● 全国第五大 A&D 员工集中地(仅雷神公司就拥有 10,000 多名员工)● 亚利桑那州最大的两个军事基地:戴维斯蒙森空军基地(11,607 人)和华楚卡堡(9,629 人)● 图森太空港和航空航天研究园区提供独特的土地和扩建机会● 全年适合飞行的天气,气候干燥
✓ Bespoke Network Connectivity (not general purpose) ✓ Eliminate phishing attacks ✓ Resistance to Distributed Denial of Service (DDoS) attacks ✓ Remove DNS, Certificate Authority, Public Key dependency ✓ Ephemeral IPv6 – time+device dependent address:port ✓ Enabler to Web3 Technology Adoption ✓ Anonymized routing, TOR (The Onion Router, Dark Web) ✓ Multi-Pathway Packet Routing (eg split 5G + WiFi) ✓ Hardware security features enable user identity attribution ✓ Endpoint network data analysis (audits, insider threat mitigation) ✓ Quantum Computing Resistant, hardware-enabled cryptography ✓ Novel integration of cyber and hardware security ✓ Combined multi-factor authentication & VPN solution ✓ Raytheon Patented Technology ( US20220239697A1 )
雷神空间与机载系统正在积极推进这一系统,因为该系统具有有益的探测器化学特性。砷掺杂硅 (Si:As) 焦平面为长波红外 (LWIR) 天文学和地球传感应用提供了卓越的性能;然而,操作需要低温冷却至 12 K 以下。现有的最先进的空间和机载闭式循环低温冷却器系统通常无法同时将所需负载保持在 12 K / 55 K 以下,因此通常采用储存制冷剂系统。所需制冷剂的数量相当大,很容易超过仪器的质量和体积。因此,发射质量和体积限制对任务寿命产生了严重限制。因此,闭环低温解决方案不仅可以提供更小的质量和体积,还可以提供更长的任务寿命和更低的物流成本。迄今为止,雷神公司已经设计、建造和测试了三种不同的热机械单元 (TMU),以满足 Si:As 和其他系统的要求:AFRL 资助的高容量-RSP2 (HC-RSP2)、IRAD 资助的 LT-RSP2 和生产 LT-RSP2。
为国防部和联邦航空局提供雷达 (DASR)。雷神公司制造终端多普勒气象雷达 (TDWR) 和机场地面探测设备 (ASDE),并提供完整的机场系统支持服务,包括现场勘测、新系统或扩建系统设计、建造、集成和测试、维护和保修、需求分析、融资研究、性能预测、安装、操作员和维护培训以及项目管理。
图 1.1 骨骼肌组织的机械结构............................................................................................. 4 图 1.2 液压假肢手指 [27] ............................................................................................. 8 图 1.3 液压假手的功能模式 [28] ............................................................................. 9 图 1.4 左侧 BLEEX [29] 和右侧 HULC [32]............................................................................. 10 图 1.5 Raytheon Sacros 的 XOS2 [35] ............................................................................................. 11 图 1.6 老一代 ATLAS,当前一代ATLAS、BigDog、WildCat 和 AlphaDog(从左到右)[36] ........................................................................................................................................... 12 图 2.1 有效体积模量与压力和夹带空气的关系 ............................................................................................. 17 图 2.2 密封横截面 ............................................................................................................................. 19 图 2.3 Stribeck 弹性流体动力润滑模型 ............................................................................. 21 图 2.4 七种孔径下内部光滑孔流动时单位长度压降与流速的关系 ............................................................................................................. 24 图 2.5 压降常数。
4 出口管制“效仿反应”的一个例子是,当日本威胁对其公司运往韩国的半导体材料实施出口管制时,日本很有可能也会将禁令扩大到美国芯片制造商,参见:Goodman, MS, Kim, D., and VerWey, J. (2019) The South Korean-Japan Trade Dispute in Context: Semiconductor Manufacturing, Chemicals, and Concentrated Supply Chains, USITC Working Paper ID-062, Available at: https://www.usitc.gov/publications/332/working_papers/the_south_korea-japan_trade_dispute_in_context_ semi-manufacturing_chemicals_and_concentrated_supply_chains.pdf,中国也起草了不可靠实体名单,将洛克希德·马丁公司(Lockheed Martin)和雷神导弹与防御公司(Raytheon)列入名单。尽管将这两家公司列入不可靠实体清单的影响可能有限,但中国在不可靠实体清单推出 4 年后仍将它们列入不可靠实体清单,见:Davis Polk,(2023 年)中国商务部首次将两家公司列入不可靠实体清单,https://www.davispolk.com/insights/client-update/chinese-ministry-commerce-places-two-companies-its-unreliable-entity-list,据报道,在美国的政治压力下,荷兰政府正在推进对先进半导体设备的出口限制,见:Kharpal, A. 和 Amaro, S (2023 年 3 月 9 日) 美国对中国实施半导体出口管制。现在一个关键的欧盟国家将效仿,CNBC,网址:https://www. cnbc.com/2023/03/09/asml-netherlands-to-restrict-semiconductor-machine-exports-after-us-pressure.html。
关键字:Gan,Mishemt,MBE,MMIC,AL 2 O 3,可靠性摘要雷神已经在<111> si Hemt技术上采用了分子束外延(MBE)开发了gan的状态。相对于MOCVD(〜1000 o C)的分子束外延(MBE)的较低生长温度(〜750 o C)导致热性能提高和从IIII-V/SI界面减少微波损失。这些因素结合起来,以使最有效的高功率(> 4 w/mm)在高频(≥10GHz)上进行操作,这些操作通常与Si上的gan hemts无关。较低的温度MBE生长过程减少了生长后冷却后的GAN拉伸应变,这又使Aln成核层用于GAN HEMT生长。这与基于MOCVD的生长中使用的复杂的Algan/Aln菌株补偿层相反,这些层已显示出显着降低IIII-V外延层的总体导热率。此外,低温MBE ALN成核层导致Si/IIi-氮化物界面处的界面电荷降低。这种大大降低的电荷使雷神能够实现<0.2dB/mm的创纪录的低微波损失(对于SI上的GAN),最高为35 GHz,可与SIC上的GAN相当[1]。最重要的是,在100mm高电阻(> 1,000 ohm-cm)上实现MBE种植的Gan Hemt Epi层质量和均匀性时,记录了创纪录的低微波损失(> 1,000 OHM-CM)<111> Si,可与MOCVD在SIC上生长的GAN相当。板电阻低至423欧姆 /平方英尺(±0.8%),迁移率为〜1,600 cm 2 /v-s。这样做是为了使整个栅极电容,IDSS,IMAX和V t与为了减少门泄漏,雷神用ALD沉积了Al 2 O 3作为高k栅极介电介质形成不幸的。为了最大程度地减少门泄漏,而不会影响关键的RF设备特性(例如FT,FMAX,POWER和PAE),使用电荷平衡模型与栅极介电堆栈一起设计Schottky层厚度。