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Wafergrip基本信息
过程方法•从释放纸或甲膜层中除去Wafergrip粘合剂，然后在室温下涂在安装基板上（例如蓝宝石或玻璃）。•将零件或晶圆放在晶状体上，然后将整个组件加热至约110°C/230°F约110°C/230°F，持续30至60秒的光压力，最好使用真空室进行无效的粘合•为了删除Wafergrip，我们建议使用我们特殊配方的溶剂固定式“ latevent” lactaid x solvent”。
用于太空应用的高效钙钛矿太阳能电池
(ad) 光学、(eh) 顶视图 SEM；(il) AFM 和 (mp) 175 微米蓝宝石上层 ITO 的导电 AFM 图像，底层 Al 2 O 3 缓冲层厚度不同：(a、e、i、m) 0 nm；(b、f、g、n) 20 nm；(c、g、k、o) 40 nm 和 (d、h、l、p) 60 nm。(a) 至 (d) 中的光学图像的比例尺为 100 μm，其他图像 (e) 至 (p) 的比例尺为 300 nm。
BD FACSAria II 用户指南
Clorox 是 The Clorox Company 的注册商标。Fluoresbrite 是 Polysciences, Inc. 的注册商标。JDS Uniphase 是 JDS Uniphase Corporation 的商标。Microsoft、Windows 和 Excel 是 Microsoft Corporation 的注册商标。Sapphire 是 Coherent, Inc. 的商标，Coherent 是 Coherent, Inc. 的注册商标。SPHERO 是 Spherotech, Inc. 的商标。Texas Red、Alexa Fluor 和 Cascade Blue 是 Molecular Probes, Inc. 的注册商标，Pacific Blue 是 Molecular Probes, Inc. 的商标。Teflon 是 E. I. du Pont de Nemours and Company 的注册商标。Contrad 是 Decon Labs, Inc. 的注册商标。Point Source 和 iFlex2000 是 Point Source, Ltd. 的商标。Kimwipes 是 Kimberly-Clark Corp. 的注册商标。Lauda 是 Brinkman Instruments, Inc. 的注册商标。所有其他公司和产品名称可能是与其相关的各自公司的商标。
通过化学束蒸气沉积对高质量外延锂薄膜的有效优化：阳离子化学计量的影响
Niobate锂是其具有挑战性的功能性能的特殊材料，可以适合各种应用。然而，到目前为止，在蓝宝石底物上生长的高品质200毫米li x nb 1-x o 3薄片迄今为止从未报道过这限制了这些潜在应用。本文报告了蓝宝石（001）底物在组合构造中通过化学梁蒸气沉积在蓝宝石（001）底物上对高质量的薄膜沉积的有效优化。使用此技术，LI/NB的流量比可以从单个晶圆上调整≈0.25至≈2.45。在膜的胶片（不同阳离子比）的不同区域进行了各种互补特征（通过不同的效果，显微镜和光谱技术），以研究阳离子化写计数器对纤维属性的影响。接近阳离子化学计量学（Linbo 3），外延纤维具有高质量（尽管有两个平面域，但低镶嵌性为0.04°，低表面粗糙度，折射率和带隙接近散装值）。偏离化学计量条件，检测到次级相（富含NB的流动比的Linb 3 O 8，Li 3 NBO 4具有部分非晶化的Li-foW流比）。linbo 3薄膜对于数据通信中的各种关键应用程序都具有很高的兴趣。
Aln/Algan/Aln双重异质结构的明显故障电压
