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分析X射线光电子光谱的定量比对参数估计
X射线光电子光谱（XPS）数据的解释依赖于依赖几个参数的测量模型，包括光电衰减长度和X射线光子量。但是，其中一些参数尚不清楚，因为它们没有或无法测量。未知的几何参数可以在多弹性因子（对齐参数）中汇总在一起。此参数表征了令人兴奋的光与样品相互作用的能力。不幸的是，对齐参数的绝对值不能直接测量，部分原因是它取决于测量模型。相反，通常估计实验对准的代理，这与对齐参数密切相关。在此，一种基于原始XPS光谱的对齐参数的绝对值的方法（即未加工的光电子计数），显示样品的几何形状和光电子衰减长度。提出的参数估计方法可以使用简化的测量模型对XPS光谱进行定量分析。所有计算都可以在开放和免费的Julia语言框架预言中执行。为了证明可行性，对对齐参数估计方法进行了首次测试，并在模拟数据上使用已知的采集参数进行测试。然后将该方法应用于实验XPS数据，并显示了估计比对参数与典型使用的对齐代理之间的强相关性。
XPS-Technique and opplication-in-Thickness-
摘要X射线光电子光谱（XPS）分析技术已广泛应用于半导体制造和故障分析。我们将其用于晶圆制造中的缺陷分析和薄膜表征，并将其用于铜材料的XPS价状态分析。XPS技术也与TOF-SIMS技术共同应用。在晶圆厂，半导体和LED制造中，测量纳米仪范围内超薄膜的厚度非常具有挑战性。通常，TEM被广泛用于超薄薄膜物理测量，但通常其横向尺寸受到限制。在本文中，我们将研究X射线光电子光谱分析技术，该技术采用角度分析技术采用新的分析方法。此外，我们还将新方法应用于Sion膜的分析。在约1.4nm处测量超薄薄膜是实现的。此方法可用于SIO 2厚度测量，在AU上进行自组装的硫醇单层和硅底物上HFO 2的厚度。
发现具有聚合物样粘弹性的无机玻璃电解质
NACO75分别为3.85 V和3.9 V。但是，当在3-5.5 V范围内进行环状伏安法（CV）测试时（补充图11c），清楚地证明，LACO75和NACO75的氧化电流都在第一个周期后迅速减少，这意味着在高氧化潜力下产生了钝化层以防止进一步的分解。通过X射线光电子光谱（XPS）分析和密度功能理论（DFT）计算探测了该钝化层的组成。如补充图11d，比较原始和带电的LACO75-LINI 0.6 CO 0.2 Mn 0.2 O 2（NCM622）复合阴极的XPS光谱，LACO75的O 1S峰强度为
Thermo Scientific K-Alpha X射线光电子能谱仪
先进的性能、更低的拥有成本、更高的易用性和紧凑的尺寸是现代实验室和生产设施的关键要求。新的生产技术使赛默飞世尔科技的工程师能够将所有这些优势融入 K-Alpha 的设计中。K-Alpha 专为多用户环境而设计。它是第一款提供全自动分析模式的 XPS 工具，从样品输入到报告生成。内置自动化意味着新用户只需经过最少的培训即可生成高质量的样品分析报告。微聚焦单色仪可最大限度地提高仪器的灵敏度和化学状态测定的精度。新能量分析仪和镜头的设计进一步提高了灵敏度。我们已采用先进的电荷补偿技术来处理绝缘样品。K-Alpha 是所有类型固体样品分析的理想仪器，包括无机、有机、生物、冶金、半导体和磁性。集成离子枪可产生质量卓越的成分深度剖面。样品传输和导航完全自动化。独特的 Reflex Optics 用于实时观察样品，与同轴和漫射样品照明相结合，可实现小面积 XPS 的精确设置。Thermo Scientific Avantage 是我们世界一流的 XPS 数据系统，可控制 K-Alpha 的所有功能。
职位类型：研究所的博士名称：...
