∗ 通讯作者电子邮件地址:hugo.bruneliere@imt-atlantique.fr(Hugo Bruneliere)、{vittoriano.muttillo,romina.eramo}@univaq.it(Vittoriano Muttillo、Romina Eramo)、luca.berardinelli@jku。 (Luca Berardinelli)、agomezlla@uoc.edu (Abel G´omez)、{alessandra.bagnato,andrey.sadovykh}@softame.fr (Alessandra Bagnato、Andrey Sadovykh)、antonio.cicchetti@mdu.se (Antonio Cicchetti)
Ivo Rendina 自 1985 年开始从事研究工作,同年他在位于罗马弗拉斯卡蒂的 ENEA 国家实验室开始撰写实验论文。1987 年,他获得物理学学位,并以研究员和博士生的身份开始与那不勒斯费德里科二世大学的电子和电气工程系合作。 1989 年至 2002 年,他在那不勒斯 CNR 的电磁和电子元件研究所 (IRECE) 从事科学研究,从学者开始,直至 2001 年担任研究所所长。他一直担任该职位,直到 2002 年,在 CNR 重组过程之后,IRECE 的“电子设备科”为微电子和微系统研究所 (IMM) 的成立做出了贡献,建立了 IMM 的“那不勒斯部门”,在那里他协调了一个非常活跃的研究小组的活动,该小组在光学设备、传感器和微系统物理领域非常活跃。2012 年,他获得了竞争性领域 09/E3 电子学和 02/B3 应用物理学的一级大学教授资格(根据 2012 年 7 月 20 日的 DDn222)。 2019 年,IR 成为 CNR 应用科学与智能系统研究所“Eduardo Caianiello”(ISASI) 所长,IMM 那不勒斯分部于 2020 年加入 ISASI。IR 是多个国际会议的主席和组织者,例如光学微系统 EOS 专题会议系列(自 2005 年起)、光学+光电子 SPIE 会议系列(自 2013 年起)、2013 年和 2014 年的 Fotonica 会议、2008 年的 EOS 年会、2007 年的第十二届传感器和微系统会议。他曾担任 EOS、SPIE、OSA 和 IEEE 在光学和光子学领域组织的多个国际会议的科学和技术委员会成员、国际科学期刊的客座编辑、国际博士委员会主席、意大利部委和捷克科学院的科学评估员。他拥有 9 项专利,撰写或合作撰写了 300 多篇出版物,并在纳米光子学和纳米系统领域的科学会议上发表了 20 多次受邀报告和全体会议报告。
教育1982年7月:高中科学研究学位,(60/60)。1988年4月:劳雷亚(科学硕士),(100/100,具有荣誉),在结构工程中。论文:弹性塑料对循环载荷的响应:shakedown分析,先验边界,进化分析。从1991年5月到1998年10月的职位:意大利Politecnico di Milano的结构工程的Ricercatore(助理教授)。从1998年11月到2002年8月:意大利Politecnico di Milano的结构工程教授(副教授)。从2002年9月开始:意大利Politecnico di Milano的结构工程教授教授(完整的教授)。从2005年9月开始:意大利Politecnico di Milano的结构工程教授(任职教授的完整教授)。从2009年1月到2012年12月:意大利Politecnico di Milano的结构工程系副主管。教学活动的材料强度,结构力学,有限元素,计算力学,极限分析,可塑性理论,本科生的微电机械系统;高级断裂力学,博士生的微电机械系统。其他工作经验1988年7月 - 1989年10月:军事工程团中尉的服务。1991年12月至1992年11月:LaboratoiredeMécaniqueet Technologie Cachan的研究活动 - 法国与CNR(意大利国家研究委员会)赠款。2004年7月至8月:美国伊利诺伊州埃文斯顿市西北大学机械工程系的来访学者。1996年7月,1997年2月,1999年7月,2006年5月:Ecole Normale Superieure Cachan的客座教授,在LaboratoiredeMécaniqueet Technologie工作。奖项2006年2月:布鲁诺·芬兹(Bruno Finzi)理性力学奖,伊斯蒂托托·伦巴多(Istituto Lombardo Accademia)di scienze e Lettere。2015年7月:欧洲力学协会任命Euromech研究员。 2018年7月:Istituto Lombardo Accademia di Scienze E Lettere的成员。 