摘要——我们通过实验证明了蓝宝石衬底上工作温度高达 400 ◦ C 的坚固的 β-氧化镓 (β-Ga 2 O 3) 铁电 (FE) 场效应晶体管 (FeFET)。原子层沉积 (ALD) Hf 0.5 Zr 0.5 O 2 [氧化铪锆 (HZO)] 用作 FE 电介质。研究了 HZO/β-Ga 2 O 3 FeFET 在高温下的突触行为应用。这些器件表现出可区分的极化切换操作,输出电导由 FE 门上的输入脉冲数准线性控制。在模拟中,使用带有简单的两层多层感知器 (MLP) 网络的修改后的国家标准与技术研究所 (MNIST) 数据集,片上学习准确率在高温下达到 94%。这些超宽带隙半
目的:疱疹带状疱疹(HZO)在患者的日常生活和工作中造成麻烦。在严重的情况下,它甚至可能导致视力降低或丧失。了解住院治疗患者的人口统计信息和眼部症状,并找到与出院时皮疹和眼症状持续时间改善时间有关的潜在因素,我们设计了这项研究。患者和方法:这是一项回顾性研究。本研究包括2015年1月1日至2021年12月30日在中国重庆医院的皮肤病学院住院的HZO患者。这项研究总共包括189名患者。住院期间疾病的临床表现,眼皮病变的改善时间以及眼皮肤病变是否在出院时是否完全消失。结果:最常见的眼部症状是眼睑肿胀(92.6%),其次是眼痛(48.7%)。最常见的眼部标志是结膜炎(78.3%),其次是角膜炎(15.9%)。有149例没有残留的眼症状和40例残留眼症状的病例。两组之间的人口统计学特征没有统计学上的显着差异(p> 0.05)。Age ≥70 years (B=0.381, −0.061~0.022, P=0.005), use of glucocorticoids (B=0.260, 0.024~0.496, P=0.031), and use of topical antiviral drugs (B=0.380, 0.054~0.705, P=0.023) were factors affecting the time interval from接受皮疹改善。关键字:带状疱疹眼科医生,临床表现,疾病结果,危险因素撕裂(HR,OR = 4.827,1.956〜11.909,p <0.001)和血尿素氮(OR = 0.787,0.620–1.000,p = 0.050)是影响残留眼症状的因素。结论:这项研究可以帮助临床医生对HZO患者的临床表现和部分影响因素有更深入的了解,这可能有助于未来的临床工作。
结果总共包括16例408例患者,其中12 762例未接种疫苗(7806 [61.2%]女性;诊断时平均[SD]年龄为68.8 [10.3]岁)和3646疫苗接种疫苗(2268 [62.2%]女性;平均[SD]年龄;在指数日期后的56天的主要风险期内(即,结果的随访开始),任何RZV暴露后HZO复发的发生率为每1000人年37.7个,而暴露组中的1000人年为26.2。在控制种族和种族,住院治疗,急诊室就诊,伴随疫苗和眼保健从业者就诊之后,初级风险时期的疫苗接种状况与HZO加剧之间的关联具有调整后的危害率,即任何RZV暴露于1.64(95%CI,1.011-11-2.67; p = .04; p = .04; p = .04; p = .04; p = .04;
