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EMLC 2024 - 在格勒诺布尔举行的“欧洲掩模和光刻会议”
与往常一样，主题演讲概述了半导体行业以及相关微纳米技术领域的发展方向和趋势。去年的重点是限制当前和未来人工智能应用的过度能耗，而 Serge Nicoleau（意法半导体）的主题演讲将这一主题扩展到半导体行业工艺的总体可持续性，即减少资源消耗并日益避免使用有毒或对环境有害的物质，如 PFAS（所谓的永恒化学物质）。Kagawa-san（佳能）、Sebastian Dauvé（CEA-LETI）和 Kurt Ronse（IMEC）的其他主题演讲涉及纳米压印光刻的现状和前景、CEA-LETI 的半导体研究计划（FAMES）和 EUV 光刻。 Kurt Ronse 的贡献尤其预测了到 2040 年纳米技术的预期发展。虽然半导体行业的领先公司即将推出具有技术节点 N2 的高端工艺（例如，最密集布线层的导体轨道宽度约为 11nm），但节点 A1 中只能实现约 6nm（！）的线宽（根据 2040 年的当前路线图）。
EMLC 2025
进一步的成员Abboud，Frank E. Ectronics，Crolles（法国）Levinson，Harry J.，HJL光刻，加利福尼亚州萨拉托加（美国）Maas，Maas，Raymond，Asml，Veldhoven（荷兰）Maly，Enrico，Photronics MZG，Dresden（德国） CEA-LETI，GRENOBLE（法国）Ronse，Kurt，IMEC，Leuven（比利时）Scheruebl，Thomas，Carl Zeiss SMT，Jena（德国）Schnabel，Ronald，Ronald，Vde E.V.德累斯顿 (德国) Schuch、Nivea、应用材料、格勒诺布尔 (法国) Sundermann、Frank、意法半导体、克罗尔 (法国) Tschinkl、Martin、Toppan Photomasks、德累斯顿 (德国) Varga、Ksenija、EV Group、Florian am Inn (奥地利) Wurm、Stefan、ATICE LLC、纽约州奥尔巴尼 (美国) Yoshitake、Shushuke、NuFlare Technology、横滨 (日本) Zeggaoui、Nassima、西门子工业软件、梅朗 (法国) Zurbrick、Larry、是德科技、圣克拉拉 (美国)
IDIS 2023 年年度报告
我很高兴再次提交 IDIS 的科学报告，分享 2023 年取得的进展，并认可所有专业人员所做的出色工作。感谢大家，我们的指标再次打破了记录：研究活动筹集了超过 5000 万欧元，其中 60% 以上是通过竞争性招标获得的。此外，通过参与 21 个新的欧洲项目，我们的国际影响力得到加强，而且我们的科学成果继续保持着非凡的质量和数量水平，因为我们 45% 的科学工作是与国际团体合作开展的。