XiaoMi-AI文件搜索系统
World File Search SystemHOYA
发现Hoya ID镜头家族
ID技术是Hoya革命性的进步镜头设计技术，使眼保健专业人员能够为每个患者提供更精确的视力校正。 我们专利的综合双面（ID）设计专门为您的世界方式而形成镜头。 他是在前后表面和背面塑造镜头设计的第一个也是唯一的技术，这会导致近距离和远距离之间的更舒适的过渡，更广阔的观看区域，从而大大降低了外围视觉中的模糊。ID技术是Hoya革命性的进步镜头设计技术，使眼保健专业人员能够为每个患者提供更精确的视力校正。我们专利的综合双面（ID）设计专门为您的世界方式而形成镜头。他是在前后表面和背面塑造镜头设计的第一个也是唯一的技术，这会导致近距离和远距离之间的更舒适的过渡，更广阔的观看区域，从而大大降低了外围视觉中的模糊。
产品对比表 - HOYA Vision Care
©2024 HOYA Corporation。保留所有权利。Hoyalux iD MyStyle、Hoyalux iD LifeStyle、Hoyalux Array、Tact、Phoenix、Super HiVision、Super HiVision EX3、Sensity、View Protect、Hoyalux Summit、Recharge、HiVision、BKS Technology、Diamond Tint、Summit 和 Amplitude 是 HOYA Corporation 的注册商标。EX3+、iD Single Vision、Single Vision iQ、Sync III、Integrated Dual Surface、Integrated Dual Side、Binocular Harmonization Technology、View Xpansion Technology、Stabilight Technology、Binocular Eye Model、3D Visual Acuity Simulation、ST28 iQ、iD Space、iD Screen、iD Zoom、MySV、360° Visual Comfort、Meiryo、EX4、3D Binocular Vision 和 Visionary Alliance 是 HOYA Corporation 的商标。 Transitions、Transitions Signature、XTRActive 和 Vantage 是注册商标，Transitions 徽标是 Transitions Optical, Inc. 的商标，由 Transitions Optical Limited 授权使用。GEN 8 和 Light under control 是 Transitions Optical Limited 的注册商标。所有其他商标、注册商标和版权均归其各自所有者所有。04.24
Hoyalux iD MyStyle® 2 - 豪雅视力保健
通过记录所有信息，全新 HOYA iDentifier™ 可计算出远距离、中距离和近距离的最佳设计，然后将它们组合成适合个人的理想分布。大多数设计只能提供有限的“易于选择”的个性化选项。我们独特的系统可确保完全个性化的视觉轮廓，满足最极端的视觉需求。
产品对比表 - HOYA Vision Care
• 无限设计变化的个性化巅峰之作 • 利用交互式咨询程序收集患者信息、生活方式要求和佩戴偏好，以创建独特个性化的镜片 • 结合集成双面 (iD) 设计技术和双眼协调技术™ 实现理想的双眼视觉，实现真正个性化的设计 • 每一副都采用 HOYA 专利的双眼模型™ 和 3D 视觉敏锐度模拟™ 设计 • 提供四种便捷选项：现代、细节、冒险、稳定
Hoya Group ISO认证获取状态
*4 Hoya Lens韩国有限公司共同获得了相同的操作和Ochang工厂，因此将地点数量设置为1/它与Hoya Lens韩国有限公司相同的地点ochang植物，将地点数量计为一个
最新技术对我们的视力有何影响？
HOYA 凭借专为您的数字生活方式而设计的最新 iD 镜片，在技术与体验之间架起了桥梁。HOYA iD Space、iD Screen 和 iD Zoom 镜片同时利用前后表面，带来无与伦比的工作空间舒适度。
2.0 OD 50mm 方形吸收式 ND 滤镜
Hoya 吸收性中性密度 (ND) 滤光片在可见光区域具有水平光谱透射特性，并通过吸收衰减光线，同时将反射降至最低。通常，吸收性滤光片的中性和密度取决于材料和厚度。由于 Hoya 中性密度滤光片具有特定的光学密度，因此厚度仅取决于玻璃类型。Hoya 吸收性中性密度 (ND) 滤光片可用于测量仪器的光控制应用和成像中的曝光控制。随着光学密度的增加，光谱会发生变化。
立足过去，展望未来
一般成员 Frank E. Abboud，英特尔公司 Uwe FW Behringer，UBC Microelectronics Ingo Bork，西门子 EDA Tom Cecil，Synopsys 公司 Brian Cha，Entegris 韩国 Aki Fujimura，D2S 公司 Emily Gallagher，imec Jon Haines，美光科技公司 Koji Ichimura，大日本印刷株式会社 Bryan Kasprowicz，HOYA Romain J Lallement，IBM 研究 Khalid Makhamreh，应用材料公司 Kent Nakagawa，Toppan Photomasks 公司 Patrick Naulleau，EUV Tech 公司 Jan Hendrik Peters，bmbg consult Steven Renwick，尼康 Douglas J. Resnick，佳能纳米技术公司 Thomas Scheruebl，卡尔蔡司 SMT GmbH Ray Shi，KLA 公司 Thomas Struck，英飞凌科技股份公司 Anthony Vacca，自动视觉检测 Andy Wall，HOYA Michael Watt， Shin-Etsu MicroSi Inc. Larry Zurbrick，是德科技公司
