摘要虽然氧化铁纳米颗粒(IONP)的发展和应用可能会带来暴露风险和不利的健康结果,但由于职业暴露而引起的生物学变化仍未探索。这项横断面研究招募了23名工厂的工人,该工厂生产IONP和23个年龄和性别匹配的对照,而没有金属丰富的职业危害暴露。使用相应的酶 - 连接的免疫吸收测定法和甲基化特异性聚合酶链反应(PCR)分别测量了在工作场所的暴露指标,并测量外周血中的铁状态,氧化标记和基因组DNA的甲基化谱。在制造/处理IONP的工作过程中,工作地点处的空气颗粒的质量浓度,数量计数和表面积浓度显着增加。Overall, com- pared to controls, workers exhibited increased 5-hydroxymethylcytosine (5hmC) levels without changes in 5-methylcytosine (5mC), hepcidin methylation, iron, soluble transferrin receptor (sTfR), ferritin, hepcidin, 8-hydroxydeoxyguanosine, and glutathione.使用部分相关分析(r¼0.521,p <0.001),发现了5HMC和IONP确定的一年之间的正相关,并确保年龄,性别和可替宁调整。在对INOP暴露和5HMC水平分层后,对年龄,性别和可替宁的调整的单变量一般线性模型发现,对照组中低和高5HMC水平的受试者中5MC和STFR的估计平均水平为11%和14.4%和14.4%(P 0.01),以及80.9 nm和80.9 nm和70.3 nm(p <0.05)(p <0.05)。5HMC水平较低的工人和对照中的STFR的估计平均水平为88.3 nm和68.7 nm(p 0.01)。多元线性回归分析表明,STFR和5HMC(标准化的¼0.420,p¼0.014)和女性性别(标准化的女性性别(标准化的¼0.672,p <0.001))对于低5hmc水平的受试者。这些发现表明,增加了5HMC可以差异化来监测具有稳定的铁稳态的表观遗传学特征,这些稳定的IONP暴露的个体可能会早期经历但特定的STFR降低,尤其是对于女性,尤其是与5HMC较低水平的增量相关的女性。
NETL 资助号 DE-FE002776 开发的技术已用于预测由于在役氧化导致 𝛾′ 结构演变而导致的蠕变。• 目前正在测试 • Haynes 224 的蠕变数据
图2。光子能量(8.5-11 eV)和时间(0-30 ms)在450 K,7500 Torr和[O 2] = 7×10 17 cm -3的CL引入DEE的氧化中的质谱(0-30 ms)。由DEE氧化形成的物种引起的峰通过其M / Z标记。未显示由DEE产生的耗尽的离子峰。星号标记了o 2 +峰是由痕量的残留量高能量辐射电离O 2引起的,这在我们的实验中以很高的浓度存在。匕首标记了m / z 117的虚拟光解诱导的伪影,这不会影响其他峰的测量。
3。Oxidation 75–102 3.1 Introduction 75 3.2 Growth and Kinetics 78 3.2.1 Dry Oxidation 79 3.2.2 Wet Oxidation 80 3.3 Growth Rate of Silicon Oxide Layer 82 3.4 Impurities effect on the Oxidation Rate 87 3.5 Oxide Properties 89 3.6 Oxide Charges 90 3.7 Oxidation Techniques 92 3.8 Oxide Thickness Measurement 92 3.9 Oxide Furnaces 95 3.10摘要98问题98参考99 4。Lithography 103–138 4.1 Introduction 103 4.2 Optical Lithography 105 4.3 Contact Optical Lithography 106 4.4 Proximity Optical Lithography 106 4.5 Projection Optical Lithography 107 4.6 Masks 112 4.7 Photomask Fabrication 114 4.8 Phase Shifting Mask 115 4.9 Photoresist 116 4.10 Pattern Transfer 119 4.11 Particle-Based Lithography 122 4.11.1 Electron Beam Lithography 122 4.11.2电子互动124 4.12离子束光刻127 4.13超紫色光刻129 4.14 X射线光刻130 130 4.15光刻技术的比较132 4.16摘要133问题133问题139参考139
