gdoes提供了元素深度轮廓,是分析涂层和处理过的材料表面和接口的强大工具。gdoes结合了由脉冲射频(脉冲RF)用光发射光谱仪提供动力的发光放电。GD等离子体尖端逐层旋转样品的代表区域,同时激发了提取的原子。通过高分辨率光学元件检测到所获得的发光,给出了元素组成,而侵蚀速率,层厚度和深度则是用内置的专利差异干涉仪(DIP)测量的。可以使用样品映射单元(可改装)进行GDOES操作的完整自动化。
这种基于模型的方法允许在产品开发计划的早期阶段进行“前期加载”和更准确、更稳健的目标设定。虚拟环境和车辆可用于遵循基于场景的开发方法,该方法使用基于虚拟的车辆系统、环境和 RDE 场景开发和验证系统硬件在环 (HiL)。
这种基于模型的方法允许在产品开发计划的早期阶段进行“前期加载”和更准确、更稳健的目标设定。虚拟环境和车辆可用于遵循基于场景的开发方法,该方法使用基于虚拟的车辆系统、环境和 RDE 场景开发和验证系统硬件在环 (HiL)。
SEC-R100 系列质量流量控制器的总体结构如右图所示。这些质量流量控制器具有流量测量部分,其中包括热传感器和匹配的旁路。流量控制由高性能电磁流量控制阀管理。这两个部分由电子设备结合在一起,电子设备利用超快 CPU 和电子设备来管理 PID 和通信。
SEC-R100 系列质量流量控制器的总体结构如右图所示。这些质量流量控制器具有流量测量部分,其中包括热传感器和匹配的旁路。流量控制由高性能电磁流量控制阀管理。这两个部分由电子设备结合,电子设备利用超快 CPU 和电子设备来管理 PID 和通信。
SEC-R100 系列质量流量控制器的总体结构如右图所示。这些质量流量控制器具有流量测量部分,其中包括热传感器和匹配的旁路。流量控制由高性能电磁流量控制阀管理。这两个部分由电子设备结合,电子设备利用超快 CPU 和电子设备来管理 PID 和通信。
SEC-R100 系列质量流量控制器的总体结构如右图所示。这些质量流量控制器具有流量测量部分,其中包括热传感器和匹配的旁路。流量控制由高性能电磁流量控制阀管理。这两个部分由电子设备结合,电子设备利用超快 CPU 和电子设备来管理 PID 和通信。
SEC-R100 系列质量流量控制器的总体结构如右图所示。这些质量流量控制器具有流量测量部分,其中包括热传感器和匹配的旁路。流量控制由高性能电磁流量控制阀管理。这两个部分由电子设备结合,电子设备利用超快 CPU 和电子设备来管理 PID 和通信。