作者:Fredrik Cederholm 主管:Kjetil Duvold 考官:Erik Lundberg,达拉纳大学政治学讲师。学科/专业领域:政治学 课程代码:SK 2016 分数:15 考试日期:在达拉纳大学,可以在 DiVA 上全文发表论文。该出版物是开放获取的,这意味着该作品可以免费在线阅读和下载。这增加了论文的传播和知名度。
jos van of the Have of **,圣所的Sergence。 Elizabeth Bergeh Nilsen,Kalijn Bol,Andreas Brandl,O,Jerry Braun,Tanja Cufer Q,Ginhoven,Santiago Gonzalez-Moreno W,Jos van D'R,Merlin Hutteman P,Yazan Masannat X,Eliza faster fastema Domenico d'ugo在这里,金星在这里,Lynda Wyld AJ,Ane Gerda Zahl Eriksson
∗ 之前发布的名称是“创新网络和创新政策”。我们感谢 Chad Jones(编辑)、三位匿名审稿人、Philippe Aghion、Manuel Amador、Paul Antras、David Atkin、Salome Baslandze、Ariel Burstein、Lorenzo Caliendo、Vasco Carvalho、Ben Golub、Jill Grennan、Matt Jackson、Ben Jones、Chad Jones、Hugo Hopen-hayn、Bill Kerr、Pete Klenow、Sam Kortum、Atif Mian、Ezra Field、Bruno Pelligrino、Alessandra Peter、Stephen Redding、Peter Schott、Kjetil Storesletten、Alireza Tahbaz-Salehi、Aleh Tsyvinski、John Van Reenen、Jaume Ventura、Heidi Williams 和 Kei-Mu Yi 提供的有益反馈。我们还感谢许多研讨会和会议参与者的见解和评论。 Xugan Chen、Tianyu Fan 和 Daojing Zhai 提供了出色的研究协助。 † 普林斯顿大学经济学系和 NBER,ernestliu@princeton.edu。 ‡ 耶鲁大学管理学院和 NBER。
本文采纳了《中国资本市场和殖民机构》初稿的部分内容。感谢白英、瑞埃斯特维斯、方汉明、泰勒·贾沃斯基、贾瑞雪、汤姆·罗斯基、杰拉德·罗兰、凯蒂尔·斯托莱斯莱滕、魏尚进、迈克尔·郑以及在各种研讨会和会议上提出评论的听众。本文取代了《中国资本市场和殖民机构》初稿。我们特别感谢白英和贾瑞雪通过提供数据支持本项目。凯尔·巴茨、泽维尔·吉蒂奥克斯、李培元、刘易贝、内特·内利、奥斯汀·史密斯和泰勒·博丁史密斯提供了出色的研究协助。非常感谢美国国家科学基金会(拨款 SES 1124426)的支持。本文表达的观点为作者的观点,并不一定反映美国国家经济研究局的观点。
∗我们要感谢李·斯皮格尔(Zheng Liu),我们的讨论者马克·斯皮格尔(Mark Spiegel),洛伦·布兰特(Loren Brandt)和皮特·克莱诺(Pete Klenow),以及在旧斯科斯科联邦储备银行的亚洲经济政策会议(AEPC)的参与者,以提供宝贵的建议。我们从与Helu Jiang,Qiusha Peng,Vincenzo Quadrini,Kjetil Storesletten和Tao Zha的讨论中受益。我们感谢韦斯利·詹森(Wesley Janson)提供的出色研究帮助。我们还要感谢克利夫兰联邦储备银行,中国人民大学,国际商业与经济学,中央金融与经济学大学,国际新结构经济学和金融发展,中国国际宏观经济学(CICM)和中国国际金融联合会(CICF)的国际国际会议(CICF)。本文所述的观点是作者的观点,不一定是克利夫兰联邦储备银行或美联储系统委员会的观点。†中央财政大学。电子邮件:shijungu@cufe.edu.cn•克利夫兰联邦储备银行。电子邮件:chengcheng.jia@clev.frb.org
SUGGESTED CITATION: VKM, Johanna Bodin, Tage Thorstensen, Muath Alsheikh, Dean Basic, Rolf Brudvik Edvardsen, Knut Tomas Dalen, Nur Dual, Ole Martin Eklo, Åshild Ergon, Anne Marthe Ganes Jevnar, Sigve, Sigve Hindar, Sigve Hindar, Sigve, Sigve Hindar, Sigve,Sigve Hindar,SigveHånstein,Sigve,Sigve,Kjetilstein,Sigve,Kjetilstein。 