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EUV 掩模吸收层的优化
极紫外光刻 (EUVL) 是最有前途的技术之一，它可将半导体器件制造的极限扩展到 50 纳米及以下的临界尺寸 [1]。EUVL 需要制造反射掩模，它不同于紫外可见光光刻技术所用的传统透射掩模。极紫外 (EUV) 掩模由一个 EUV 波长的反射镜组成，反射镜上沉积了吸收图案堆栈。干涉镜由高折射率和低折射率材料的交替堆栈制成，通常是沉积在基板顶部的 40 个 Mo/Si 双层。通过调整 Mo 和 Si 层的厚度，可以针对 13.5 纳米的波长优化反射率。对于“双层工艺” [2]，吸收图案堆栈由缓冲层顶部的导电吸收层制成，缓冲层用作蚀刻停止层以及吸收层修复步骤中的保护层。过去几年，人们评估了多种材料（Ti、TiN、Al-Cu、TaSi、Ta、TaN、Cr）[2–4] 作为 EUV 掩模的导电吸收材料的可能性。图 1 描述了这种基本的减法 EUV 掩模工艺流程，其中采用了“双层”吸收堆栈。
使用人工智能进行口罩检测
摘要——使用人工智能进行口罩检测是一项有价值的技术，可以帮助确保人们遵守公共卫生准则并在公共场所正确佩戴口罩。在这种方法中，使用图像或视频数据集训练机器学习模型，以识别一个人是否戴着口罩。然后可以部署该模型进行实时口罩检测，可用于学校、医院、机场和其他公共场所等各种环境。使用人工智能开发口罩检测系统包括收集和标记图像或视频数据集、预处理数据、训练模型、测试模型的准确性以及部署模型。通过使用多样化和平衡的数据集、选择合适的深度学习算法以及优化模型的参数，可以提高模型的准确性。使用人工智能进行口罩检测是一项很有前途的技术，可以在持续的疫情期间及以后帮助促进公共卫生和安全。
直接成像掩模版写入器
下一代成像技术融合了我们可调四波 LED 投影仪技术、新数据处理方法、外部光栅化引擎、无捕获相关数据重新加载、全区域高分辨率缩放、产量和质量改进工具等诸多方面的重大进步。吞吐量：下一代光引擎功能强大，允许您根据吞吐量选择更少的光引擎，从而降低机器投资成本。四波：下一代采用 360、370、390、405nm LED。这些 LED 可以进行调整以匹配光刻胶灵敏度，从而提高成像效率和调整壁陡度，并允许灵活选择光刻胶和阻焊层类型。符合 DART 标准：下一代包括外部光栅化引擎。这允许高速光栅化，包括数字线宽补偿和缩放，无需等待。使用 DART 优化套件进行全过程控制。视觉增强：Miva 的新视觉技术允许特征测量并改善目标获取。 NextGen 的视野更大，使面板放置更加简单，并且无需重新加载与捕获相关的数据。分辨率：NextGen 目前提供 30µm、15µm 或 6µm 分辨率。
纳米电子的低成本阴影面具制造
摘要：我们提出了两种用于制造阴影面罩的方法，以将电极蒸发到纳米材料上。在第一个中，我们将商业纤维激光雕刻系统的使用与容易获得的铝箔结合在一起。此方法适用于制造50 µm线宽度和最小特征分离为20 µm的阴影面具，并且使用它来创建具有复杂图案的口罩非常简单。在第二种方法中，我们使用市售的乙烯基切割机对乙烯基模具面膜进行图案，然后使用玻璃纤维来定义电极之间的分离。使用这种方法，我们实现了分隔15 µm的良好的固定电极，但是与基于激光的电极相比，该技术在创建复杂的掩码方面的用途较小。我们通过基于MOS 2制造场效应晶体管设备来证明这些技术的潜力。我们的方法是一种具有高分辨率和准确性的阴影面膜的经济高效且易于访问的方法，使其可用于更广泛的实验室。
启用了蒙版优化的GPU级别集
