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gelest推出了两个新的生物安全抗菌
2021年4月5日，宾夕法尼亚州莫里斯维尔 - 材料科学领先的创新者Gelest，Inc。今天宣布，其新的BioSafe®HE4005和HE4001抗菌产品已被批准用作美国EPA和FDA的抗菌防腐剂，以抗生素防腐剂，以直接与成品的食品接触，以保留包括成品食品在内的艺术品。BioSafe HE4005和HE4001是使用无甲醇工艺制造的唯一注册的硅烷季铵铵盐（Silane Quat）抗菌剂。像传统的第四纪铵盐（Quats）一样，硅烷量子可以通过物理破坏微生物的细胞膜并在接触时破坏微生物，从而有效地抵抗广泛的微生物。与传统的Quats不同，硅烷量子可以与各种表面结合，因此提供了对微生物定植的持久保护。市场上有几种经过EPA批准的硅烷Quat抗微生物产品，所有这些产品都是由含有甲醇的原材料制造的。因此，成品可以在一部分硅烷果油中包含多达0.5个甲醇的甲醇。供应商不需要报告甲醇
Gelest 的新生产设施破土动工
宾夕法尼亚州莫里斯维尔，2023 年 7 月 7 日——今天，三菱化学集团旗下的 Gelest, Inc. 迎来了其最新生产设施的奠基，标志着一个新的里程碑。这座占地 50,000 平方英尺的新建筑位于宾夕法尼亚州莫里斯维尔的 Gelest 全球总部，预计于 2024 年 9 月完工。在生产的第一阶段，Gelest 计划招聘 25 多名员工，随着业务规模扩大以满足不断增长的客户需求，还将进行额外的招聘阶段。三菱化学集团定制合成部门副总裁兼 Gelest 总裁 Jonathan Goff 分享道：“我们正在利用当地劳动力的技术专长并从当地大学招聘人才。此外，我们正在支持在岸业务趋势，从而加强美国先进制造业关键材料的供应链。”新工厂将增强 Gelest 的生产能力，支持从微电子和医疗设备到先进的热涂层和移动性等各种客户应用。作为与加州弗里蒙特的 Lam Research Corp. 战略合作的一部分，Gelest 将开发和生产用于 Lam 突破性的 EUV 光刻干光刻胶技术的前体化学品。干光刻胶 EUV 技术是一种先进的半导体制造技术，有望推动半导体市场的下一代逻辑和 DRAM 技术。这种前体生产将成为新大楼中商业规模运营的一项关键技术，
Gelest BIOSAFE® 抗菌技术被国家擦拭器联盟选用于其 QUAT KEEPERTM 食品服务毛巾
客户：Gelest 媒体联系人：Mike Rubin 732-982-8238 mike.rubin@hapmarketing.com 立即发布
Lam Research、Entegris 和 Gelest 联手推进 EUV 干光刻胶技术生态系统 2022 年 7 月 12 日 合作提供强大的化学品供应链
Lam Research、Entegris、Gelest 联手推进 EUV 干光刻胶技术生态系统 2022 年 7 月 12 日 该合作为采用突破性技术的全球芯片制造商提供强大的化学品供应链，并支持下一代 EUV 应用的研发 旧金山，2022 年 7 月 12 日 /美通社/ -- SEMICON WEST 2022 -- Lam Research Corp. (NASDAQ: LRCX)、Entegris, Inc. (NASDAQ: ENTG) 和三菱化学集团旗下公司 Gelest, Inc 今天宣布达成战略合作，该合作将为全球半导体制造商提供可靠的前体化学品，用于 Lam 突破性的极紫外 (EUV) 光刻胶干光刻胶技术，这是生产下一代半导体的创新方法。 双方将共同致力于 EUV 干光刻胶技术研发，用于未来几代逻辑和 DRAM 产品，帮助实现从机器学习和人工智能到移动设备的一切。强大的工艺化学品供应链对于 EUV 干光刻胶技术融入大批量生产至关重要。这项新的长期合作进一步拓宽了干光刻胶技术不断发展的生态系统，并将提供来自半导体材料领导者的双源供应，确保在全球所有市场持续交付。