钛合金具有极高的强度重量比,可用于多种关键的支持技术。然而,它们在严酷环境中的使用面临着其有限的抗高温氧化性能的挑战。为了解决这个问题,本研究采用金属有机化学气相沉积 (MOCVD) 方法在 Ti6242S 合金表面涂覆致密的非晶态氧化铝 AlzO 3 涂层,涂层成分包括三丙醇铝 ATI 和二甲基铝异丙醇 (DMAI)。等温氧化试验表明,与裸露材料相比,涂层 Ti6242S 试样的质量增益抛物线速率常数降低了两个数量级。DMAI Al 2 O 3 涂层合金在 600 °C 下经过 5000 小时的长时间氧化,重量增加 0.180 mg cm-2,而裸露合金的重量增加 1.143 mg cm-2。在这些条件下,会形成一个界面层,其中包含复杂的 TiiAlo 5 Sn 0 .5)(或 (Ti,Sn)zN) 相。在 50 至 600 °C 之间进行 80 次 1 小时循环氧化,结果显示涂层样品的质量增益为零。最后,在氧化试样的横截面上确定的硬度分布表明涂层合金的氧溶解非常有限。非晶态 AlzO 3 的 MOCVD 涂层具有巨大潜力,可有效、持久地防止 Ti6242S 合金氧化。
1 Heilongjiang组织损伤和维修的主要实验室,Mudanjiang医科大学,Mudanjiang 157011 Aimin District,Aimin District 3,Qhejiang Medical&Health Group 2临床实验室Quzhou医院,Quzhoud Materials,Quzhou 324004,Mine of Fribality,324004,Mine oferatory,Mudanjiang 157011,中国,Qhejiang Medical&Health Group Quzhou Hospital Quzhou医院,Quzhou医院,Quzheg Road 62号。东方中国材料科学与工程学院生物医学工程研究中心生物反应器工程研究中心,东中国科学与工程学院,纽约街130号,纽约街130号,上海街,200237年,纽约街,200237 200433,中国,5个科学研究共享平台,Mudanjiang医科大学,位于中国Mudanjiang 157011的Aimin区3汤名街3号和6号生理学系,Mudanjiang街3号,Mudanjiang 157011,中国Aimin District,Mudanjiang Street 3
厨房区,洗手间区,护理区,医院走廊和阿波罗医院的样本收集室
图 1. 带有原子标记方案的 CuL T . DMSO 复合物的 X 射线晶体结构 ORTEP 图。位移椭球以 50% 概率水平绘制。H 原子显示为任意半径的圆。铜配合物的循环伏安法揭示了对应于 Cu I /Cu II 氧化还原过程的准可逆氧化还原对。采用 DFT 和 TD-DFT 理论在 M062X/6-311**G/ SDD 水平进行的量子计算与实验数据高度一致。结果表明,铜化合物具有比尿素更大的静态和动态超极化率值。例如,H 2 LT 的 β 0 值大约是尿素的 68 倍。结果预测所研究的化合物能够成为优异的二阶和三阶 NLO 材料。所制备的配合物以H 2 O 2 为氧化剂,能有效催化环己烯的均相氧化反应,以CuL Bz 为催化剂,转化率可达98% 。以所研究的配合物为捕集剂,在酚红氧化溴化反应中探究了溴过氧化物酶活性,该配合物可作为溴过氧化物酶的潜在功能模型,CuL Bz 催化剂表现出较好的催化活性,反应速率常数k 为2.203 × 10 5 (mol L -1 ) -2 s -1 。[1] A. Okuniewski,D. Rosiak,J. Chojnacki,B. Becker,具有Hg(Cl, Br, I)O = Chalogen 键和不寻常的Hg2S2(Br/I)4 核的新型配合物。 τ'4 结构参数的实用性,Polyhedron 90 (2015) 47 – 57,https://doi.org/10.1016/j.poly.2018.02.016。[2] Z. Tohidiyan、I. Sheikhshoaie、M. Khaleghi、JT Mague,一种含四齿席夫碱的新型铜 (II) 配合物:合成、光谱、晶体结构、DFT 研究、生物活性及其纳米金属氧化物的制备,J. Mol. Struct. 1134 (2017) 706 – 714,https://doi.org/10.1016/j.molstruc.2017.01.026。 [3] TH Sanatkar、A. Khorshidi、E. Sohouli、J. Janczak,四齿 N2O2 席夫碱配体的两种 Cu(II) 和 Ni(II) 配合物的合成、晶体结构和表征及其在肼电化学传感器制造中的应用,Inorg. Chim. Acta 506 (2020),119537,https://doi.org/10.1016/j.ica.2020.119537。作者非常感谢阿尔及利亚高等教育和科学研究部的财政支持。他们感谢意大利那不勒斯费德雷科 II 大学化学科学系的 Francesco RUFFO 教授和 Angella TUZI 教授的帮助。此外,作者非常感谢法国里昂大学、克劳德伯纳德里昂第一大学、CNRS UMR 5280、分析科学研究所(69622 Villeurbanne Cedex)提供的计算设施。