简短描述：二维（2D）材料，例如石墨烯，过渡金属二甲植物（TMD）或分子纳米片，呈现出新型的纳米材料类别，它们在纳米科学和纳米技术中具有大量实现，范围从纳米电机到纳米元素，到纳米动物学技术。在该研究领域的挑战性目标之一是对2D材料在纳米级规模上的增长机制和结构的理解，这将是该博士学位项目的重点。博士候选人将使用现代表面科学技术（如X射线和UV光电光谱（XPS/UPS），真空原子力量和基于真空的原子力和扫描隧道显微镜（AFM/STM）（AFM/STM），低能量电子散射（Low Electron diffraction（Leed Electra）（Leed Electraction（Leed diffraction）），使用现代表面科学技术（AFM/UPS），X射线和紫外线光电光谱（XPS/UPS），使用现代表面科学技术（XPS/UPS）。他/她的工作将被大力纳入我们研究小组的主要研究活动中，以及最近建立的合作研究中心TRR234的活动中，“ Cataleight：层次结构材料中的光驱动分子催化”以及最大的欧盟项目“石墨烯旗舰”。
金属界面的CSPBBR3钙钛矿纳米晶体中光引起的降解的电子影响
摘要：在辐射下对钙钛矿设备中的界面特性的理解对于其工程至关重要。在这项研究中，我们展示了CSPBBR 3钙钛矿纳米晶体（PNC）和AU之间界面的电子结构如何受X射线，近红外（NIR）和紫外线（UV）光的照射的影响。可以通过使用低剂量X射线光电子光谱（XPS）来区分X射线和光线暴露的影响。除了金属铅（PB 0）的常见降解产物外，在暴露于高强度X射线或紫外线后，在PB 4F XPS光谱中鉴定出了新的中间分量（PB INT）。pb int分量被确定为单层金属Pb，是由钙钛矿结构破裂引起的pb诱导的pb的无电位沉积（upd）的单层金属Pb，允许PB 2+迁移。
规格手册 - 数字经销商
经过大量研究和对多种结构形式的试验，我们发现 XCORE 是最优越的结构，因为它提供了轻量化设计、强度、耐用性、绝缘性和设计灵活性的完美结合。我们在 XCORE 复合板中使用 XPS 泡沫，这是一种闭孔泡沫，不允许水浸泡。XPS 泡沫还具有比开孔泡沫更好的热性能，使其成为更好的绝缘体。与铝制框架不同，铝制框架更重、会断裂、会氧化（生锈）、框架每个部分的绝缘性会下降、墙壁内布线的绝缘性会下降、铝管会产生冷凝水，而使用 XCORE 结构，您可以使用更优越的材料，并且可以对货车的使用寿命充满信心。
高功率电动汽车充电集线器集成平台（ECHIP）：基于DC分配充电集线器的设计指南和规格洞察催化剂 - 离子体接口
X射线光电子光谱（XPS）是一种用于研究聚合物电解质膜燃料电池和电解剂中催化剂的表面特性和组成的常用技术。XPS分析催化剂层（CLS）越来越多地使用催化剂和支持组成和结构之间的关系，催化剂墨水组成，CL制造方法和参数以及它们的性能和耐用性。基于IR的CLS的表征由于多种因素，包括对IR 4F光谱的解释，O 1S光谱中的催化剂和离子体物种的解释以及离子体对X射线损伤的敏感性，这会导致催化剂ionomer界面的变化，通常比样本之间的差异更大。本研究报告了一种详细的XPS表征的方法，基于IR的CL，建立定量指标，并提供有关催化剂离子体界面的见解，该界面可以与多种处理和性能指标相关。具体来说，我们已经评估了使用几种常见CL涂层方法制备的CL中的表面组成差异。我们还研究了用不同的催化剂负荷和电化学测试后选定样品制备的CL。通常，我们发现了元素比和从O 1S光谱的详细分析得出的趋势的良好协议。此外，O 1S分析揭示了催化剂组成的差异，解决了与IR 4F光谱解释有关的一些挑战和局限性。
RSC应用聚合物 - 皇家化学学会
ag，Cu和SN的电催化剂有望在气体扩散电极上还原性动力学和效率。ag，Cu，SN硫化物催化剂尤其可能会提供改变的电子适用岩和产品选择性，同时仍然易于在可缩放的合成路线中制造。比较Cu 3 SNS 4，Ag 3 SNS 4，Cu 2 S，SNS和AG 8 SNS 6的CO 2降低（CO 2 RR）在100 mA cm -2时的Cu 3 SNS 4，Cu 2 S，SNS和AG 8 SNS 6，甲酸甲酸甲酸盐被认为是Cu 3 SNS 4和AG 3 SNS的FARADAIC 57％的主要CO 2 RR。通过X射线光电子光谱（XPS）和X射线衍射的表征揭示了CO 2 RR期间相应硫化物物种的Ag 3 Sn和Cu 3 Sn合金的形成。但是，在-100 mA cm -2时2小时分解为CuO和SNO的Cu 3基电极表面，XPS可以通过XPS删除表面层后检测到相应的电极表面上的金属AG 3 SN位点。使用密度函数理论，计算 *H， *CO和 *OCHO的结合能在Cu 3 Sn和Ag 3 SN上计算以鉴定可能的催化位点。因此，发现SN会呈现Cu和Ag高含氧化性，从而导致羧基功能的吸附，从而使甲酸盐产生能够甲酸盐产生，其部分电流密度高达162 mA CM -2。
DXR3 Flex 拉曼光谱仪
拉曼光谱。拉曼光谱中 G 和 D 带的位置和强度可让材料科学家在收集 XPS 数据的同时了解 SWCNT 的直径、碳层数和纯度，从而确保科学家能够通过这两种技术测量相同化学状态的同一样品。