此外，Lam、Entegris 和 Gelest 将共同努力，加速开发未来具有成本效益的 EUV 干光刻胶解决方案，用于高数值孔径 (high-NA) EUV 图案化。高 NA EUV 被广泛视为未来几十年器件持续缩小和半导体技术进步所需的图案化技术。干光刻胶提供高蚀刻抗性和可调节的沉积和开发厚度缩放，以支持高 NA EUV 降低的焦深要求。Lam Research 执行副总裁兼首席技术官 Rick Gottscho 表示：“干光刻胶技术是一项突破，它打破了使用 EUV 光刻技术扩展到未来 DRAM 节点和逻辑的最大障碍。” “此次合作将 Lam 的干光刻胶专业知识和尖端解决方案与两家行业前体化学品领导者的材料科学能力和值得信赖的供应渠道结合在一起。干光刻胶生态系统的这一重要扩展为该技术令人兴奋的新水平创新和大批量生产铺平了道路。”干光刻胶最初由 Lam 与 ASML 和 IMEC 合作开发，它提高了 EUV 光刻的分辨率、生产率和良率，从而解决了与创建下一代 DRAM 和逻辑技术相关的关键挑战。它提供了卓越的剂量与尺寸和剂量与缺陷率性能，从而提高了 EUV 扫描仪的生产率并降低了拥有成本。此外，Lam 的干光刻胶工艺比传统光刻胶工艺消耗更少的能源，原材料消耗减少五到十倍，从而提供了关键的可持续发展优势。“Lam 的干光刻胶方法体现了材料层面的关键创新，并提供了广泛的优势，包括更好的分辨率、更高的成本效益和令人信服的可持续发展优势，”Entegris 首席执行官 Bertrand Loy 表示。“我们很自豪能够成为这一创新合作的一部分，以加速干光刻胶的采用，并成为客户值得信赖的工艺材料供应商，帮助他们利用这一重要技术创造下一代半导体。”“我们与 Lam 和 Entegris 合作推进 EUV 光刻的干光刻胶，表明我们致力于支持芯片制造商在材料科学方面的创新，”三菱化学集团旗下公司 Gelest 总裁 Jonathan Goff 表示。“我们看到 EUV 近年来展现出非凡的价值，我们很高兴成为不断发展的生态系统的一部分，以扩大其潜力。”关于 Lam Research Lam Research Corporation 是一家为半导体行业提供创新晶圆制造设备和服务的全球供应商。 Lam 的设备和服务使客户能够制造更小、性能更好的设备。事实上，如今几乎每款先进芯片都是采用 Lam 技术制造的。我们将卓越的系统工程、技术领导力和强大的价值观文化与对客户的坚定承诺相结合。Lam Research (Nasdaq: LRCX) 是一家财富 500 强® 公司，总部位于加州弗里蒙特，业务遍布全球。了解更多信息，请访问 www.lamresearch.com (LRCX-T)“关于 Lam Research Lam Research Corporation 是面向半导体行业的创新晶圆制造设备和服务的全球供应商。Lam 的设备和服务使客户能够制造更小、性能更好的设备。事实上，如今几乎每个先进芯片都是采用 Lam 技术制造的。我们将卓越的系统工程、技术领导力和强大的价值观文化与对客户的坚定承诺相结合。Lam Research (Nasdaq: LRCX) 是一家财富 500 强® 公司，总部位于加利福尼亚州弗里蒙特，业务遍布全球。了解更多信息，请访问 www.lamresearch.com (LRCX-T)“关于 Lam Research Lam Research Corporation 是面向半导体行业的创新晶圆制造设备和服务的全球供应商。Lam 的设备和服务使客户能够制造更小、性能更好的设备。事实上，如今几乎每个先进芯片都是采用 Lam 技术制造的。我们将卓越的系统工程、技术领导力和强大的价值观文化与对客户的坚定承诺相结合。Lam Research (Nasdaq: LRCX) 是一家财富 500 强® 公司，总部位于加利福尼亚州弗里蒙特，业务遍布全球。了解更多信息，请访问 www.lamresearch.com (LRCX-T)