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四氯化硅中钽的反应离子蚀刻
金属结构的精确图案化在可行的金属基器件的开发中起着至关重要的作用。通过研究适当蚀刻材料层的蚀刻条件，可以进一步优化和控制蚀刻过程。这项工作报告了使用四氯化硅 (SiCl 4 )/氩 (Ar) 等离子体对钽 (Ta) 微米膜进行反应离子蚀刻 (RIE)。研究了蚀刻特性与 SiCl 4 /Ar 比率、等离子体功率和腔室压力的关系。结果发现，增加 SiCl 4 的流速或等离子体功率会导致蚀刻速率增加。此外，观察结果表明，将 Ar 的流速增加到 30 sccm 以上和将等离子体压力增加到 100 mTorr 以上是无效的。此处实施的工作代表着开发可用于广泛设备的钽基结构的重要一步。
使用 Cl2/Ar/N2 电感耦合等离子体对 SiO2 纳米沟槽上的 TiN 纳米结构进行选择性干法蚀刻
介绍了一种用于在纳米表面结构上制造 TiN 纳米结构的电感耦合等离子蚀刻工艺。使用 Cl 2 /Ar/N 2 等离子体，在 SiO 2 上可实现 50 的选择性。研究了 N 2 流速对蚀刻速率和 TiN 侧壁上非挥发性残留物的影响。当 N 2 流速增加到 50 sccm 时，观察到 TiN 侧壁上非挥发性残留物的沉积发生变化。介绍了用 TiN 纳米结构侧壁制造的 TiN 器件的电流密度-电压特性。分别用低和高 N 2 流速蚀刻的两个不同样品的测量电流密度表明，仅在低 N 2 流速下，清洁后才会在侧壁上沉积一层绝缘层。VC 2015 美国真空学会。 [http://dx.doi.org/10.1116/1.4936885]
进行复苏教育 - 更好的结果
美国儿科学院（AAP）美国急诊医师学院（ACEP）美国妇产科学院（ACOG）美国外科医生学院（ACS）美国心脏协会紧急心血管护理（AHA ECC）美国红十字会科学咨询委员会（SAC）大脑创伤基金会心脏骤停注册表以增强疾病控制与预防中心（CDC）战术战斗人员伤亡护理委员会（COTCCC）国际重症监护医学复苏学会（ILCOR）的联络委员会（ILCOR），美国生存的SEPIS竞选活动（SSC）国际竞选活动（SSC） （IFRC）世界卫生组织（WHO）
用于常关型 GaN HEMT 的新型纳米结构 P-GaN 栅极的设计优化
A. 具有 MBE 再生长 P-GaN 栅极的常关型 HEMT HEMT 结构的特点是具有 25 nm 厚的 AlGaN 势垒和 20 % 的铝率。首先，通过 PECVD（等离子增强气相沉积）沉积 100 nm 厚的氧化硅 SiO 2 层，作为 AlGaN 栅极蚀刻和选择性 GaN 再生长的掩模。在用 CF 4 RIE 蚀刻 SiO 2 层以确定栅极区域之后，通过 ICPECVD 对 AlGaN 层进行 Cl 2 部分蚀刻，条件如下：RF 功率为 60 W、压力为 5 mTorr 并且 Cl 2 流速为 10 sccm。蚀刻时间为 35 秒，去除了 19 nm 的 AlGaN。然后在 MBE（分子束外延）反应器中重新生长用镁（Mg）掺杂的 50 nm GaN 层，其标称受体浓度为 Na-Nd 为 4 x 10 18 cm -3。
高质量单类石墨烯，区域
总结在这项研究中，低压蒸汽的方法用于使高质量的单层石墨烯具有铜板表面大面积的高面积。石墨烯的形成和质量受到基础CH4：H2的温度和比率的显着影响。最佳类单层石墨烯是在约1000°C的温度下进行的，生长周期为120分钟，而CH4：H2的比率为35：6 SCCM。反应室中的总压力在1.0至1.2托尔的范围内变化。峰值2d（〜63.43 cm-1）的峰（FWHM）与拉曼光谱的峰i2d/ig（〜3,10）的强度之比证实了单层石墨烯。石墨烯微不足道和高均匀性的残疾通过低圆形拉曼峰证实。已经评估了许多Khaists的温度和压力参数，是合成高品质石墨烯的最佳选择，有望在光学，电化学，电子和有毒气体传感器的领域打开新应用。
病原体面板测试策略编号：AHS - G2149
EIEC Enteroinvasive Escherichia coli ESICM European Society of Intensive Care Medicine ETEC Enterotoxigenic Escherichia coli EUA Emergency use authorization FDA Food and Drug Administration GDH Glutamate dehydrogenase GI Gastrointestinal GIPs Gastrointestinal pathogens GPP Gastrointestinal pathogen panel HIV Human immunodeficiency virus HPV Human papillomavirus infection IDSA Infectious Diseases Society of America LAMP Loop-mediated isothermal amplification LCD Local coverage determination LDT Laboratory developed test ME