根据初步的行业研究,目标市场缩小到最有可能盈利的应用。然后,该团队联系制造商,获取内部二氧化硅的详细信息,以便与特性结果进行比较。尽管最初尝试设计二氧化硅净化系统,但发现该系统能耗很高,在研究期间不会给第 14 组带来微不足道的利润。相反,根据这些结果,使用决策树根据粉末成分和特性的多样性提出了多种回收二氧化硅的方法。
抽象的介孔二氧化硅是一种出色的低密度透明材料,其特征在于定义明确的纳米孔径。它有各种形态,包括整体,纳米颗粒和电影。该材料在众多技术应用中起着关键作用,无论是独立的还是混合复合材料的组成部分,是多种无机和有机材料范围的宿主。在合成路线中,我们考虑了Sol -Gel方法,因为它在产生纳米颗粒和散装中孔二氧化硅方面取得了巨大成功。本评论的重点是探索介孔二氧化硅和介孔二氧化硅的复合材料的光学性质,并深入研究如何在各个领域中利用中孔二氧化硅内的巨大空间:热和电气绝缘,光子学,环境设备,或用于药物和生物模拟的纳米型。这项全面的检查强调了介孔二氧化硅的多方面潜力,将其定位为在各个科学领域开发创新解决方案的关键参与者。
具有良好潜在应用前景的纳米结构无机材料引起了基础和实际方面的广泛研究关注。SiO 2 (二氧化硅) 是最广泛使用的无机材料之一,在微电子 1、2 、微机电系统 3、4 和微光子学 5、6 等领域需要具有纳米级分辨率的制造方法。为了制造具有所需纳米结构的二氧化硅,通常需要复杂的自上而下的图案化工艺,包括热氧化 7 和化学气相沉积 8,然后进行干 9、10 或湿 11、12 蚀刻步骤。虽然已经开发出具有高产量的成熟加工技术,但这些技术涉及使用危险化学品(例如抗蚀剂、显影剂和蚀刻剂)并且需要复杂的制造设备。此外,使用自上而下的制造方法实现纳米分辨率的复杂和/或不对称的三维 (3D) 结构非常具有挑战性。因此,对能够生产具有复杂几何形状和化学变化的 3D 二氧化硅结构的直接纳米制造技术的需求很大。新兴的增材制造 (AM) 技术或使用数字设计的 3D 打印可以通过逐层沉积 13-16 创建精细结构,以生成复杂的结构并简化制造过程。更重要的是,作为一种已得到充分证明的自下而上的技术,据报道 3D 打印可以构造曲线基底 17、非平面表面 18 和曲折的 3D 图案 19,这些超出了传统自上而下的图案化方法的能力。熔融石英玻璃的 AM 是通过对无定形富含二氧化硅的浆料 20 进行立体光刻实现的,分辨率为几十微米。尽管已经制造出具有出色光学和机械性能的明确结构,但商用 3D 打印技术提供的空间分辨率相对较低,限制了它们在微电子、微机电系统和微光子学中的应用。新兴的微数字光处理技术 2
本文评估了将氧化铝和二氧化硅纳米颗粒添加到釉料配方中的效果,以通过降低表面孔隙率来提高抛光的玻璃巴西瓷砖,以提高污渍耐药性。在研究的第一阶段中,制备了十种制剂 - 一种标准和九个测试配方,它们经过了抛弃后选择过程,主要标准是评估表面染色耐药性的改善。在具有光学显微镜的表面孔隙率分析中,观察到添加二氧化硅纳米颗粒会降低釉料的表面孔隙率,从而改善了最终产物的污渍耐药性。添加氧化铝纳米颗粒的结果显示孔隙率增加,使最终产物的抗污渍耐药性恶化。选择了最低表面孔隙率的三种配方以及标准的配方进行补充测试,涉及:X射线衍射测定法,差异扫描量热法,热力计测定法,扩张分析和扫描电子显微镜。通过热膨胀和半球温度测试,可以通过使用Vogel-Fulcher-Tammann公式来获得理论粘度的测量,并在添加硅纳米颗粒时在材料中较低温度下在较低温度下在较低的温度下证明膨胀软化,Littlettric软化和流动点。随后选择了与釉料孔隙率和其他物理化学特征(具有5%硅胶纳米颗粒的配方)的降低有关的表述,主要是与实验室所获得的结果进行了选择,即确认在实验室中获得的结果。
