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研究人员确定乳酸在神经细胞发育中的关键作用
”鉴于越来越多的证据表明乳酸在生理和病理条件下提供了各种细胞类型的信号调节功能，我们假设乳酸通过改变全面的基因表达来影响神经元功能，” Toohoku Nagatomi教授从Toohoku University的Ryoichi Nagatomi教授和研究团队研究生院以及研究团队研究生院与PH。来自东京医学和牙科大学的学生Yidan Xu和Joji Kusuyama副教授。
kaga电子设备在CDP的气候中升级为“ B”评分...
Kaga Electronics Co。，Ltd。 （总部：东京Chiyoda-ku；代表总裁，总裁兼首席运营官：Ryoichi Kado），此处宣布，它已获得“ B”分数，这是第三高的分数，在气候变化报告2024中由CDP发表的第三高的分数，该报告由CDP发表，该组织是一个非营利性组织，该组织围绕着环境启动和国家，由公司和国家，国家和国家，以及国家和国家，以及国家和国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家和国家的行为。 ●关于CDP CDP（碳披露项目）是一个全球环境非营利组织，于2000年在英国成立。 它分析和评估了公司，城市以及国家和地区政府采取的气候变化和减少温室气体排放计划，并披露结果。 在2024年关于气候变化的调查中，从八个层面上，全球有24,000多个组织在其计划中得分，从气候变化目标设定和商业策略，风险和机会的认识以及披露温室气体的排放等角度。Kaga Electronics Co。，Ltd。 （总部：东京Chiyoda-ku；代表总裁，总裁兼首席运营官：Ryoichi Kado），此处宣布，它已获得“ B”分数，这是第三高的分数，在气候变化报告2024中由CDP发表的第三高的分数，该报告由CDP发表，该组织是一个非营利性组织，该组织围绕着环境启动和国家，由公司和国家，国家和国家，以及国家和国家，以及国家和国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家，以及国家和国家的行为。●关于CDP CDP（碳披露项目）是一个全球环境非营利组织，于2000年在英国成立。它分析和评估了公司，城市以及国家和地区政府采取的气候变化和减少温室气体排放计划，并披露结果。在2024年关于气候变化的调查中，从八个层面上，全球有24,000多个组织在其计划中得分，从气候变化目标设定和商业策略，风险和机会的认识以及披露温室气体的排放等角度。
透皮微针辅助超声增强的CRISPRA系统，以实现肥胖症的Sono-Gene疗法
Motoyasu Adachi 1 , Kenichi Asano 2 , Thomas Busch 3 , Tianben Ding 4 , Evan Economo 3 , Hidenori Endo 5 , Ryosuke Enoki 6 ,7 , Ritsuko Fujii 8 , 9 , Katsumasa Fujita 10 , 11 , 12 , Kyoko Fujita 13 , Naoya Fujita 14 , Takasuke Fukuhara 15，Josephine Galipon 16，17，18，Hiroshi Harada 19，Yoshie Harada 20，21，22，Takeshi Hayakawa 23，Shinjiro Hino 24，Eishu Hirata 25，26，Tasuku Honjo 27 ，33，Yuichi Iino 34，Hiroshi Ikeda 35，Koji Ikeda 36，Yuji Ikegaya 37、38、39，Daichi Inoue 40，Tsuyoshi Inoue 41，Masaru Ishii Ishii 42、42、43、43、43、44，Shoji Ishizaka 45 45，45，izakakiizakiizakiizakiizakiizakiizakiizakiiza 45，45，akihito 45 Kimitsune Ishizaki 48，Terumasa Ito 49，Kenji Kabashima 50，Takaaki Kajita 51,52,53，Azusa Kamikouchi 54，Hiroshi Kanno 4,55，Hitoshi Kasai 56，Satoshi Kasai 57 Kikuchi 60，Yasutaka Kitahama 4，Koichi