Meningitis/encephalitis MRSA Methicillin resistant staphylococcus aureus MSSA Methicillin sensitive staphylococcus aureus NAAT Nucleic acid amplification test NICE National Institute for Health and Care Excellence NP Nasopharyngeal NPS Nasopharyngeal swabs PCR Polymerase chain reaction PLA Proprietary laboratory analyses PPA Percent positive agreement RNA Ribonucleic acid RP Respiratory pathogen RP2 Respiratory pathogen panel 2 RPP Respiratory pathogen panel RSV Human respiratory syncytial virus RT-PCR Reverse transcriptase polymerase chain reaction RV+ Respiratory virus plus核酸测试RVP呼吸病毒面板SARS-COV- 2严重的急性呼吸综合症冠状病毒2 CCM CARICAR CARE医学学会Shea Shea医疗保健流行病学学会SOT SOT固体器官移植SSTI SSTI SSTI STI皮肤和软组织感染STEC SHIGA TECE SHIGA TESCAINIA
改进o 2等离子体蚀刻钻石功率MOSFET制造
为了最大程度地减少或消除沟槽，最好有利于蚀刻过程的化学成分。因此，我们决定继续使用ICP-RIE进行O 2等离子体蚀刻，这是因为在表面形态和各向异性蚀刻方面具有令人鼓舞的结果，因此我们已经研究了血浆参数的影响ICP和偏置功率，尤其是使用两种类型的口罩：铝和硅二氧化物（Sio-dioxide）（Sio 2）。3- O 2在Sentech Si500-Drie设备上进行了用铝面膜钻石蚀刻的等离子体蚀刻。测试样品是（100）方向的单晶CVD钻石底物和元素六的3 x 3 mm 2尺寸。第一步涉及溶剂和酸的化学清洁，以去除可能影响蚀刻和产生粗糙度的污染物。然后将钻石底物涂在光线器上，并用激光光刻降低，以定义掩模图案。然后通过热蒸发沉积700 nm厚的铝面膜。金属薄膜，例如铝，由于其在钻石上的良好粘附性[24]及其良好的蚀刻选择性[25]，因此将其用作单晶钻石蚀刻的硬面膜材料。此外，由于血浆中的寿命不足，尤其是在氧气中，因此与光致剂相比，金属面膜仍然是更好的选择。3.1 o 2等离子蚀刻的p icp = 500W和p偏见= 5W我们研究的第一个蚀刻条件是：p icp = 500 w，p sial = 5 w，压力= 5吨，气体流量= 25 sccm，温度= 18°C。每个蚀刻步骤都限制为30
传统信息技术环境（MD-Lite）
医疗设备 - 利用信息技术环境（MD-LITE）是一种平台 - IT（PIT）系统，该系统由非居民医疗设备和适用组件组成，该系统托管在退伍军人卫生管理（VHA）医疗设施中。MD-Lite坑由136个医疗设施的医疗资产组成。系统环境由用于诊断，治疗或监测生理测量或用于健康分析目的的医疗设备/系统组成，并已遵守美国食品和药物管理局（FDA）预上市通知并完成并完成了并完成了并完成了并完成了预认证 - 510（k）认证 - 或前批准（PMA）。医疗设备/系统的示例包括但不限于生理监测系统，呼吸机，输液泵，计算机断层扫描（CT）扫描仪，MUSE™心脏病学信息系统，图片归档和通信系统（PACS），临床信息系统（CIS）和实验室分析器。这包括直接连接到患者的医疗设备/系统，处理人和其他生物标本，创建医学图像，显示电生理波形，获得生理测量和/或直接对患者进行治疗支持。这些设备/系统不能使用退伍军人事务（VA）批准的安全配置基线来管理，并且不能接受自动漏洞修补程序（即，操作系统的自动安装和/或应用程序更新，安全补丁，信息和技术办公室，信息和技术办公室（OIT）通过System Center Configuration Manager（SCCM）管理，BIGFIX）。md-lite依靠退伍军人事务企业网络（VAEN）平台提供网络骨干连接性以及所有需要网络运输才能运行的支持系统。
分子遗传学和基因组学的研究生助理