摘要HF 0。5 ZR 0。 5 O 2(Hzo)基于基于铁的铁电场晶体管(FEFET)Synapse是符合处尺度深神经网络(DNN)应用的承诺候选者,因为其高对称性,准确的准确性,良好的准确性和快速运行速度。 然而,随着时间的流逝,由去极化场引起的remanent极化(P R)的降解尚未有效地解决,从而极大地影响了受过训练的DNN的准确性。 在这项研究中,我们证明了使用FE模式进行高速重量训练的铁电(Fe)抗性切换(RS)可切换突触,并进行稳定的重量存储的RS模式,以克服准确性降解。 FE-RS杂交特性是通过具有非对称电极的基于HZO的金属 - 有线金属(MFM)电容器来实现的,最佳的Fe耐力以及最可靠的RS行为可以通过测试多种电极材料来证明。 在FE和RS模式下都可以实现高内存窗口。 通过这种设计,通过网络仿真验证,随着时间的流逝,保持出色的精度。5 ZR 0。5 O 2(Hzo)基于基于铁的铁电场晶体管(FEFET)Synapse是符合处尺度深神经网络(DNN)应用的承诺候选者,因为其高对称性,准确的准确性,良好的准确性和快速运行速度。然而,随着时间的流逝,由去极化场引起的remanent极化(P R)的降解尚未有效地解决,从而极大地影响了受过训练的DNN的准确性。在这项研究中,我们证明了使用FE模式进行高速重量训练的铁电(Fe)抗性切换(RS)可切换突触,并进行稳定的重量存储的RS模式,以克服准确性降解。FE-RS杂交特性是通过具有非对称电极的基于HZO的金属 - 有线金属(MFM)电容器来实现的,最佳的Fe耐力以及最可靠的RS行为可以通过测试多种电极材料来证明。在FE和RS模式下都可以实现高内存窗口。通过这种设计,通过网络仿真验证,随着时间的流逝,保持出色的精度。
作为非易失性记忆设备的有前途的候选人,基于Hafnia的铁电系统最近一直是一个热门研究主题。尽管在过去十年中取得了显着进步,但耐力问题仍然是其最终应用的障碍。在基于钙钛矿的铁电磁体中,例如研究良好的PB [Zr X Ti 1-X] O 3(PZT)家族,在电荷缺陷(例如氧气空位)与移动域的相互作用的框架内讨论了极化疲劳,尤其是在电极界面上,尤其是在转换过程中。武装在这种背景下,设定了一个假设,以检验类似的机制可以与基于Hafnia的铁电机一起发挥作用。导电钙钛矿LA-SR-MN-O用作建立LA 0.67 SR 0.33 MNO 3 / HF 0.5 Zr 0.5 O 2(HZO) / LA 0.67 SR 0.67 SR 0.67 SR 0.33 MNO 3 MNO 3式结构的接触电极。纳米级X射线差异在单个电容器上进行,并在双极切换过程中证明了从极性O期向非极性M期的结构相变。已在不同的氧空位浓度下计算了多相HZO的能量格局。基于理论和实验结果,发现在电循环过程中由氧空位再分配引起的极性到非极相变,这可能是HZO疲劳的一种解释。
摘要:已经广泛研究了基于HFO 2的铁电材料,用于将其用于铁电FET,这与常规CMOS过程兼容。但是,材料固有的疲劳特性的问题限制了其用于设备应用的潜力。本文系统地研究了拉伸应力和退火温度对ZR掺杂的HFO HFO 2铁电灯面临的耐力和铁电特性的影响。残余极化(P R)显示了退火温度的趋势增加,而在与应激或退火温度的关系方面,强制性电场(E C)的变化并不明显。此外,拉伸应力的应用确实有助于将耐力特性提高到两个数量级的数量级,而耐力特性显示出与退火温度负相关的趋势。总体而言,尽管应力对HZO材料的铁电性的影响并不明显,但它对其耐力的特性具有很大的影响,并且可以优化材料的耐力,而铁电性对温度的依赖性更高。通过压力优化HZO材料的耐力特性可以促进其在未来的集成电路技术中的开发和应用。
摘要 — 随着铁电铪锆氧化物 (HZO) 在铁电微电子学中的应用越来越广泛,了解有意和无意电介质界面的集成影响及其对铁电薄膜唤醒和电路参数的影响变得非常重要。在这项工作中,测量了在具有 NbN 电极的 FeRAM 应用的电容器结构中铁电 Hf 0.58 Zr 0.42 O 2 薄膜下方添加线性电介质氧化铝 Al 2 O 3 的影响。观察到由线性电介质产生的去极化场会导致铁电体的剩余极化降低。氧化铝的添加还会影响 HZO 相对于施加的循环电压的唤醒。与 FeRAM 1C/1T 单元的设计密切相关,观察到金属-铁电-绝缘体-金属 (MFIM) 设备会根据氧化铝厚度和唤醒循环电压显著转移与读取状态相关的电荷。测量结果显示读取状态分离减少了 33%,这使存储单元的设计变得复杂,并说明了设备中清晰接口的重要性。