Kobayashi 61，Satoshi Kodera 62，Tamiki Komatsuzaki 63,64,65，Hidetoshi Kono 1,66，Hidetoshi Kono 1,66，Tsuyoshi Konuma 67，Yassei Konuma 67，Yassei Kudo 68，daiSuke Kumike Kumike Kumuke 69， Shoen Kume 70, Erina Kuranaga 71,72, Fabio Lisi 4, Kiminori Maeda 73, Kazuhiro Maeshima 74,75, Kanetaka M. Maki 76, Hiroyuki Matsumura 4, Takeo Minamikawa 77, Emi Minamitani 47,78, Yoshiko Miura 79, Kyoko Miura 80, Norikazu Mizuochi 81,82,83, Masayoshi Mizutani 84, Hiroki Nagashima 73, Ryoichi Nagatomi 85,86, Kuniyasu Niizuma 55,87,88, Masako Nishikawa 89, Emi Nishimura 90,91, Norihiko Nishizawa 92, Hiroaki Norimoto 54,61, Osamu Nureki 34, Fumiaki Obata 19,93, Shizue Ohsawa 54, Misato Ohtani 94, Yoshikazu Ohya 94, Kimihiko Oishi 95, Mariko Okada 20, Taku Okazaki 96, Satoshi Omura 97, Yuriko Osakabe 70, Tsuyoshi Osawa 98，Yukitoshi Otani 99，Walker Peterson 4，
高密度PWB
高密度PWB Ryoichi Watanabe和Hong的新电路编队技术赢得了Kim Samsung Electro-Mechanics Co.，Ltd。Suwon，S。韩国摘要为满足普华永道的未来需求，已讨论了普华永道的各种流程，材料和工具的技术。特别重要的是高端PWB的电路形成技术。在这些年中，从工业上讲，良好模式的电路形成方法已经改变了从减法过程到半添加过程（SAP）。SAP可以形成更细的电路，因为它不会引起侧面蚀刻，这是减法方法的问题。但是，SAP的闪光蚀刻过程会导致其他问题，例如由于电路之间的残留种子金属层，电路蚀刻和由于蚀刻而引起的电路分层引起的短缺陷。同样，由于形成电路的绝缘体表面的粗糙度，不仅有良好的电路形成的困难，而且是电特性的损失。在本文中，讨论了一种新的电路形成方法，以克服SAP原因闪光蚀刻过程的问题。它不需要闪光蚀刻过程，因此可以形成更细的模式。该细线电路形成的能力取决于图案抵抗分辨率，并被确认在L/S（线/空间）= 10/10UM或更少的情况下表现良好。也将电路模式埋在绝缘体层中，并且是带有绝缘体表面的刨床，因此电路具有高骨强度，具有绝缘体，并且通过制造设备或工艺之间的处理，损坏较小。此方法适用于建立PCB和FCP作为满足未来需求的电路形成技术。介绍电子设备的演变，该电子设备的发展速度更快，更小，更多功能但更具成本效益，PWBS的各种技术对于较高的密度需要各种技术。三星电力学有限公司，有限公司制造了许多PWB，例如HDI，用于手机，数字静止相机等，BGA软件包，FC BGA包装。为了满足未来的需求，特别是对于FCBGA，由于其高密度，生产FC BGA的产品变得越来越困难。电路的形成是需要在高密度方面快速进步的过程之一。已讨论了作为电路形成过程的减法过程和半添加过程（SAP），以提高其高密度。1，3但是，由于化学蚀刻而引起的减法过程具有侧面蚀刻的基本问题，并且由于闪光蚀刻过程，SAP具有局限性。SAP的闪光蚀刻过程会导致电路蚀刻等问题，如图1所示，在电路底部切割，如果闪光蚀刻不足，则在电路底部和种子层残基。由于种子层通常是铜，与电路相同，因此闪光蚀刻过程不仅蚀刻了种子层，还可以蚀刻电路。因此，电路宽度和厚度必须比闪光蚀刻之前的最终尺寸更宽，更厚，以在闪光蚀刻后保持设计规则。例如，在降低20UM电路的底部分离后，如图1所示，仅粘附的宽度仅为20UM螺距，如图1所示。这被认为是不足以为20UM电路提供足够的剥离强度。当电路变得更细时，由于制造输送机或滚筒的处理损坏，底切将是一个更大的问题，制造业产量将更低。出于这些原因，需要基于新概念的电路形成技术才能使线路电路形成并解决这些技术困难。