省材料的氧化屏障以防止硅晶片的等离子诱导或高温热氧化的能力的研究。样品制备通过热 ALD 在硅晶片上沉积具有纳米厚度的 Al 2 O 3 薄膜。低压热 ALD 沉积由重复循环组成，每个循环包括 300 ms 的三甲胺铝 (TMA) 脉冲，然后在 N 2 下进行 2800 ms 的吹扫，150 ms 的水蒸气脉冲，以及在 N 2 下进行 6700 ms 的第二次吹扫。这里测试了两个沉积温度，90°C 和 150°C。使用可变角度光谱椭圆偏振法（使用 Accurion EP4 系统）测量所得层厚度。图 1 显示了 Al 2 O 3 厚度随沉积循环次数变化的记录。在 0 个循环时，测量到的厚度对应于天然氧化硅（测量到约 2 纳米）。在 15 个沉积循环之前，成核开始以异质生长（见图 1 插图）。超过 15 个循环后，沉积厚度以每循环生长率 (GPC) 0.19 纳米/循环线性增加，并且与沉积温度的依赖性较弱。随后使用紫外光刻和湿法蚀刻对 Al 2 O 3 涂层样品进行图案化，以获得具有 Al 2 O 3 保护和未保护硅区域的样品。使用稀磷酸（去离子水/H 3 PO 4 (37%) 1/1 溶液）在精确的 67°C 温度下进行层蚀刻，蚀刻速率为 30 纳米/分钟。分别用水和丙酮进行冲洗和清洁。测试了两种类型的氧化：干热氧化和等离子氧化。干热氧化方案包括在 5L/min 的 O 2 流量下从 30°C 开始线性升温（8.2°C/min），然后在 9L/min 的 O 2 流量下以 1000°C 进行恒温步骤，然后在 5L/min 的 O 2 流量下以 -16.3°C/min 的温度衰减。低压 O 2 等离子体氧化在 Sentech Si-500 设备中进行，使用 30 分钟的重复处理，其中样品受到 O 2 等离子体处理，RF 功率为 800W，基板温度保持在 100°C 以下。在这两种情况下，通过成像光谱椭圆偏振法测量处理过的样品的保护区和未保护区的氧化厚度。图 2 左侧显示，如果 Al 2 O 3 厚度大于 ~9 nm（45 个循环），则干氧化不会进行，而对于更薄的覆盖层，干氧化会减少。SEM 横截面（如图 2 中的插图所示）进一步证实了这一观察结果。类似地，观察到等离子体氧化导致氧化物生长遵循平方根定律的时间依赖性（Deal 和 Grove 模型 [7]），但对于（30 次循环）Al 2 O 3 涂层样品部分，其氧化速率降低。