介孔二氧化硅纳米颗粒(MSN)由于其特性和应用多样化,特别是在纳米医学中引起了极大的关注。MSN的独特特性,例如其高表面积,可调孔径和多功能表面化学,使其成为各种生物医学应用的理想候选者。本综述旨在详细了解MSN,从合成和表征到其在生物医学中的多功能应用,强调其在推进医疗保健技术方面的巨大潜力。全面讨论了MSN的合成方法,强调了溶剂,碱基,碱性浓度和模板表面活性剂等参数对纳米结构的大小和形状的影响。讨论了不同类型的MSN,包括MCM-41,SBA-15,KIT-6和空心MSN,以及它们的合成协议和独特的特征。该评论还涵盖了各种光谱技术,例如XRD,XPS,FTIR,
去除半刚性分离器,允许板在近端靠近,同时保留了更好的温度控制和酸性减少的优势。由此产生的纳米 - 硅电池具有AGM构造的优势,并具有温度控制和减少凝胶构造的电池的酸层。这将创建一种高级电池技术,它优于传统的AGM和凝胶电池技术。
硅酸的电离性很差。在 pH 值为中性时,水中存在的几乎所有二氧化硅都是分子而不是离子。尽管强碱树脂能够分解盐,但分子二氧化硅无法通过离子交换途径进入离子交换珠,并且受到其扩散到珠子中的速率的限制。氯化物形式的阴离子树脂去除的入口二氧化硅不到 5%,部分原因是扩散限制,部分原因是二氧化硅在 pH 值为中性时电离不利。扩散限制也是二氧化硅选择性混合物和吸附剂去除二氧化硅缓慢且不完全的主要原因。二氧化硅到达吸附位点需要很长时间,比水通常与介质接触的时间要长得多。
cai li,1个feng pei,2 na xiao 1和xiao-fei Zeng 1,2,*抽象的空心二氧化硅纳米球(HSNS)由于其低折射率而被广泛用作抗反射涂层。但是,很难使用简单的混合方法将它们合并到光学聚合物矩阵中,以增强可见的传输。瑞利散射是由其较大的粒径和集聚问题引起的,这会使光学聚合物的阴霾和透明度更糟。在此,直径约为20 nm的超小HSN通过反向微乳液方法合成。通过高重力技术在旋转的床反应器(RPB)中实现了扩展制剂,然后通过简单的溶液混合方法制造了透明的聚乙烯醇(PVA)/HSNS纳米复合材料。HSN的内腔大小约为8 nm,折射率为1.342。通过使用不同的表面修饰符,它们可以分别在水和有机溶剂中单分散。制备的PVA/HSNS纳米复合材料具有超高的透明度和低阴霾,因此HSN均匀地分散在PVA矩阵中,而没有任何聚合,这在光学材料和设备中具有很高的应用前景。
Arrowsmith North 硅砂项目是开发硅砂矿的提案。该提案位于西澳大利亚中西部地区,距珀斯西北偏北约 270 公里,距埃尼巴西北 35 公里。该提案的提议者是 VRX Silica Limited。该提案包括硅砂的连续块状开采、矿山供料厂的开发、可移动地面输送机、管道、加工厂、库存、淡水供应孔、通道、堆放、管理、蓄水和相关基础设施,包括燃气发电站、通讯设备、办公室、车间和其他堆放区。连接矿山与 Brand 高速公路、淡水供应孔和水管道的通道将位于通道开发范围内;所有其他基础设施都将位于矿山开发范围内。产品将通过公路运输到杰拉尔顿港,然后出口到国际市场。矿山开发范围和扰动足迹为 292.6 公顷,通道开发范围为 60.4 公顷,扰动足迹为 6.5 公顷。该提案将分阶段实施,在项目 30 年的生命周期内同时进行逐步清理、采矿和修复。
沉积过程的一种非常特殊的情况是所谓的外延沉积,或者只是外延。该专业局部旨在将材料沉积到单晶模板上,生长为单晶层。半核心设备制造链中的第一步之一是在空白硅晶片上沉积外延硅。这是在外交过程中完成的。经常运行这些过程,一次仅处理一个晶圆(即单个晶圆处理)或少数数字(即多窃听或迷你批次)。