Siri Lie Olsen, Eli Rueness, Monica Sanden, would Erling Sipinen, Kristine von Krogh, Dag Inge Våge, Anna Wargelius, Micael Wendell, Siamak Yazdankhah, Jan Alexander, Ellen Bruzell, Gro-Inn Hemre, Vigdis Vandvik, Edelika, Angelika, Angelika, Angelika, Angelika, Angelika, Angelika,Angelika,Angelika,Angelika,Angelika,Angelika,Angelika。 Hofshagen,TrineHusøy,Helle Knutsen,ÅshildKrogdahl,AsbjørnMagne Nilsen,Trond Rafoss,Taran Skjerdal,Inger-Lise Steffensen,Tor A. Strand A. Strand,Gaute,Gaute Velle,Yngvild Wasteson(20211)。食品和饲料生产中的基因组编辑 - 对风险评估的影响。挪威粮食与环境科学委员会科学指导委员会的科学意见。VKM报告2021:18,ISBN:978-82-8259-372-4,ISSN:2535-4019。挪威粮食与环境科学委员会(VKM),挪威奥斯陆。
本手册取代了 1977 年的《取样和化学分析手册》,该手册是在 EMEP 的起步阶段制定的。该手册的第一次修订是在 1996 年,主要内容被重写并补充了更多成分的方法,例如挥发性有机成分的方法。早期的许多取样和分析方法都被新的更好的方法所取代,以满足当今对数据质量更严格的要求。该手册扩展了质量保证部分,该部分基于 EMEP 的质量保证计划。2001 年,该手册进行了更新,包括重金属、PCB 和 PAH。目前的版本进一步扩展,包括颗粒物测量。未来几年,预计还会对手册进行修订和扩展。最新版本始终可在 EMEP 手册的在线主页上找到,http://www.nilu.no/projects/ccc/manual/index.html 许多科学家为本手册做出了或多或少的贡献。按字母顺序排列,我们收到了 Torunn Berg、Christian Dye、Jan Erik Hanssen、Terje Krognes、John Munthe、Anni Reissell、Jan Schaug、Norbert Schmidbauer、Arne Semb、Kjetil Tørseth、Hilde Thelle Uggerud 和 Wenche Aas 的贡献。 Kristine Aasarød 和 Lisbeth Berntsen Storaas 将我们打印和手写的文稿以及文本中的许多更改汇总到一本手册中。挪威空气研究所
Drarell Green 1 , Roelof van Ewijk 2 , Elisa Cup 12, Lucia Cottone 13, 22:23 , Anne Gives-Mascard 24 , Stefanie Hecker-Noting 8 , Edita Kabickova 25 , Leo Kager 26,27 , Cannerva 28 , Laurence 32 , Cyril Bervat 33 , Antonin Market 18 , Marriage-Berard Merks 2.36 , Benjamin Ory 37,Pantziarca 15.39.40,Sophie Piperno-Neuman 33,Anna Raciborska 42:44,Acmal Safwat 45,Katia Scotlandi 46,Eric LSys 50,Marie-Doin 51,Miss 52,Claudia Valverde 53,Michiel A.J. van of san 54,关闭ẅ艺术1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 100 100 10 10 10 10 10 10 100 100 100 100 100 100 100 100 100 100 100 100 121 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 100 200 200 200 200 200 200 200 200 200 200,clausẅArtẅArt5,56,56,56,56,56,56,56,56,56,56.60 <Sys 50,Marie-Doin 51,Miss 52,Claudia Valverde 53,Michiel A.J.van of san 54,关闭ẅ艺术1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 100 100 10 10 10 10 10 10 100 100 100 100 100 100 100 100 100 100 100 100 121 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 100 200 200 200 200 200 200 200 200 200 200,clausẅArtẅArt5,56,56,56,56,56,56,56,56,56,56.60 <
