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区域卫生指挥部大西洋办事处...
IG 回应：ADP 3-37 保护是陆军的一项原则，它赋予各级指挥官在看似没有命令的情况下对 COVID-19 检测采取行动的权利。在副标题“提供部队健康保护”下，第 2-7 段：部队健康保护被定义为促进、改善或保护士兵行为和身体健康的措施。其使命属于保护作战功能。部队健康保护措施使部队健康强壮，防止受伤和生病，并保护部队免受健康危害。保护措施的描述在第 2.8 段中列出： - 预防和控制疾病（COVID-19） - 评估职业和环境健康（COVID-19 检测、戴口罩和隔离） - 确定部队健康保护活动（COVID-19 检测、戴口罩和隔离） SSG，在您收到关于 RA 豁免 COVID-19 疫苗接种和检测请求的答复之前，您将接受检测作为保护部队的预防措施。
集成电路制造
3。Oxidation 75–102 3.1 Introduction 75 3.2 Growth and Kinetics 78 3.2.1 Dry Oxidation 79 3.2.2 Wet Oxidation 80 3.3 Growth Rate of Silicon Oxide Layer 82 3.4 Impurities effect on the Oxidation Rate 87 3.5 Oxide Properties 89 3.6 Oxide Charges 90 3.7 Oxidation Techniques 92 3.8 Oxide Thickness Measurement 92 3.9 Oxide Furnaces 95 3.10摘要98问题98参考99 4。Lithography 103–138 4.1 Introduction 103 4.2 Optical Lithography 105 4.3 Contact Optical Lithography 106 4.4 Proximity Optical Lithography 106 4.5 Projection Optical Lithography 107 4.6 Masks 112 4.7 Photomask Fabrication 114 4.8 Phase Shifting Mask 115 4.9 Photoresist 116 4.10 Pattern Transfer 119 4.11 Particle-Based Lithography 122 4.11.1 Electron Beam Lithography 122 4.11.2电子互动124 4.12离子束光刻127 4.13超紫色光刻129 4.14 X射线光刻130 130 4.15光刻技术的比较132 4.16摘要133问题133问题139参考139
今年圣诞节会出现新冠疫情浪潮、高峰还是低谷？这取决于你住在哪里
例如，如果您要拜访年长的亲戚或免疫系统较弱的人，如果您有呼吸道症状，请谨慎。优质口罩和使用 RAT 测试仍然是一种选择。无论您的症状如何，聚集在通风良好的房间（或室外）都会降低您感染和感染他人的机会。
卫生官命令需要年度流感和更新的Covid-19
这意味着在患者的6英尺范围内。但是，一些设施管理员和EMS提供商可能会确定不同的标准在其特定环境中是合适的。这些管理员和提供者都知道其设施和/或设置的独特特征，这些特征可能导致暴露于患者以及可能的疾病传播。因此，他们在定义可能导致其设施和/或环境中患者接触的特定情况方面起着重要作用。设施管理员还可以酌情制定政策，允许人员暂时删除面具，如果戴上面具会大大抑制他们与患者沟通或提供患者护理的能力。例如，设施或EMS提供商可以制定一项政策，允许人员在与听力受损的患者进行沟通时删除面具，后者在读书或为语音治疗患者进行言语时进行建模时。但是，基于强大的患者需求，明确记录并始终应用的，这种例外的数量应该很少，时间限制。清除口罩或带有透明塑料面板的面具，可以很好地塑料面板，在为听力受损或残疾人提供服务的同时提供服务。
采用湿法钪蚀刻在硅基板上形成硬掩模
如今，微电子技术需要寻找新材料，包括用于创建结构的掩模。中间硬掩模策略是实现微电子制造中光刻和蚀刻之间良好平衡的关键问题之一。微电子和光伏技术中一个有趣的挑战是在 Si 衬底上创建间距垂直取向的硅阵列，用于多功能半导体器件。制造这种结构仍然是一个严重的技术问题，需要寻找新的方法和材料。在这项工作中，我们建议使用钪作为硅上的新硬掩模材料，因为它具有高抗等离子化学蚀刻性和低溅射系数。我们已经证明，对厚度为几纳米的钪层进行湿法蚀刻可用于在硅上获得分辨率高达 4 微米的图案结构，这对于湿法蚀刻方法来说是一个很好的结果。在选定的等离子蚀刻条件下，与其他金属掩模相比，钪是一种具有极佳抗性的硅掩模，蚀刻速率最低。因此，钪硬掩模可以为形成不同的微尺度地形图案开辟新的可能性。