1 Sheffield转化神经科学研究所(Sitran),谢菲尔德大学,英国S10 2HQ Sheffield,Sheffield 385号。2 School of Biosciences, University of Sheffield, Sheffield, S10 2TN, UK 3 biOMICS Facility, Faculty of Science Mass Spectrometry Centre, University of Sheffield, Sheffield, S10 2TN , UK 4 Neuroscience Institute, University of Sheffield, Sheffield, UK 5 NIHR Sheffield Biomedical Research Centre 6 Nuffield Department of Clinical Neurosciences, Level 6 West Wing, John Radcliffe医院,牛津OX3 9DU,英国。7神经肌肉部,运动神经元疾病中心,皇后广场神经病学研究所,英国伦敦大学伦敦皇后神经病学研究所†这些作者对这项工作和共享作者共享同样贡献 *相应的作者身份 *相应的作者摘要背景:氧化压力是几种神经退行性疾病的关键特征,包括几种amyotrophicrophicrophicrophicrophicrophic the Redic seplal scleral(Als)。鉴定可靠的氧化应激生物标志物将有益于药物目标参与研究。方法:我们进行了公正的定量质谱法(MS)的分析,以衡量来自ALS患者队列的脑脊液(CSF)的蛋白质丰度和氧化的变化,并在两个时间点(相距四个月)在两个时间点(大约四个月)进行了疾病进展。此外,我们开发了一种敏感且有针对性的定量MS方法,以测量相同的CSF样品中的谷胱甘肽氧化态。结果:CSF的蛋白质组学分析揭示了ALS患者的几种蛋白质的丰度,包括Chit1,Chi3L1,Chi3L2和Col18a1的统计学意义,与两个时间点相比。与健康对照组相比,ALS的几种蛋白质氧化位点显着改变,ALS患者的总可逆蛋白氧化水平升高。鉴于谷胱甘肽氧化可能是氧化应激的有用的生物标志物,我们还测量了谷胱甘肽及其在同一样品中CSF中的氧化态。在两个时间点,ALS的总GSH(TGSH),GSSG水平和GSSG/GSH的比率明显高于健康对照组。在第一次访问中,与HC相比,ALS中TGSH,GSSG和GSSG/GSH的比例分别为1.33(P = 0.0215),1.54(P = 0.0041)和1.80(P = 0.0454)。在第二次访问中,这些值分别为1.50(p = 0.0143),2.00(p = 0.0018)和2.14(p = 0.0120)。此外,我们发现疾病持续时间之间的正相关直到第一次访问与总谷胱甘肽(TGSH),GSSG和GSSG/GSH比率。最后,两次访问时ALS患者的可逆氧化蛋白的总强度与GSSG/GSH的比率之间存在很强的正相关。结论:我们建议测量CSF中谷胱甘肽氧化水平可以作为分层生物标志物,以选择ALS患者进行抗氧化剂治疗,并是监测靶向氧化应激的治疗剂的治疗反应的方法。
1 Precision制造中心,DMEM,Strathclyde大学,格拉斯哥,英国w.xie@strath.ac.uk摘要摘要实现了对氧化增长的精确控制已成为局部阳极氧化(LAO)纳米术的质量控制的关键瓶颈,这是由于缺乏有效的流程监测和反馈控制方法而导致的纳米术。在这种情况下,本文提出并提出了一种现场检测方法,使用高度耐用的导电钻石涂层探针在老挝过程中实时监测氧化生长的状态。研究结果表明,使用钻石涂层的探针可以在微型水平上诱导具有瞬态电流的可控老挝,并创建高度超过18 nm的纳米结构,这尤其优于使用掺杂的硅探针获得的纳米结构。还证明,在一定的电压范围内,检测到的电流可以反映纳米碱制造过程中氧化的生长,检测到的电流与氧化表面的电导率相关,表明氧化程度。可以预期,与柔性脉冲调制的组合将有助于一种柔性,简单的方法来调整氧化生长,为生产高质量的氧化物线铺平道路。原子力显微镜,监测,纳米制造,氧化