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摩擦学涂层的表面表征：磨损特性，厚度和粗糙度
我们的研究重点是改善钻石（例如碳（DLC）涂层）的摩擦力特性，该特性由新型PVD技术高功率脉冲磁铁溅射（HIPIMS）沉积，并在工具钢上呈阳性脉冲。这些涂层由于其非凡的特性而引起了行业的极大兴趣：出色的耐磨性，非常低的摩擦系数，出色的硬度或生物相容性。这些研究的目的是改善不同钢底物上DLC涂层的摩擦力特性，例如粘合剂或耐磨性。
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•原子层处理（ALP）•生物医学应用的涂料和过程•用于能量转化和相关过程的涂层•通过人工智能，机器学习，模拟和数据科学进行数字化转换•电子光束过程•电子束工艺过程•电子束工艺•新兴和应用程序•高级材料•涂层•涂层•涂料•涂料•涂料•涂料•涂料•涂料•涂料•涂料•涂料•涂料，电子设备•等离子体处理和诊断•过程监控，控制和自动化•保护性，摩擦学和装饰涂层•量子计算•选择性原子量表过程•薄膜的薄膜贡献•氢经济贡献•薄膜传感器•薄膜•二维（2D）材料和异性范围的材料和异性范围和高级表现•展示•展示•展示•展示•网络范围•展示•网络范围•网络范围•展示•网络滚动•滚动•网络滚动•网络滚动•
卢德维克·马蒂努 (Ludvik Martinu)，蒙特利尔理工学院
摘要：通过真空气相沉积工艺合成薄膜和涂层可以定制微观结构和成分，以获得结合机械、摩擦学、电化学、光学、电气和其他特性以及涂层系统在恶劣环境中的耐久性等良好控制的功能和多功能特性。本演讲将介绍一种整体功能涂层和表面工程方法，依靠对材料、工艺和微观结构之间相互作用与最终性能的深入了解。在第一部分中，我们将简要概述采用物理气相沉积（PVD，特别是磁控溅射包括 HiPIMS 和真空电弧沉积）和化学气相沉积（CVD，特别是等离子增强 CVD（PECVD）和原子层沉积（ALD））的薄膜制造技术的进展，特别强调对能量表面相互作用的理解，以控制纳米级涂层微观结构的演变。在第二部分中，我们将通过飞机和卫星不同部件的具体示例和案例研究，说明航空航天和外层空间应用功能涂层开发面临的挑战、进展和新机遇。选定的示例包括：
Nelso Antolotti，Michael K. A. Khor和Daniel Sordelet
摘要：基于真空的蒸气沉积过程合成胶片和涂料，可以调整微观结构和组成，以获得良好的控制功能和多功能特性，结合了机械，摩擦学，电子化学，光学，光学，光学，电气，电气和其他属性的机械性能，以及其他覆盖的系统效果，以及均匀的覆盖系统。本演讲将描述一种对功能涂层和表面工程的整体方法，该方法依赖于对最终性能的材料，过程和微观结构之间相互作用的深入了解。In the first part, we will provide a brief overview of the advances in film fabrication technologies employing physical vapor deposition (PVD, in particular, magnetron sputtering including HiPIMS, and vacuum arc deposition) and chemical vapor deposition (CVD, in particular, plasma enhanced CVD (PECVD), and atomic layer deposition (ALD)), with a particular emphasis on the understanding of能量表面相互作用，用于控制纳米级涂层微结构的演变。在第二部分中，我们将通过特定的例子和案例研究来说明在航空航天和外层空间应用开发实用涂料方面的挑战，进度和新机会，并考虑了飞机和卫星的不同组成部分。选定的示例将包括：
![arXiv:2207.11913v2 [physics.app-ph] 2022 年 9 月 22 日](/simg/8\80b88ce3d09b91dce45e94d7eaaca1da899de7a4.webp)
arXiv:2207.11913v2 [physics.app-ph] 2022 年 9 月 22 日
量子信息技术中必不可少的量子器件是在硅或蓝宝石晶片上制造的。最近的研究发现，晶片中的声学模式可以在量子态操控中发挥重要作用，包括声学和量子比特态之间的交换操作，从而导致冷却 1,2。声学模式由晶片上制备的压电换能器产生。这通常是材料声学研究最常用的方法，其中电极与换能器粘合，而换能器与感兴趣的样品直接接触。换能器对振荡电压的压电响应将电磁信号转换为机械振荡。在某些情况下，让电极或换能器与样品物理接触是不可取的或不切实际的。在这里，我们展示了一种用于产生和测量材料中声学共振的非接触式技术。Dobbs 3 描述了使用螺线管和静磁场在金属中产生声学共振。电磁信号与机械振动之间的耦合是通过磁场产生的洛伦兹力实现的，从而无需使用压电材料。洛伦兹力发生在金属表面或射频 (RF) 穿透深度内，从而在体内产生声学模式。通过这种方法，我们研究了硅晶片中的高谐波声学模式，精确测量了纵向和横向声速并计算了相应的弹性常数。我们的样品是一块 [001] 单晶硅晶片，一侧覆盖有 Nb 薄膜。样品从最初直径为 15 厘米的商用晶片上切割下来，尺寸为 4mmx 4mmx 330 µ m（浮区，电阻率 > 10,000 Ωcm）。本文详细描述的结果针对的是厚度为 155 nm 的 Nb 薄膜，由 Rigetti Computing 采用高功率脉冲磁控溅射 (HiPIMS) 制备。高达 14 T 的高磁场敏感度测量