吹扫气体的选择也是此解决方案的重要组成部分。根据与领先的曝光工具 OEM 合作保护扫描仪光学元件的经验,Entegris 已测试并确定了一种行之有效的吹扫气体源,以最大限度地降低和消除光刻工艺的风险。吹扫气体系统已获批准,可与这些相同曝光工具中的透镜组件一起使用。此外,高光学纯度对光罩的数值孔径没有影响。这种吹扫气体源对操作员也更安全,并提供最低的运营成本。Clarilite 系统使用的气体是 Entegris 的极度洁净干燥空气 (XCDA ® )。
Entegris 的突破指示器 (BTI) 提供了一种准确的方法来确定您的 GateKeeper ® GPU 气体净化器何时不再去除水分杂质。此水分传感器安装在气体净化器后,当水分杂质接触传感器时,它会通知您。当发生突破时,就该联系 Entegris 并将净化器送回进行再生。气体净化器的再生可让您最大限度地提高净化器投资回报。结果是以最低的拥有成本进行净化。BTI 可有效测量气流中的水分。水分是几乎所有应用中的问题污染物,使其成为理想的测量污染物。水分也是最先饱和净化器的污染物之一,因为它通常含量最高。
这项创新的核心是我们坚持不懈地致力于与客户密切合作。他们激励我们突破当今技术的极限,为未来提供突破性的解决方案。为了促进这种合作,我们在全球运营中战略性地在靠近客户制造基地的技术中心与客户互动。为了进一步扩大我们与客户成功合作的机会,并创造创新解决方案来应对他们面临的 CMP 挑战,CMC Materials 于 2022 年 7 月成为 Entegris 的一部分。此次交易进一步扩大了 Entegris 的研发足迹,并创建了一个更大的创新科学家和工程师社区,随时准备与客户互动并为他们服务。
为了使碳化硅在功率器件中有效工作,必须对其进行抛光并且没有缺陷。以前,抛光过程耗费大量时间和资源,每片晶圆最多需要 50 小时。Entegris 的团队由 Rajiv Singh 博士领导,开发了一种可在大约一小时内抛光材料的工艺,大大节省了时间和材料。最近的改进将抛光时间进一步缩短至几分钟。这种快速抛光工艺可产生无缺陷、原子级光滑的表面,从而能够制造出性能更高的碳化硅器件,与传统硅器件相比,可将电动汽车电池的充电时间缩短高达 50%。通过促进电动汽车的过渡和清洁能源技术的发展,Entegris 的碳化硅创新正在为更可持续的未来做出贡献。
解决了当今的流控制需求。具有用于湿零件的PFA和PTFE,用于无纹理零件的惰性材料,该阀对严峻的化学环境和外部喷雾具有抵抗力。使用最新的电机驱动器技术,内部电子设备控制阀门步进电动机的各个方面。使用Entegris的高级算法设计驱动阀门以维护所需的设定点。
凭借 50 多年先进晶圆处理和运输经验,Entegris 持续提供安全可靠的 200 毫米晶圆加工解决方案。我们的 200 系列 200 毫米晶圆运输载体可满足当今 200 毫米晶圆厂的自动化、污染控制和生产力要求。这些晶圆载体专为先进晶圆运输而设计,可提供精确的晶圆存取、可靠的设备操作和安全的晶圆保护。
凭借 50 多年先进晶圆处理和运输经验,Entegris 持续提供安全可靠的 200 毫米晶圆加工解决方案。我们的 200 系列 200 毫米晶圆运输载体可满足当今 200 毫米晶圆厂的自动化、污染控制和生产力要求。这些晶圆载体专为先进晶圆运输而设计,可提供精确的晶圆存取、可靠的设备操作和安全的晶圆保护。
Entegris 微载体和细胞分离系统旨在克服一次性系统的用户界面复杂性和经济流程挑战,同时最大限度地提高简单性、易用性和可负担性。该系统通过使用简化的一次性过滤器/网袋系统和蠕动泵来促进分离过程;无需其他设备。只需将未过滤的液体泵送到入口,通过过滤网,然后从第二个端口流出即可。