全体和半百年讲座•2010年半百年讲“微系统自发粘附现象的建模” ECCM 2010 PARIS,2010年5月16日至21日。 •2012年在2012年国会ICTAM 2012,2012年8月19日至24日在2012年国会ICTAM举行的“微生物和力学”演讲。。2015年7月:欧洲力学协会任命Euromech研究员。2018年7月:Istituto Lombardo Accademia di Scienze E Lettere的成员。全体和半百年讲座•2010年半百年讲“微系统自发粘附现象的建模” ECCM 2010 PARIS,2010年5月16日至21日。•2012年在2012年国会ICTAM 2012,2012年8月19日至24日在2012年国会ICTAM举行的“微生物和力学”演讲。•2013年全体会议“微系统计算方法的最新进展”,2013年6月24日至26日,国会智能2013年。•2015年全体讲座“微系统中的非线性力学和数值模拟:最新进步和应用”。APM 15,S。Petersburg,2015年6月22日至27日。•2017年全体讲座“具有辅助和超宽带隙特性的超材料”。APM 17,S。Petersburg,2017年6月22日至26日。•2019年全体讲座“微系统和印刷传感器的最新进展”。APM 17,S。Petersburg,2019年6月24日至29日。IUTAM 2020年ITAM主席执行国会委员会的科学协会成员2020年(推迟到ICTAM2020+1),2016年至2021年。2013年至2018年欧洲固体力学会议委员会(ESMCC)主席。
分别于 2001 年和 2009 年获得塞维利亚大学的 Física 和医生执照。 2001 年 6 月,我开始了 IMSE-CNM 博士研究,并进行了研究。 2004 年 9 月和 2009 年 3 月在 Micronas GmbH(弗莱堡,阿莱曼尼亚)和 2009 年和 2012 年在 Trident Microsystems 进行了模拟高级工作;开发电视接收和视频发送过程的产品。 2012 年,ams-OSRAM 合并了 ASIC,并成为了医疗成像产品的高级负责人,致力于消费类产品和实际生产。他是 10 项专利的共同发明者,也是国会和国际评论家的共同发明者
Dev Palmer是DARPA Microsystems技术办公室下一代微电子制造的董事总经理。以前,他曾担任MTO副主任,与办公室主任紧密合作制定战略,指导新计划和现有计划的执行,并确定和招募新的计划经理。在加入DARPA之前,他曾是洛克希德·马丁(Lockheed Martin)高级技术实验室的首席技术专家,在那里他指导了独立的研发计划并实施了技术战略。在他职业生涯的早期,他指挥了一系列计划组合,从基础研究到DARPA和陆军研究办公室的计划经理的高级技术过渡。Palmer博士是IEEE的终身研究员,《印刷和电子媒体》 100多个出版物的作者,以及美国四项专利的发明家。
Bryan Jacobs 博士于 2020 年 5 月加入 DARPA 微系统技术办公室,负责管理一个研究项目组合,专注于实现替代计算模型的变革。各个项目涉及硬件加速器,以实现对加密数据的计算 (DPRIVE)、量子启发计算,以大幅降低优化的能源成本 (QuICC),以及机器学习系统中的不确定性估计,以大幅提高边缘多传感器融合应用的有效性 (Enabling Confidence)。
Rajesh Pendurkar 目前是 Capgemini Engineering 的工程总监,负责推动 DFT 架构以提供创新的硅片解决方案。此前,他曾在英特尔、博通和 Sun Microsystems 担任管理和工程职位。他的研究兴趣包括调试设计、内置自测试、优化算法和机器学习。他创立了 ASIC 设计和测试咨询公司 TriSquare Sense。他是加州大学圣克鲁斯分校的兼职教员。他在《IEEE 集成电路计算机辅助设计学报》等期刊和国际测试会议 (ITC) 等会议上发表了 20 多篇论文。他拥有 6 项专利,是 IEEE 1687 标准委员会工作组的成员。他在佐治亚理工学院获得电气和计算机工程博士学位,并在南加州大学马歇尔商学院获得工商管理硕士学位。
•建筑学院•土木工程教师•化学教师•信息和通信技术的教师•电气工程学院•地球工程,采矿和地质学教师微系统•纯和应用数学学院•医学学院•JeleniaGóra的Wrocław技术分支
ma-P 1200 是正性光刻胶系列,专为微电子和微系统技术而设计。这些光刻胶具有多种粘度,一次旋涂即可获得 0.3 – 40 μm 的薄膜厚度。非常适合用作蚀刻掩模,具有较高的干湿蚀刻耐受性 - 宽带、g-、h- 和 i-line 曝光 - 在湿蚀刻工艺和酸性和碱性电镀槽中具有非常好的图案稳定性 - 在干蚀刻工艺(例如 CHF 3 、CF 4 、SF 6)中具有高度稳定性 - 可获得良好的光刻胶图案热稳定性 - 水性碱性显影