合作伙伴:经济发展部、市政经理办公室、媒体部门、社区发展部(规划、建设与安全)、公共工程部、财政部、消防部门、莫雷诺谷公用事业部、河滨县劳动力发展部、塞尔创意营销部、河滨大学医疗系统、凯撒医疗机构、莫雷诺谷商会、莫雷诺谷黑人商会、莫雷诺谷西班牙裔商会、内陆帝国经济伙伴关系、内陆帝国小企业发展中心 (IESBDC)、SCORE、小企业管理局 (SBA)、AmPac Tri-State 以及其他商业支持合作伙伴、开发和经纪社区、贸易组织
关于 eBeam 计划 eBeam 计划为基于电子束 (eBeam) 技术的新型半导体制造方法的教育和推广活动提供了一个论坛。该计划的目标是降低采用门槛,使更多的集成电路 (IC) 设计能够启动并加快产品上市时间,同时增加整个半导体生态系统对 eBeam 技术的投资。 成员遍布整个半导体生态系统,包括:aBeam Technologies;Advantest;Alchip Technologies;AMD;AMTC;Applied Materials;Artwork Conversion;ASML;Cadence Design Systems;Canon;CEA-Leti;D 2 S;大日本印刷;EQUIcon Software GmbH Jena;ESOL;EUV Tech;Fractilia;Fraunhofer IPMS;FUJIFILM Corporation;富士通半导体有限公司;GenISys GmbH;GlobalFoundries (GF);Grenon Consulting;日立高科技公司;HJL Lithography;HOLON CO., LTD;HOYA Corporation;IBM;imec;IMS CHIPS; IMS Nanofabrication AG;JEOL;KIOXIA;KLA;美光科技;Multibeam Corporation;NCS;NuFlare Technology;Petersen Advanced Lithography;Photronics;QY Mask;三星电子;中芯国际制造(上海)有限公司 (SMIC);西门子 EDA;意法半导体;新思科技;TASMIT;东京电子有限公司 (TEL);TOOL Corporation;凸版光掩模株式会社;UBC Microelectronics;Vistec Electron Beam GmbH 和蔡司。电子行业的所有公司和机构均可成为会员。如需了解更多信息,请访问 www.ebeam.org。
业界精英调查其它要点( 2024 年 7 月进行) - 74% 的受访者认为,曲线形状的 逆向 光刻技术( curvilinear ILT )对非 EUV 的 193i 前沿节点有 用 —— 其中 29% 的人强烈同意这一说法,而去年这一比例为 24% 。 - 55% 的受访者表示,前沿节点的一些关键层已经在使用 逆向 光刻技术( ILT ),这一比例较去 年的 46% 和两年前的 35% 有所上升。 - 光罩制造中的软件基础设施仍然是生产曲线形状光罩的最大挑战。 - 对深度学习应用的预测有所延迟,今年有 54% 的受访者预测深度学习将在 2025 年之前成为 光罩制造过程中任何环节的竞争优势,而去年这一预测为 2024 年。 “ 我们期待在 SPIE 光罩技术会议期间度过激动人心的一周,届时 eBeam Initiative 将举办第 15 届年度光罩会议,展示半导体生态系统对这一合作论坛的持续支持, ”eBeam Initiative 的 的主办 管理公司 D2S 的首席执行官 藤村 (Aki Fujimura) 表示。 “ 现在是加入光罩行业的绝佳时机,近年 来该行业取得了强劲增长 —— 这证明了光罩社区内杰出人才的贡献,也彰显了该行业在推动半 导体创新方面的重要性。今年 eBeam Initiative 业界精英 调查的绝大多数参与者 —— 他们代表了 行业内顶尖的商业和技术专家 —— 都认为这一增长趋势将在 2024 年继续,这无疑是个好消息。 ” About The eBeam Initiative 关于 eBeam Initiative (电子束倡议团) eBeam Initiative 是一个致力于推广和倡导电子束技术在半导体制造全新应用的团体;为有关 电 子束技术的教育和促进活动 提供相应的论坛。 eBeam Initiative 的目标是增加电子束技术应用在 半导体制造各领域中的投资;降低电子束技术应用的障碍,能够使更多集成电路设计完成,并 且更快投进市场成为可能。会员公司 , 涵盖整个半导体生态系统,包括 : aBeam Technologies; Advantest; Alchip Technologies; AMD; AMTC; Applied Materials; Artwork Conversion; ASML; Averroes.ai; Cadence Design Systems; Canon; CEA-Leti; D 2 S; Dai Nippon Printing; EQUIcon Software GmbH Jena; ESOL; EUV Tech; Fractilia; Fraunhofer IPMS; FUJIFILM Corporation; Fujitsu Semiconductor Limited; GenISys GmbH; GlobalFoundries (GF); Grenon Consulting; Hitachi High-Tech Corporation; HJL Lithography; HOLON CO., LTD; HOYA Corporation; IBM; imec; IMS CHIPS; IMS Nanofabrication AG; JEOL; KIOXIA; KLA; Micron Technology; Multibeam Corporation; NCS; NuFlare Technology; Petersen Advanced Lithography; Photronics; QY Mask; Samsung Electronics; Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corporation (SMIC); Siemens EDA; STMicroelectronics; Synopsys; TASMIT; Tokyo Electron Ltd. (TEL); TOOL Corporation; Toppan Photomask Corporation; UBC Microelectronics; Vistec Electron Beam GmbH and ZEISS. eBeam Initiative 面向和欢迎所有电子工业的公司和协会加盟。细节请查看 www.ebeam.org .
