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用于紫外、激光和电子束光刻的负性光刻胶
主要应用 • 通过 DLW 进行快速非接触式原型设计 • 微系统技术中的光学应用 • 用于湿法和干法蚀刻工艺的蚀刻掩模 • 用于电镀的模具 • 用于印章制造/模板制造的模具
安装之前的土工布局紫外线曝光的终生考虑
摘要。土工布都是用于掩埋的应用，而无需暴露于阳光。但是，安装之前可能会发生短暂的阳光。由于安装和土壤埋葬的潜在延迟，需要材料才能达到紫外线阻力。人造紫外线风化将评估意外接触阳光的潜在风险。光降解反应考虑与暴露条件的相互作用以及对阳光的聚合物敏感性。基于实验室测量和现场数据，本文评估了光强度，温度和湿度对气候的影响。使用其紫外线灵敏度与有效辐照度的聚合物关系，计算出累积指数，以降低土工布服务寿命从暴露到阳光。人工风化循环，并与聚丙烯和聚对苯二甲酸酯的特定降解机理进行比较，并与特定的降解机制有关。反应速率分别与温度相关，分别针对每个聚合物。提出了使用辐射能量和温度的模型，以指导部分紫外线暴露的土工织物的寿命预测。
真空沉积之前的UV/臭氧工艺
自1976年以来，石英晶体共振器领域的大多数制造商一直在使用UV/臭氧清洁。此过程中的一些原始工作是在该领域完成的。（请参见图5）超细石英底物对于制造非常稳定的频率控制装置所需的电极膜粘附至关重要。通常使用UV/臭氧是最终的清洁步骤，过程时间为1-5分钟。...表面声波（S.A.W.）设备也是具有相似制造过程和清洁要求的pi-ezoeleclectric设备。尼橙锂和石英用于制造锯设备。该行业组中的许多用户都使用连接角度仪或蒸汽成核测试来监视清洁度。
MCS100 UV/(N)IR 多组分过程光度计
使用气体滤波器相关法，由旋转气体滤波器生成的参考信号与浓度无关。该气体滤波器是一个微型单元，在高分压下充满了测量组分。来自光束源的光的测量气体光谱被气体滤波器消除。通过将空的滤光轮光圈旋转到光束路径中，可获得与浓度相关的测量信号。在两次测量期间，在第二个滤波器上旋转额外的干涉滤光片可以将光谱范围限制在测量组分的吸收带上。消光和其他信号处理的计算通过单光束双波长法进行。
MCS100 UV/(N)IR 多组分过程光度计
使用气体滤波器相关法，由旋转气体滤波器生成的参考信号与浓度无关。该气体滤波器是一个微型单元，在高分压下充满了测量组分。来自光束源的光的测量气体光谱被气体滤波器消除。通过将空的滤光轮光圈旋转到光束路径中，可获得与浓度相关的测量信号。在两次测量期间，在第二个滤波器上旋转额外的干涉滤光片可以将光谱范围限制在测量组分的吸收带上。消光和其他信号处理的计算通过单光束双波长法进行。
MCS100 UV/(N)IR 多组分过程光度计
使用气体滤波器相关法，由旋转气体滤波器生成的参考信号与浓度无关。该气体滤波器是一个微型单元，在高分压下充满了测量组分。来自光束源的光的测量气体光谱被气体滤波器消除。通过将空的滤光轮光圈旋转到光束路径中，可获得与浓度相关的测量信号。在两次测量期间，在第二个滤波器上旋转额外的干涉滤光片可以将光谱范围限制在测量组分的吸收带上。消光和其他信号处理的计算通过单光束双波长法进行。
MCS100 UV/(N)IR 多组分过程光度计
使用气体滤波器相关法，由旋转气体滤波器生成的参考信号与浓度无关。该气体滤波器是一个微型单元，在高分压下充满了测量组分。来自光束源的光的测量气体光谱被气体滤波器消除。通过将空的滤光轮光圈旋转到光束路径中，可获得与浓度相关的测量信号。在两次测量期间，在第二个滤波器上旋转额外的干涉滤光片可以将光谱范围限制在测量组分的吸收带上。消光和其他信号处理的计算通过单光束双波长法进行。
auvisma：医疗服装的自动紫外线辐照系统
广泛的研究表明，医疗工人（HCW）的服装经常被微生物和病原体污染，对感染带来了重大风险（Mitchell等，2015）。类似的设备也利用Arduino微控制器来管理紫外线和消毒过程（Albayyat等，2024）。UV-C辐射在200至270 nm的波长范围内运行，有效地破坏了DNA分子键，使微生物无活性（Buonanno等，2020）。此外，HEPA过滤器在去除空降病原体方面表现出显着的疗效，达到了99.97％以上的病毒捕获率（Ueki等，2022）。医疗服装（AUVISMA）自动紫外线辐照系统通过有效消除医疗制服，从而整合UV-C辐射和HEPA过滤，以增强医疗保健中的卫生标准，从而保护医疗保健工作者和患者。