Mie University，MIE 514-8507，日本摘要 - 超宽带隙（UWBG）材料（例如ALN）是一类材料的一部分，这些材料的一部分比传统的宽带隙（WBG）材料（例如GAN），例如GAN，例如GAN，允许更高的工作电压。在这项工作中，我们介绍了Aln/Algan/Aln双重异质结构的制造和DC/高压表征，这些异质结构是由Aln/Sapphire上的Metal Organic Chemical Vapor沉积重生的。报道了低于2µm的间距的泄漏电流约1100V的缓冲区分解，这对应于大约6 mV/cm的分解场。此外，晶体管在此异质结构上已成功制造，泄漏电流低和抗性低。确实已经达到了4.5 kV的击穿电压，而现状泄漏电流确实已经达到0.1 µA/mm。这些结果表明，Algan-Channel Hemts对高功率，高温未来的应用有希望。
LCOS-SLM X15213系列
X15213系列设备是带有紧凑型壳体和用于电源的AC适配器的LCOS-SLMS（硅 - 空间光调节器），适用于光学桌上。LCOS-SLMS可以使用数字视频接口（DVI）通过PC调节光束的波前，这是PC显示器的标准接口。高速响应和高精度相调制是通过直接控制液晶（LC）的电压来实现的，该液晶（LC）通过应用CMOS技术形成的地址部分的电压。LCOS-SLM的最佳光学设计可最大程度地减少光损失，以达到高衍射效率和高光利用率。此外，可以通过数字校正镜面畸变，LC层厚度的不均匀性以及LC的非线性响应而获得高线性调制特性。为了提高功率处理能力，我们还提供具有内置水冷热量的高功率激光类型，以及使用Sapphire Glass用于玻璃基板的激光金属加工类型。
LCOS -SLM -X15223系列
X15223系列设备是旨在集成到您的设备中的LCOS-SLMS（硅上的液晶 - 空间光调节器）。LCOS-SLM头和驱动器电路通过柔性电缆连接，并且可以轻松安装在设备中。此外，驱动电路配备了各种接口，因此您可以选择最合适的接口。高速响应和高精度相调制是通过直接控制液晶（LC）的电压来实现的，该液晶（LC）通过应用CMOS技术形成的地址部分的电压。LCOS-SLM的最佳光学设计可最大程度地减少光损失，以达到高衍射效率和高光利用率。此外，可以通过数字校正镜面畸变，LC层厚度的不均匀性以及LC的非线性响应而获得高线性调制特性。为了提高功率处理能力，我们还提供具有内置水冷热量的高功率激光类型，以及使用Sapphire Glass用于玻璃基板的激光金属加工类型。
sap
两年前，Sapinsider研究的60％的受访者与SAP有关，报告说他们从未听说过该产品，或者不熟悉它。在2023年，有48％的受访者仍在该类别中。但是，今年的数字发生了很大的变化，有64％的受访者报告说熟悉或非常熟悉SAP的崛起。这是通过从与此数据保持一致的Sapinsider事件的客户交互中收集的洞察力来证实的。补充说，SAP合作伙伴表示，更多的客户现在正在询问使用SAP的Rise实施选项，而不是寻求有关产品的基本信息。数字还反映了用户群的重大变化。这部分是因为SAP更多地集中在云ERP消息传递上，并通过SAP加强了SAP作为2024年Sapphire 2024和Teched期间创新的平台。此外，SAP还强调了在这些事件中使用SAP演示的崛起，特别是像Joule这样的AI功能，使客户可以更好地了解产品中可用的产品。另外，考虑到SAP包装的上升
国际平坦化/CMP技术会议
ICPT 作为平面化/CMP 的国际研讨会，为讨论包括 FEOL 和 BEOL CMP、3D/TSV、CMP 基础、抛光工艺、耗材、设备、绿色设备、新应用、计量、清洁、缺陷控制、工艺控制、CMP 替代品、SiC、GaN、蓝宝石和钻石在内的技术提供了绝佳的机会。会议为研究人员和工程师提供了一个会面、讨论和分享各自知识领域经验的地方。无论演讲者来自哪个国家或组织，担任什么职位，或在哪个技术领域积累了经验或成为专家，都希望在平等的基础上进行热情洋溢的演讲和讨论，就像晶圆表面一样平坦。