Accounting (BS) BACC Data Analytics (Conc) BAC1 Anthropology (BS) SANT Applied Ecology and Environmental Sciences (BS) FES Applied Geophysics (BS) EAG Applied Physics (BS) SAP Audio Production and Technology (BS) SFAT Biochemistry and Molecular Biology (BS) Bio Sci SMBB Biochemistry and Molecular Biology (BS) Chemistry SMBC Biological Sciences (BS) SBL Biomedical Engineering (BS) EBE Engineering Enterprise (Conc) EBEE Business Analytics (BS) SBA Chemical Engineering (BS) ECM Engineering Enterprise (Conc) ECME Chemistry (BA) SCA Pre-Pharmacy ( Conc) SCA1 Chemistry (BS) SCH Biochemistry (Conc) SCH2 Chemical Physics (Conc) SCH4 Environmental (Conc) SCH5 Polymers (Conc) SCH1 Civil Engineering (BS) ECE Engineering Enterprise (Conc) ECEE Communication, Culture, and Media (BA) SCCM Computational Biology (BS) SCB Computational Chemistry and Chemical SCCC Informatics (BS) Computer Engineering (BS) ECP Computer Engineering Enterprise (Conc) ECPE Computer Science* (BS) SCS Applications (Conc) SCS1 Computer Science (Conc) SCS2 Computer Systems (Conc) SCS6 Game Development (Conc) SCS7 Construction Management (BS) TCMG Cybersecurity (BS) CCY Software Security (Conc) CCY1 System and Network Security (Conc) CCY2 Data Science (BS) IDS Economics (BS) BEC Ecology and Evolutionary Biology (BS) SEEB Electrical Engineering (BS) EEE Biomedical Applications (Conc) EEEB Electric Power Engineering (Conc) EEEW Engineering Enterprise （浓缩）EEEE环境应用（浓度）EEEV Photonics（CONC）EEEP电气工程技术（BS）TEET工程（BS）EBS工程（AS）EAN Engineering Management（BS）BEM英语（BA）SEN环境数据科学（BS）FEDS环境工程（BS）环境工程（BS）
碳足迹报告2023-引起的温室气体排放...
Alfen N.V.（以下简称“ Alfen”或“ Company”）的年度报告提供了二氧化碳（CO 2）在2023年的Alfen活动的排放清单。本报告是Alfen集成的能源管理系统的一部分，已根据ISO 50001能源管理系统标准的要求[201]，SCCM认证标准CO 2降低ISO 14001 [202]，ISO 14001 [202]，版本3.1，CO 2性能阶梯[204]的3.1版[204]，Green House Gase（GHG）协议[205] for ISSOS [205]和国际标准ISO [206] 140.140 140.140 140.140 140.140。本报告包含ISO 14064-1：2018的第9.3.1节中的所有主题。所使用的排放因素包含在附录B中。Alfen在执行活动期间没有任何不可接受的风险是可持续的公司。因此，Alfen一直在寻找机会以能源消耗和CO 2减少方式以及以环境友好的方式进行这些活动，从而在此努力在其中持续改进。在Alfen的环境管理政策声明[102]中指出了这一野心。有关二氧化碳排放和改善能量性能的周期性报告是计划检查（PDCA）周期的一部分。PDCA周期在Alfen集成管理系统（AIM）中描述。该报告所涵盖的发射活动包括范围2中的所有直接排放范围中的所有直接排放以及与范围3中商务旅行有关的间接排放，这与CO 2 Performance 2 Performance Ladder Handbook 3.1一致。排除的是与多公司建筑物中办事处租金相关的排放，因为该建筑物不受Alfen的控制，并且能源使用不会单独计量。此能源使用在其他范围3排放中包括。直接排放（范围1）是由Alfen拥有或控制的装置发出的，例如自己的燃气加热系统的排放以及具有化石燃料消耗的车队和设备。间接排放是公司活动的结果，但起源于不拥有公司并未由公司管理的来源。在Alfen报告的间接排放量与公司设施和车辆（范围2）以及商务旅行产生的排放（SCOPE 3）相关。后者涉及公司价值链（范围3）的第6类会计和报道标准GHG协议[207]。图1可视化与公司在具有分类的范围图中可能与公司相关的温室气体排放。本报告讨论了报告范围的总碳足迹（第5章），有关CO 2的详细信息，范围1（第6章），范围2（第7章）和范围3（第8章）的商务旅行（第8章），最后在第9章。