大型、精选、开源中风神经影像数据集，用于改进病变分割算法
准确的病变分割对于中风康复研究中病变负担的量化和准确的图像处理至关重要。目前，康复研究中常用的 T1 加权 (T1w) MRI 自动病变分割方法缺乏准确性和可靠性。手动分割仍然是黄金标准，但它耗时、主观，并且需要大量神经解剖学专业知识。我们之前发布了一个大型开源中风 T1w MRI 和手动分割病变掩模数据集 (ATLAS v1.2，N=304)，以鼓励开发更好的算法。然而，使用 ATLAS v1.2 开发的许多方法报告准确度低、不公开访问或未经适当验证，限制了它们在该领域的实用性。这里我们介绍了 ATLAS v2.0 (N=955)，这是一个更大的 T1w 中风 MRI 和手动分割病变掩模数据集，其中包括训练 (公开) 和测试 (隐藏) 数据。使用这个更大的样本进行算法开发应该会带来更稳健的解决方案，而隐藏的测试数据可以通过分割挑战进行无偏的性能评估。我们预计 ATLAS v2.0 将带来改进的算法，促进大规模中风康复研究。
交叉任务多分支视觉变压器，用于面部表情和戴面膜分类
1美国卡内基梅隆大学2菲律宾大学3美国华盛顿大学4中，中国5个美国北亚利桑那大学 *美国北亚利桑那大学 * Zhu，Armando，Armando，电子邮件：armandoz@alumni.cmu.cmu.edu摘要：戴着面具的挑战，戴着面貌的挑战，在构成面貌的挑战时，曾经构成了攻击的范围，以掩盖面对面的攻击（fer）。在本文中，我们提出了一个统一的多分支视觉变压器，用于面部表达识别和戴面罩的分类任务。我们的方法提取了两项任务的共享功能，该功能使用获得多尺度特征表示的双分支体系结构。此外，我们提出了一个交叉任务融合阶段，该阶段可以使用单独的分支为每个任务处理令牌，同时使用交叉注意模块交换信息。我们提出的框架通过简单而有效的交叉任务融合阶段使用单独的网络来降低了整体复杂性。广泛的实验表明，我们所提出的模型在面部表情识别和面部掩码戴上分类任务方面的表现要好于或使用不同的最新方法。
为您的共同疫苗做准备
很好。请戴口罩，如果可能的话，请坐在后排座椅上，然后破裂窗户以获取气流。任何进入Wake Robin校园的人都需要通过检查站筛查问题，因此请勿从州外，经历过共同症状的人那里骑车，一直在患有Covid或参加过Multi Household Chartightings的人周围。
在...
光刺激（来自数字微型摩尔设备的2-D灯罩用固态CW激光照明）和两个光子成像仅限于不同的光学Z-Planes，可以通过分别翻译扩散器和主要目标来灵活，独立地调整这些光学Z-plan。 （底部）在光刺激和成像期之间交替（滚动）。每个红色条代表一个多光子成像的单一框架。光刺激和成像期交错。（b）显微镜示意图。dm，二分色镜。dmd，数字微型摩尔设备。i，虹膜膜片。L1-L12，镜头。o，主要目标。PMT，光电倍增管。PS，潜望镜。s，快门。SM，扫描镜子。（c）（顶部）使用可移动扩散器将图案化的光刺激和多光子成像平面解）的例证。以4F镜头配置将扩散器成像成样品中；沿光路的扩散器转换会导致相应的投影平面轴向移动。OFP，客观焦平面。 PSP，光刺激平面。 （d）DMD芯片到CCD摄像头到2P显微镜注册。 我们注册了DMD刺激场（DMD像素尺寸= 2.4 µm，样品 1d）至148OFP，客观焦平面。PSP，光刺激平面。（d）DMD芯片到CCD摄像头到2P显微镜注册。我们注册了DMD刺激场（DMD像素尺寸= 2.4 µm，样品1d）至148（i）两个光子显微照片，分别为10 µm荧光微粒；箭头标记了两个微粒，这是较大的DMD调节投影靶模式（8 microbeads）的一部分，它们被视为受托点； （ii）更大的视野（包括目标微头）的广阔场荧光图像（全场照明）； （iii）从2p图像中选择的ROI用于生成DMD-Chip灯罩；这些进一步投影在主要的客观焦平面上，并使用主CCD摄像头（CCD 1）成像； （iv）DMD生成的照片刺激口罩和（II）中10 µm微粒的宽场荧光图像的覆盖层；请注意，荧光仅限于由DMD光刺激掩模靶向的微粒，并具有最小的溢出到相邻（靶）的微粒（请参阅信托标记）。