摘要 - 由于高级集成电路的特征大小不断收缩，因此分辨率增强技术（RET）被利用来改善光刻过程中的可打印性。光学接近校正（OPC）是旨在补偿面罩以生成更精确的晶圆图像的最广泛使用的RET之一。在本文中，我们提出了一种基于级别的OPC方法，具有高面膜优化质量和快速收敛。为了抑制光刻过程中条件爆发的干扰，我们会提供一个新的过程窗口感知的成本函数。然后，采用了一种新颖的基于动量的进化技术，该技术取得了重大改进。我们还提出了一种自适应共轭梯度方法，该方法有望具有更高的优化稳定性和更少的消耗时间。此外，图形过程（GPU）被利用用于加速所提出的算法。我们将输出掩码从机器学习基于掩码优化流中作为输入和工作作为重新定位掩码的后过程。ICCAD 2013基准测试的实验结果表明，我们的算法在解决方案质量和运行时开销中均优于以前的所有OPC算法。
每年接种流感疫苗或强制戴口罩
由于目前卫生保健机构中存在新冠肺炎 (COVID-19) 普遍戴口罩的规定，我目前不会发布“流感疫苗或戴口罩规定”，但公共卫生部门要求您继续鼓励您的员工今年除了接种现有的二价新冠肺炎 (COVID-19) 加强针外，还接种流感疫苗。
启用了蒙版优化的GPU级别集
摘要 - 由于高级集成电路的特征大小不断收缩，因此分辨率增强技术（RET）被利用来改善光刻过程中的可打印性。光学接近校正（OPC）是旨在补偿面罩以生成更精确的晶圆图像的最广泛使用的RET之一。在本文中，我们提出了一种基于级别的OPC方法，具有高面膜优化质量和快速收敛。为了抑制光刻过程中条件爆发的干扰，我们会提供一个新的过程窗口感知的成本函数。然后，采用了一种新颖的基于动量的进化技术，该技术取得了重大改进。我们还提出了一种自适应共轭梯度方法，该方法有望具有更高的优化稳定性和更少的消耗时间。此外，图形过程（GPU）被利用用于加速所提出的算法。我们将输出掩码从机器学习基于掩码优化流中作为输入和工作作为重新定位掩码的后过程。ICCAD 2013基准测试的实验结果表明，我们的算法在解决方案质量和运行时开销中均优于以前的所有OPC算法。
LED Mask 7颜色的用户手册
卫生风险的分类是您所知道的，基于根据其健康风险水平对医疗设备进行分类的准则和标准，指定在医疗设备类别中，SP使用类别I.-医疗设备和VI.-卫生产品来处理其产品。 div>通过分类类别的分类 - 在医学实践中已知的输入，其安全性和效率得到了证明，并且通常不会引入身体。 div>在2014年12月22日的DOF中类似地在其498、908、909、1084、1085、1085、1096、1226、1269、1282、1282、1283、1319、1319、1321、1321、1328、1329、1330;由于健康的投入是为了获得健康登记册而被认为是低风险的，并且由于其性质，特征和使用，不被视为保健供应，并且不需要卫生记录。 div>
O-0133(EU) 氧气泡泡面膜
Lubrizol Advanced Materials, Inc.（“Lubrizol”）希望您对此建议的配方感兴趣，但请注意，这只是一种代表性配方，并非商业化产品。在适用法律允许的最大范围内，Lubrizol 不作任何陈述、保证或担保（无论是明示、暗示、法定或其他形式），包括任何关于适销性或特定用途适用性的暗示担保，或关于任何信息的完整性、准确性或及时性的暗示担保。Lubrizol 认为此配方所基于的信息和数据是可靠的，但配方尚未经过性能、功效或安全性测试。在商业化之前，您应彻底测试该配方或其任何变体，包括配方的包装方式，以确定其性能、功效和安全性。您有责任获得任何必要的政府批准、许可或注册。本文中包含的任何内容均不得视为未经专利所有者许可而实施任何专利发明的许可、建议或诱导。与此配方相关的任何索赔可能并非在所有司法管辖区都获得批准。安全处理信息不包括安全使用所需的产品安全信息。操作前，请阅读所有产品和安全数据表以及容器标签，了解安全使用和物理及健康危害信息。您可从路博润代表或经销商处获取此配方路博润产品的安全数据表。