尽管在治疗、检测和预防方面取得了进展,但癌症的发病率在全球范围内仍在迅速增长。3 世界卫生组织和美国国家综合癌症网络 (NCCN) 的指南此前已建议使用全身性阿片类药物治疗严重癌痛,作为标准治疗方法,但关于其长期有效性的数据有限,且与不良反应有显著关联。WHO 将三步止痛阶梯扩展到第四步,包括介入方法,4 而 NCCN 指南也已扩展到包括介入策略。4、5 尽管阿片类药物仍然是癌症疼痛管理的核心,但仍存在重大障碍阻碍其使用,包括指导实践的研究有限以及针对阿片类药物滥用的政策。患者面临着获取药物的挑战,例如报销金额减少、各州对管制药物的合规性和监管障碍、自付费用不断上升以及药房短缺,而耻辱感和对成瘾的恐惧进一步加剧了这些问题。管理此类人群的阿片类药物治疗面临独特的挑战,特别是在有效缓解疼痛与镇静、嗜睡、恶心和便秘等全身副作用之间取得平衡。这些副作用会极大地影响生活质量并限制阿片类药物的耐受剂量。此外,全身性阿片类药物的长期有效性有限,再加上痛觉过敏、耐受性、睡眠障碍、抑郁和下丘脑-垂体轴失调等不良反应,凸显了对替代治疗方法的迫切需求。使用鞘内给药系统 (IDDS) 的靶向给药 (TDD) 在一项随机对照试验中取得了有希望的结果,证明了其作为癌症疼痛治疗选择的有效性和安全性。6 然而,注册数据表明,无论适应症如何,过去十年中 TDD 的总体使用率持续下降。这种下降受到 COVID-19 大流行和泵制造供应链中断的进一步影响,几乎没有复苏的迹象。
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摘要 - 数十年来,已成功应用于量子物理系统的模拟网络。最近,它们也用于量子计算的经典模拟,特别是随机量子电路。本文提出了一个名为TDD(张量决策图)的决策模式数据结构,以实现张量网络的更多原则和方便的应用。这种新的数据结构为量子电路提供了紧凑而规范的表示。通过利用电路分区,可以有效地计算量子电路的TDD。此外,我们表明,张量网络在其应用中必不可少的操作(例如加法和收缩)也可以在TDD中有效地实现。提出了TDD的概念验证实施,并在一组基准量子电路上评估了其效率。预计TDD将在与量子电路有关的各种设计自动化任务中发挥重要作用,包括但不限于等效检查,错误检测,合成,仿真和验证。
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图4-3。在七个研究区域测量了低于treeline的FDD(a)和TDD(b)下降率和大陆程度。显示了两个变量的线性回归线。回归在p = 0.1时很显着。FDD和DOC回归斜率= -0.079。TDD和DOC回归斜率= 0.028。发现三个区域(约翰逊的过境点,沃尔夫溪,君主)没有明显的FDD失误率以下,这些地点的失误率为0度/m。sa dena hes因缺乏数据而被排除在TDD失误率的计算之外。在
a. 这些患者将停用口服/注射药物,通常在手术当天早上停用,SGLT2i 药物除外;这些药物在手术前 3 天停用。 b. 在短时间内(即 24-48 小时),这些控制良好的患者在禁食时出现明显高血糖的情况并不常见。 c. 仅当 BG 升高到 5-10 mmol/L 的目标范围以上时,才合理地施用校正剂量的胰岛素。校正尺度可以通过首先使用 BBIT 医嘱集计算每日总剂量 (TDD) 来确定。TDD 的计算方法是使用 0.3 单位/kg/天 X 患者的体重。选择针对患者 TDD 推荐的校正尺度。校正胰岛素在典型的用餐时间施用。 d. 如果在 24 小时内需要反复使用校正胰岛素来治疗 BG 高于推荐目标 5-10 mmol/L,则建议根据 TDD 和医嘱集中推荐的计算添加基础胰岛素。
测试驱动的开发(TDD)是一种广泛的软件开发实践,在编写实际代码之前,根据文本描述授权基于文本描述编写测试用例。虽然编写测试案例是TDD的核心,但它耗时,耗资且经常被开发人员避开。最近研究了与TDD相关的这些问题,最近已经研究了自动化测试案例生成方法。这样的方法将源代码作为输入,而不是文本描述。因此,现有工作并不完全支持TRUE TDD,因为需要实际代码来生成测试用例。此外,当前基于深度学习的测试案例生成方法接受一个学习目标的培训,即生成与地面真实测试案例完全匹配的测试用例。但是,这种方法可能会限制模型生成不同且正确测试用例的能力。在本文中,我们介绍了P Y T Ester,这是一种文本到测试的生成方法,可以自动生成句法正确,可执行,完整和e ff efffective测试用例,同时与给定的文本描述对齐。我们在公共应用程序基准数据集上评估了p y t酯,结果表明,我们的深度RL方法使小语言模型P Y t ester均超过了更大的语言模型,例如GPT3.5,StarCoder和Invoder。我们的发现表明,未来的研究可以考虑通过将SE域知识整合到强化学习体系结构的设计中来改善大于大的LMS,以提高资源。
本研究探讨了低密度状态下穿透位错密度 (TDD) 对集成在 Si(001) 上的 Si 0.06 Ge 0.94 异质结构中垂直传输的影响。使用无意掺杂的 Si 0.06 Ge 0.94 层可以研究生长穿透位错 (TD) 的影响,而不会与加工引起的缺陷(例如源于掺杂剂注入)相互作用。所研究的异质层虽然在成分、应变弛豫度和厚度上相同,但 TDD 有三个不同的值:3×10 6、9×10 6 和 2×10 7 cm -2 。电流-电压测量表明漏电流与 TDD 不是线性比例。漏电流的温度依赖性表明场增强载流子生成对电流传输有很大贡献,其中通过 TD 诱导的缺陷态的陷阱辅助隧穿被确定为室温下的主要传输机制。在较低温度和高电场下,直接带间隧穿而不与缺陷能级直接相互作用成为主要的传输类型。在较高温度(>100 °C)下观察到与 Shockley-Read-Hall (SRH) 产生的中带隙陷阱发射相关的漏电流。在这里,我们发现材料中来自 SRH 的贡献减少,TDD 最小(3×10 6 cm -2 ),我们将其归因于 TD 应变场中捕获的点缺陷簇减少。