Craniofacial, Cranial EM System, Automatic Registration iMRI Regulation Number: 21 CFR 882.4560 Regulation Name: Stereotaxic Instrument Regulatory Class: Class II Product Code: HAW Dated: June 20, 2023 Received: June 20, 2023 Dear Esther Moreno Garcia: We have reviewed your Section 510(k) premarket notification of intent to market the device referenced above and have determined the device is substantially equivalent (for the indications for use stated in the enclosure) to legally marketed predicate devices marketed in interstate commerce prior to May 28, 1976, the enactment date of the Medical Device Amendments, or to devices that have been reclassified in accordance with the provisions of the Federal Food, Drug, and Cosmetic Act (Act) that do not require approval of a premarket approval application (PMA).因此,您可能会销售该设备,但要遵守该法案的一般控制条款。尽管这封信将您的产品称为设备,但请注意,一些清除的产品可能是组合产品。位于https://www.accessdata.fda.gov/scripts/cdrh/cdrh/cfdocs/cfpmn/pmn.cfm上的510(k)上市通知数据库。该法案的一般控制条款包括年度注册,设备上市,良好的制造实践,标签和禁止品牌和掺假的禁令。请注意:CDRH不评估与合同责任保证有关的信息。我们提醒您,设备标签必须是真实的,不要误导。此外,FDA可能会在联邦登记册中发布有关您的设备的进一步公告。如果您的设备被分类(请参见上文)为II类(特殊控件)或III类(PMA),则可能会受到其他控件的约束。可以在《联邦法规》第21章,第800至898部分中找到影响您设备的现有主要法规。请注意,FDA发布实质性的确定并不意味着FDA已确定您的设备符合该法案的其他要求或任何联邦政府的要求
w illiam 0。儿童,M Artin Pinilla,II Barlington Group,LLL,CM -LE和Marketple,LLC,您有或致电,是LLL,Clition和and and the Buildin G,LLC,Little and Arts同样,Hote,LLC中的CTOW,车站Partion Station,LLC,Light,LLC,Futuram A,LLC Shoppfn,G lv,b星期五,ln c,。Little BTM Clatyow S,LLC,LH AB TLTSS,LLL,C Fire Free,LLC,
• Brian Bishop、Ron Moreno、Ozzy Guzman、Jacklin Campos-Perez • 南加州爱迪生公司
8:50 - 9:05讲台演示:Red Garcia Cordero,A。Moreno,MW。 Hussain,K。Blennow,H。Zetterberg,KD。 Davis,R。Wennberg,Ch。 Tator,MC。 tartaglia8:50 - 9:05讲台演示:Red Garcia Cordero,A。Moreno,MW。Hussain,K。Blennow,H。Zetterberg,KD。 Davis,R。Wennberg,Ch。 Tator,MC。 tartagliaHussain,K。Blennow,H。Zetterberg,KD。Davis,R。Wennberg,Ch。 Tator,MC。 tartagliaDavis,R。Wennberg,Ch。Tator,MC。 tartagliaTator,MC。tartaglia
目前,许多岛屿社区在很大程度上取决于化石燃料资源的能源,因此大量可再生能源资源在很大程度上尚未开发。尽管已经开发了各种太阳能潜在的建模工具,但大多数需要高分辨率数据,这些数据目前不存在许多发展中国家或偏远地区。在这里,我们使用低成本的,易于获得的数据和方法来计算屋顶太阳系的潜力。这种方法可以由当地社区和决策者复制,以在投资更详细的分析之前获得太阳能的估算。我们说明了在加拉帕戈斯群岛(厄瓜多尔),波多黎各Baquerizo Moreno和Puerto Ayora的两个主要城市中心上使用这些方法。我们的结果表明,必须分别由当今的太阳能生产技术覆盖至少21%和27%的屋顶区域,以满足波多黎各Baquerizo Moreno和Puerto Ayora的当前电力需求。此外,结果表明,波多黎各莫雷诺(Baquerizo Moreno)的生产潜力比阿约阿拉港(Puerto Ayora)具有更高的生产潜力,这使其成为太阳能开发的有吸引力的选择,它不与稀缺的土地资源竞争,其中大多数必须保留为自然保护区。
3 我们想在此指出,影响可再生能源发电份额的因素列表并不详尽(例如,资源可用性和能源强度)。本研究遵循 Moreno 等人的理论方法[9],我们决定保留他们研究的规范。