铁电场效应晶体管 (FeFET) 因其良好的工作速度和耐用性而成为一种引人注目的非易失性存储器技术。然而,与读取相比,翻转极化需要更高的电压,这会影响写入单元的功耗。在这里,我们报告了一种具有低工作电压的 CMOS 兼容 FeFET 单元。我们设计了铁电 Hf 1-x Zr x O 2 (HZO) 薄膜来形成负电容 (NC) 栅极电介质,这会在少层二硫化钼 (MoS 2 ) FeFET 中产生逆时钟极化域的磁滞回线。不稳定的负电容器固有支持亚热电子摆幅率,因此能够在磁滞窗口远小于工作电压的一半的情况下切换铁电极化。 FeFET 的开/关电流比高达 10 7 以上,在最低编程 (P)/擦除 (E) 电压为 3 V 时,逆时针存储窗口 (MW) 为 0.1 V。还展示了强大的耐久性 (10 3 次循环) 和保留 (10 4 秒) 特性。我们的结果表明,HZO/MoS 2 铁电存储晶体管可以在尺寸和电压可扩展的非易失性存储器应用中实现新的机会。
†同等贡献;电子邮件:aaron.thean@nus.edu.sg摘要 - 我们首次成功证明了创新的后端(beol)兼容的电磁调节器和内存(Eomm)基于niobate基于绝缘体(LNOI)的niobate(lnoi)Micro-Ring Rings Resonator(MRR)的5 ZRRING 0. ZRRICTRRICRICRICRICRICRICRICTRRICRICTRICTRICTRICRICRICTRRICRICTRICRICRICTRICTRICTRICTRICTRICRICRONE (HZO)非挥发性模拟记忆。高的非易失性记忆和调制性能都在单个紧凑型装置中实现,高灭绝比为13.3 dB,出色的效率为66 pm/v,稳定的九态开关,创纪录的耐力超过10 9个循环。这是通过利用LNOI中的Pockels效应来实现的,这是由残留的HZO铁电偏振的电场效应引起的。我们研究了由Eomm和Hybrid热光调制的Eomm启用的可重新配置的Chiplet-interposer光子互连的系统实现。我们的模型显示出与常规电气插座互连相比,潜在的70%能效提高。我们还测试了Eomm与Poet Technologies的400G TX/RX光学插入器芯片的集成,并研究了Eomm设备的有限规模演示。
摘要:HfO 2 中铁电性的发现引起了人们对其在存储器和逻辑中的应用的极大兴趣,因为它具有 CMOS 兼容性和可扩展性。使用铁电 HfO 2 的器件正在被研究;例如,铁电场效应晶体管 (FEFET) 是下一代存储器技术的主要候选者之一,因为它具有面积小、能效高和运行速度快等优点。在 FEFET 中,铁电层沉积在 Si 上,界面处不可避免地会形成厚度约为 1 nm 的 SiO 2 层。该界面层 (IL) 增加了切换极化和写入存储器所需的栅极电压,从而增加了操作 FEFET 所需的能量,并使该技术与逻辑电路不兼容。本研究结果表明,铁电 Hf 0.5 Zr 0.5 O 2 基金属氧化物半导体 (MOS) 结构中的 Pt/Ti/薄 TiN 栅极电极可以远程清除 IL 中的氧气,将其减薄至约 0.5 纳米。IL 的减少显著降低了铁电极化切换电压,同时剩余极化强度增加约 2 倍,极化切换突变度增加约 3 倍,这与密度泛函理论 (DFT) 计算结果一致,该计算模拟了 IL 层在栅极堆栈静电中的作用。剩余极化强度和极化切换突变度的大幅增加与清除过程中的氧扩散相一致,氧扩散减少了 HZO 层中的氧空位,从而使部分 HZO 晶粒的极化脱钉扎。关键词:铁电性、远程清除、夹层、EOT 减少、极化■ 介绍