营业收入 9,683 14,688 22,079 30,856 39,030 48,443 销售成本 (5,867) (8,250) (13,005) (17,381) (21,734) (26,487) 毛利 3,817 6,438 9,075 13,475 17,296 21,956 营业费用 (2,580) (3,571) (4,627) (6,674) (8,453) (10,383) 销售费用 (84) (135) (167) (203) (237) (270) 销售、一般及行政开支 (1,705) (2,224) (2,836) (3,532) (4,312) (5,158) 研发费用 (1,297) (1,845) (2,475) (3,703) (4,606) (5,619) 其他 507 633 852 763 701 664 营业利润 1,236 2,867 4,448 6,801 8,843 11,573 其他收入 18 14 22 20 22 24 其他费用 (2) (27) (4) 0 0 0 税前利润 1,253 2,854 4,466 6,821 8,865 11,597 所得税 (59) (313) (433) (1,023) (1,330) (1,740) 税后利润1,193 2,541 4,033 5,797 7,535 9,858 少数股东损益 116 188 134 (9) (11) (15) 净利润 1,077 2,353 3,899 5,806 7,547 9,873
VCSELs and ToF Modules for 3D Sensing 用于三维传感的VCSEL和ToF模块 Xiaochi Chen 陈晓迟 General Manager, Vertilite Co., Ltd 总经理,常州纵慧芯光半导体科技有限公司 Application of Compound Semiconduc- tor in Millimeter Wave Communication 化合物半导体的毫米波通信应用 Chunjiang Li 李春江 Vice General Manager, Chengdu HiWafer Semiconductor Co., Ltd. 副总经理,成都海威华芯科技有限公司 NAURA Solutions for Si Epitaxy and SiC Growth Applied for Power Devices NAURA 的Si外延和SiC材料在功率器件领域的 解决方案 Boyu Dong 董博宇 Vice president&CVD Business Unit General Manager, Beijing NAURA Microelectronics Equipment Co.,Ltd 副总裁兼 CVD 事业部总经理,北京北方华创微 电子装备有限公司 Advanced Plasma Processing Solutions for High Performance VCSELs and EELs: Feature Etching and Thin Film Deposi- tion. Enabling Cost Down Per Wafer and Critical Device Performance 先进等离子加工技术于高性能VCSEL和EEL的 解决方案:特征蚀刻和薄膜沉积。降低晶圆成 本及关键设备性能
1 中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室,北京 100029;wangguilei@ime.ac.cn(GW);sujiale@ime.ac.cn(JS);miaoyuanhao@ime.ac.cn(YM);lijunjie@ime.ac.cn(JL);renyuhui@ime.ac.cn(YR);lijunfeng@ime.ac.cn(JL) 2 中国科学院大学集成电路学院,北京 100049 3 北京超弦存储技术研究院,北京 100176 4 清华大学集成电路学院,北京 100086;jun-xu@tsinghua.edu.cn 5 广东大湾区集成电路与系统研究院光电混合集成电路研发中心,广州 510535; linhongxiao@ime.ac.cn (HL); liben@ime.ac.cn (BL) 6 中国科学院微电子研究所高频高压器件与集成研究发展中心,北京 100029,中国;xunmeng@ime.ac.cn 7 北方华创科技集团股份有限公司,北京 100176,中国;gushihai@naura.com 8 北京航空航天大学综合科学与工程学院费尔特北京研究所,北京 100191,中国;kaihua.cao@buaa.edu.cn 9 中瑞典大学电子设计系,Holmgatan 10, 85170 Sundsvall,瑞典* 通讯地址:kongzhenzhen@ime.ac.cn (ZK); liangrr@mail.tsinghua.edu.cn (RL); rad@ime.ac.cn (HHR);电话:+86-010-82995897(中控)