成员: • Orazio Aiello,国立大学。新加坡(SG)• Janne Aikio,大学奥卢大学 (FI) • Johan Alme,卑尔根大学 (NO) • Atila Alvandpour,林雪平大学 (SE) • Paul Annus,Taltech (EE) • Snorre Aunet,NTNU (NO) • Marco Balboni,费拉拉大学 (IT) • Abdullah Baz,Umm Al-Qura 大学 (SA) • Elmars Bekecal,里士满技术大学,里士满大学 (SE) • 隆德大学 (SE) • Claudio Brunelli,诺基亚 (FI) • Luigi Carro,UFRGS (BR) • Mario Casu,都灵理工大学 (IT) • Kun-Chih (Jimmy) Chen,国立中山大学 (TW) • Yong Chen (Nick),清华大学。 (中国) • Hans Jakob Damsgaard,诺基亚(FI) • Patricia Derler,国家仪器(美国) • Peeter Ellervee,Taltech(EE) • Diana Goehringer,德累斯顿工业大学(德国) • Gunnar Gudnason,奥迪康(丹麦) • Xinfei Guo,Mellanox TechnSEologies(美国) • Half-Houston University(美国),阿尔托大学(FI) • Shadi Harb,英特尔,(美国) • Thomas Hollstein,Taltech(EE) • Heikki Hurskainen,诺基亚(FI) • Waqar Hussain,Nordic Semiconductors(NO) • Maksim Jenihhin,Taltech(EE) • Gert Jervan,Taltech(EE) • Ted Johan SE,Gulson University(CA)nar Kjeldsberg,NTNU(NO) • Kristian Gjertsen Kjelgård,Univ.奥斯陆(挪威) • Peter Koch,奥尔堡大学(丹麦) • Selcuk Köse,大学罗切斯特 (美国) • Marko Kosunen,阿尔托大学 (FI) • Olli-Erkki Kursu,大学。奥卢 (FI) • Kimmo Kuusilinna,Nosteco (FI) • Vesa Lahtinen,诺基亚 (FI) • Yannick Le Moullec,Taltech (EE) • Pasi Liljeberg,图尔库大学 (FI) • Liang Liu,隆德大学 (SE) • Farshad Moradi,奥胡斯大学 (DK) • Ilkka Nissinen,大学。奥卢 (FI) • Sajjad Nouri (DE) • Jari Nurmi,特拉维夫大学 (FI) • Vojin G. Oklobdzija,加州大学戴维斯分校 (美国) • Milica Orlandić,挪威科技大学 (NO) • Dmitry Osipov,ITEM (DE) • Vassilis Paliouras,大学。帕特雷 (GR) • Darshika G. Perera,UCCS(美国) • Ernesto Pérez,CSEM(瑞士) • Luca Pezzarossa,DTU(丹麦) • Sebastian Pillement,Univ.南特大学 (FR) • Juha Plosila,图尔库大学 (FI) • Timo Rahkonen,奥卢大学 (FI) • Toomas Rang,Taltech (EE) • Jussi Ryynänen,阿尔托大学 (FI) • Ketil Røed,大学。奥斯陆(挪威) • Juha Röning,大学奥卢大学(FI) • Alireza Saberkari,林雪平大学(SE) • Martin Schoeberl,丹麦技术大学(DK) • Shahrian Shahabuddin,俄克拉荷马州立大学(美国) • Ibraheem Shayea,伊斯坦布尔技术大学。 (TR) • Ming Shen,奥尔堡大学(DK) • Olli Silvén,奥卢大学(FI) • Henrik Sjöland,隆德大学(SE) • Kalle Tammemäe,Taltech(EE) • Jing Tian,南京大学(CN) • Kjetil Ullaland,卑尔根大学(NO) • Vishnu Unnikrishnan,坦佩雷大学。 (FI) • Boris Vaisband,麦吉尔大学(CA) • Lan-Da Van,国立交通大学(TW) • 马克·维斯特巴卡 (Mark Vesterbacka),林雪平大学(SE) • Seppo Virtanen,图尔库大学 (FI) • Upasna Vishnoi,Marvell Semiconductor (美国) • Roshan Weerasekera,西英格兰大学 (英国) • Avinash Yadav,Nvidia (美国) • Trond Ytterdal,挪威科技大学 (NO) • Milad Zamani,奥胡斯大学 (DK),• Yuteng ZhouWPI(美国)• Viktor Åberg,隆德大学(瑞典)• Johnny Öberg,KTH(瑞典)
