摘要 有机-金属和有机-有机界面几乎决定了所有有机光电应用的功能,能级排列对器件性能尤为重要。通常,能级排列仅通过金属功函数和有机材料的电离能和电子亲和力来估计。然而,各种界面效应,如推回、镜像力(也称为屏蔽)、电子极化或电荷转移都会影响能级排列。我们对 Ag(111) 上的铜-十六氟酞菁 (F 16 CuPc) 和钛氧基酞菁 (TiOPc) 薄膜进行 X 射线和紫外光电子能谱 (XPS 和 UPS) 测量,并使用 TiOPc 双层将 F 16 CuPc 层与金属基底分离。即使对于我们结构上表征良好的模型界面以及通过逐步制备真空升华样品,精确分配真空能级和能级偏移仍然具有挑战性。尽管如此,我们的结果为有机-金属和有机-有机界面的 XPS 和 UPS 数据的解释提供了指导。
摘要:我们在此报告了对酞菁氧钒 (VOPc) 的磁弛豫和量子相干性的研究,VOPc 是一种多功能且易于处理的潜在分子自旋量子比特。通过一种基于交流 (AC) 磁化率测定法、连续波 (CW) 和脉冲电子顺磁共振 (EPR) 光谱相结合的新兴多技术方法,研究了纯态 VOPc ( 1 ) 及其在同结构抗磁性宿主 TiOPc 中的晶体分散体,这些 VOPc 的化学计量比不同,即 VOPc:TiOPc 1:10 ( 2 ) 和 1:1000 ( 3 )。交流磁化率测量表明,在高达 20 K 的温度下,弛豫速率呈线性增加,这与直接机制的预期一致,但在施加的静态场值(高达约 5 T)的很宽范围内, 仍然很慢。对 3 进行的脉冲 EPR 光谱实验表明,在室温下仍具有量子相干性,T m 在 300 K 时约为 1 s,这是迄今为止分子电子自旋量子比特获得的最高值。在室温下,在这种核自旋活性环境( 1 H 和 14 N 核)中也观察到了 2 的拉比振荡,这表明这种分子半导体中量子相干性的突出稳定性,可用于自旋电子器件。