自1950年以来,即70年前的基础以来,Zeon一直通过应用我们的创新技术来提供世界上许多顶级产品,这些技术证明了化学的力量作为其来源。在1959年,Zeon成为日本的第一家公司,以大规模生产合成橡胶。之后,我们开发了一系列产品,包括合成橡胶,合成乳胶和热塑性弹性体,并将其附着技术应用于商业化许多产品。我们还使用先进的聚合物设计技术和精细粒子控制技术实现了聚合碳粉的大规模生产,从而使我们能够尽早建立在当前的弹性体业务的基础上。此外,我们以全球视角开发海外业务并专注于亚洲,包括制造和处理合成橡胶,用于燃料舒适的轮胎和特殊的合成橡胶,以及关键的汽车安全零件。今天,我们的业务涵盖了日本和海外的五十个集团公司。业务发展随后在新领域加速,证明了我们在开发专有技术时面临的挑战。我们的专业材料业务的产品,Zeon的另一支支柱,包括锂离子电池的特色塑料,光学纤维,电子材料和材料,已成为支持我们现代生活方式的必不可少的。我们正在为新市场提供一系列不同的产品,例如案例和MAAS的新材料,医疗保健和生命科学产品以及5G和6G无线通信。在当前的业务环境中,要经受巨大的变化,我们将努力确保安全的工厂运营并为客户提供可靠的质量,同时仍致力于保护全球环境。作为这一承诺的一部分,我们制定了一项总体计划,以在2050年到2050年实现碳中立性,其中包括在我们的家用工厂过渡到可再生能源的过渡。确保Zeon Group的每个成员将可持续发展目标理解为共享的全球目标,并探索我们如何为他们的成就做出贡献,我们已经启动了整个集团倡议,将可持续发展目标置于我们的业务基础上。我们将通过开发Zeon独有的创新技术和产品来继续为客户梦想和舒适的社会实现。
Zeon的环烯烃聚合物(COP)具有出色的光学和化学性能。在产品名称Zeonex®和Zeonor®下,它们被广泛用于光学膜和镜头,医学和生物技术应用,同时获得了高度好评的评论。2019财年的专业塑料业务业务规模为568亿日元的净销售额。目前,用于电视和智能手机的LCD和OLED面板的光学电影业务占用了COP业务的很大一部分。COP的特征不仅适用于光学膜;他们还具有在广泛的使用设置中申请的潜力,包括我们2019年公司报告中概述的医疗应用程序。在这里,我们在电子设备中介绍了COP的使用。
与会者,参展商和赞助商之间的动态互动有助于定义使这次会议与众不同的EIPBN社区。在展览馆和网络活动中建立的关系持续了数年甚至数十年。感谢我们的白金赞助商海德堡乐器;黄金赞助商STS-ELIONIX;银牌赞助商Allresist,Genisys,Jeol和Raith; and all our exhibitors and sponsors: Beamfox, Cleanroom Labware, Cornell NanoScale Science and Technology Facility, Crestec, Dischem EVG, Herzan, Heteromerge, Ionoptika, Jenoptik, KLA, Lab14, MAEBL, Microlightt 3D, Nanoscribe, Nuflare, Oregon Physics, Prinano, Quantum Design, SAES, Secure Foundry, TEL, Tescan,Tetramem,Tousimis,Valutek,Vanguard Automation,Vistec Electron Beam,Xrnanotech,Zeiss,Zeon和Zyvex Labs。我还要感谢我们的政府和社会赞助商:DOE,AVS和IEEE NANO。今年的新成员是学术纳米纳夫人赞助学生并突出他们的设施的机会;感谢宾夕法尼亚大学辛格大学纳米技术中心,俄亥俄州立大学材料与制造研究所,科罗拉多大学博尔德分校科罗拉多大学纳米制造与特征(COSINC)的仪器(Georgia Tech Tech Institute in Mater and System for Mater and System for Montana Tech,NFCF Nano Pittsburgh,Texsburgh,Texbburgh,princeT and texburgh,princeT and texburgh,princeT and crinceT and princeT and agief and PrinceT Angief and PrinceT Angief and cift。请注意,对任何事件的捐款和/或赞助都不构成对特定计划,发言人或提出的观点的部门或机构认可。
图 S1. 皮升级孵化器阵列的制作方案。孵化器图案由 2D CAD 软件(DraftSight,法国 Dassault Systèmes SE)设计。孵化器的设计直径为 30 µm。首先将光刻胶(ZPN 1150-90,日本 Zeon 公司)以 2500 rpm 的转速旋涂在玻璃基板上 30 秒。然后,使用标准光刻工艺对光刻胶膜进行图案化。光刻胶膜的图案化残留物(高度约为 10 µm 的微柱)被用作孵化器阵列的模板。接下来,采用旋涂技术(旋转速度:4000 rpm)将氟惰性溶剂(CT-solv.180,AGC Inc.,日本)中的非晶态氟聚合物(Cytop CTX-809SP2,AGC Inc.,日本)沉积在模板上。之后,在涂有氟聚合物的基板上沉积 PDMS 薄膜。薄膜结构有助于抑制基板因内部应力而表现出的自弯曲现象。这意味着通过采用薄膜结构可以保持 PDMS 培养箱阵列和玻璃皿之间的界面粘附力。在这方面,我们采用旋涂沉积工艺来制备基于 PDMS 的培养箱阵列。将含有固化剂的 PDMS(Sylgard 184,陶氏化学公司,美国)的低聚物溶液旋涂在模板上并固化。 PDMS 膜的最终厚度约为 20 µm。然后,将完成的 PDMS 膜从模板上剥离。使用 LEXT OLS4100 激光扫描显微镜(日本奥林巴斯)确认 PDMS 膜的图案。