图1:具有标准钝化为离子敏感层的CMOS ISFET,信号转换的扩展门电极和下方的MOSFET,对氢离子(H +)敏感。H +的吸附或释放改变了闸门的电池,这会改变源和排水之间的电流。因此,可以测量与与表面结合的H +离子成正比的电信号变化。与可自定义的特殊过程相比,标准CMOS流程中的ISFET可以开发和制造更具成本效益。,这也面临着几个挑战:首先,作为离子敏感层的标准钝化会引起对最大斜率的敏感性,因为在25°C时NERNST的59 mV/pH值和信号漂移中的59 mV/pH值。此外,ISFET的操作点移动和
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