XiaoMi-AI文件搜索系统
World File Search SystemMask
从pangasius cat鱼中剥落面膜的抗氧化活性...
剥落的面罩是一种掩模，其中包含弹性材料，例如明胶，使其易于涂抹和去除。这些剥落的口罩通过散布以形成稀薄的透明膜层来施加到面部。pangasius cat鱼明胶是剥落蒙版制剂中的胶凝剂，而将astaxanthin添加为抗氧化剂。astaxanthin是一种类似于β-胡萝卜素的分子结构的类胡萝卜素色素，与β-胡萝卜素相比，在中和自由基中表现出更强的抗氧化活性。这项研究的目的是使用DPPH方法确定由Pangasius catfish（Pangasius hypophthalmus）明胶的剥落凝胶口罩的抗氧化活性。astaxanthin提取物用作剥落凝胶面膜产生的活性成分，astaxanthin提取物浓度为0.5％。由pangasius catfish明胶制成的剥落凝胶面膜的抗氧化活性测试的结果补充了astaxanthin，其IC 50值为7572.84 µg/ml，而比较面膜的IC 50值（亮柠檬黑头品牌）为5045.74 µg/ml。这些结果表明，与市场上可用的比较口罩相比，产生的面膜的抗氧化活性较低。
RL-OPC：通过深度强化学习进行掩模优化
摘要 — 掩模优化是先进技术节点 VLSI 制造过程中的重要步骤。作为最具代表性的技术之一，光学邻近校正 (OPC) 被广泛应用于提高可印刷性。由于传统 OPC 方法消耗的计算开销过大，近期研究已将机器学习技术应用于高效的掩模优化。然而，现有的判别学习模型依赖给定的数据集进行监督训练，而生成学习模型通常利用代理优化目标进行端到端学习，这可能会限制可行性。在本文中，我们率先引入了用于掩模优化的强化学习 (RL) 模型，该模型无需利用可微代理即可直接优化首选目标。大量实验表明，我们的方法优于最先进的解决方案，包括学术方法和商业工具包。
RL-OPC：通过深度强化学习进行掩模优化
摘要 — 掩模优化是先进技术节点 VLSI 制造过程中的重要步骤。作为最具代表性的技术之一，光学邻近校正 (OPC) 被广泛应用于提高可印刷性。由于传统 OPC 方法消耗的计算开销过大，近期研究已将机器学习技术应用于高效的掩模优化。然而，现有的判别学习模型依赖给定的数据集进行监督训练，而生成学习模型通常利用代理优化目标进行端到端学习，这可能会限制可行性。在本文中，我们率先引入了用于掩模优化的强化学习 (RL) 模型，该模型无需利用可微代理即可直接优化首选目标。大量实验表明，我们的方法优于最先进的解决方案，包括学术方法和商业工具包。
CleanSpace™CST半掩码CST1034 CST1035 ...
限制清洁区呼吸器是空气过滤，风扇辅助，正压系统，设计为在有足够的氧气安全呼吸的环境中穿着。请勿使用立即危害生命或健康（IDLH）气氛的CleanSpace呼吸器来防止无法过滤或富含氧气或不足的气氛中的气体/蒸气。
使用 Mask R-CNN 的头盔检测系统
我们已经看到了这些信息，所以我们决定为这个项目做出贡献。为了公共安全，需要一个可以检测到路上没有戴头盔的人的自动头盔识别系统。这种类型的系统将帮助官员判断谁戴了头盔，并对犯错的两轮车用户处以罚款。在这个项目中，我们将使用 mask RCNN，但首先让我们了解一下 faster R-CNN 的工作原理。它们分为两个阶段。阶段 1：它由两个网络和区域提议网络组成。我们必须一次提供一个输入来获得一组区域提议，区域提议是特征图中包含对象的区域。阶段 2：在第二阶段，网络预测阶段 1 中获得的每个提议区域的边界框和对象类。每个提议区域可以有不同的大小，而网络中的全连接层始终需要固定大小的向量来做出预测。这些提议区域的大小是通过使用 Rol pool 或 RoIAlign 方法来固定的。
22-A4T01 在 AMC 航站楼和 DoD 飞机上佩戴口罩......
综合国防部 FHPG，第 34 页：d. 交通运输：所有个人，无论疫苗接种情况如何，在进入、在美国境内或离开美国的国防部交通工具（例如飞机、水上交通工具、公共汽车、火车、出租车和拼车）以及国防部室内交通枢纽时都必须佩戴口罩。交通工具的室外区域（如果交通工具上有此类室外区域）或交通枢纽的室外区域（如果这些区域不拥挤）无需佩戴口罩。无论国防部交通工具和枢纽位于美国境内还是境外，这些要求都适用，但不包括作战环境中的舰船、潜艇、飞机和其他战术车辆和飞行器。
联合服务机组面具 - 战略飞机（JSAM -SA ...
表格批准的OMB编号0704-0188此信息收集的公开报告负担估计为每个响应的平均1小时，包括审查说明的时间，搜索现有数据源，收集和维护所需的数据以及完成和审查此信息集合。发送有关此负担估计值或此信息集合的任何其他方面的评论，包括为国防部减轻此负担的建议，华盛顿总部服务，信息操作和报告局（0704-0188），1215 Jefferson Davis Highway，Suite 1204，Suite 1204，Arlington，VA 222022202-4302。受访者应意识到，尽管有其他法律规定，但如果没有显示当前有效的OMB控制号码，则任何人都不得遵守信息的收集。请不要将您的表格返回上述地址。1。报告日期（dd-mm-yyyy）
用于 EUV 光刻的光化图案掩模缺陷检测
随着极紫外 (EUV) 光刻技术进入大批量生产，半导体行业已将光刻波长匹配的光化图案化掩模检测 (APMI) 工具视为 EUV 掩模基础设施的主要空白。现在，已经开发出一种光化图案化掩模检测系统来填补这一空白。结合开发和商业化 13.5nm 波长光化空白检测 (ABI) 系统的经验以及数十年的深紫外 (DUV) 图案化掩模缺陷检测系统制造经验，我们推出了世界上第一个高灵敏度光化图案化掩模检测和审查系统 ACTIS A150（ACTinic 检测系统）。生产此 APMI 系统需要开发和实施新技术，包括高强度 EUV 源和高数值孔径 EUV 光学器件。APMI 系统具有高分辨率、低噪声成像，对缺陷具有极高的灵敏度。它已证明能够检测出印刷晶圆上估计光刻影响为 10% CD 偏差的掩模缺陷。