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样本4年学位计划 - BSRT-放射科学科学学士
•BIOL 1134 ANAT＆PHYS I *•ENGL 1103或1123或1143•PSYC 1103 GEN PSYC或SOCL 1133 SOCL介绍•POLS 1333 AMER GOVT I•文化和全球理解
使用顺序氧化和脱氧氯化反应
摘要：使用O 3（臭氧）和SOCL 2（硫代氯化物）的顺序暴露证明了钼（MO）的热原子层蚀刻（MO）。原位石英晶体微量平衡（QCM）研究对溅射的Mo涂层QCM晶体进行。QCM结果表明，在短暂蚀刻延迟后，Mo Ale显示出线性质量下降与啤酒周期。每次o 3暴露都会观察到明显的质量增加。每次SOCL 2暴露都会发生巨大的质量下降。Mo Ale的每个周期的质量变化（MCPC）是在长时间的SCOL 2暴露后是自限制的。MCPC随着3个暴露时间的较长而增加。原位QCM研究表明，这种软饱和度更长的O 3暴露于Mo的扩散限制氧化引起的。mo蚀刻速率随蚀刻温度逐渐增加。在饱和条件下，在75、125、175和225°C时，mo蚀刻速率分别为0.94、5.77、8.83和10.98Å/循环。X射线光电子光谱（XPS）和原位四倍质谱法（QMS）研究进行了研究，以了解反应机制。XPS在150°C下暴露于O 3后主要在MO表面上显示MOO 3。从QMS研究中，当MO在200°°C中接触MO在MO中暴露于SOCL 2时，监测了挥发性SO 2和MOO 2 Cl 2。这些结果表明，这些结果表明，通过氧化和脱氧氯次反应发生。mo用O 3氧化为MOO 3。随后，MOO 3经历了脱氧氯化反应，其中SOCL 2接受氧气产生SO 2并捐赠氯以产生MOO 2 Cl 2。Additional QCM experiments revealed that sequential exposures of O 3 and SO 2 Cl 2 (sulfuryl chloride) did not etch Mo at 250 ° C. Time-resolved QMS studies at 200 ° C also compared sequential O 3 and SOCl 2 or SO 2 Cl 2 exposures on Mo at 200 ° C. The volatile release of MoO 2 Cl 2 was observed only using the SOCl 2 deoxychlorination reactant.原子力显微镜（AFM）测量结果表明，MO表面的粗糙度与Mo Ale循环缓慢增加。
文理学院
第 1 页 教职人员名单 3 1.1 学院官员 3 1.2 教职员工 3 1.3 教职员工 3 2 学习课程 6 3 本科课程 7 3.1 入学要求 7 3.2 毕业要求 7 3.3 学术规则与条例 7 3.4 学习计划 - 一般 7 3.5 课程代码 8 3.6 实验室收费 8 3.7 辅助实验室 8 4 主修/课程/课程 部门代码 9 4.1 阿拉伯语 ARAB 9 4.2 天文学课程 ASTR 12 4.3 生物学 生物学 BIOL 13 4.4 化学 化学 CHEM 22 4.5 汉语课程 语言 CHIN 28 4.6 计算机科学 计算机科学 CSIS 29 4.7 文化研究 人文科学 CSPR 35 4.8 教育 教育 EDUC 37 4.9 英语 英语语言文学 ENGL 45 4.10 环境科学 环境科学 EVSC 51 4.11 法语 FREN 57 4.12 地质学课程 GEOL 61 4.13 德语课程 语言 GERM 61 4.14 希腊语课程 语言 GREK 61 4.15 历史 人文学科 HIST 62 4.16 大众媒体和传播 大众媒体和传播 MCOM 65 4.17 数学 数学 MATH 72 4.18 音乐课程 MUSC 77 4.19 造型艺术课程 PART 77 4.20 哲学 人文学科 PHIL 78 4.21 体育 体育 PHED 80 4.22 物理 物理 PHYS 87 4.23 政治科学 人文学科 PSIA 93 4.24 心理学 心理学 PSYC 98 4.25 俄语课程 语言 RUSS 103 4.26社会学课程 语言 SOCL 103 4.27 西班牙语课程 语言 SPAN 103 4.28 戏剧课程 人文学科 THEA 104 4.29 翻译课程 语言 TRAN 105 4.30 大学课程 LISP 108