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光刻构建的单个 ZnO 纳米线器件和
分析科学 J-STAGE 预发表论文 2020 年 1 月 17 日收到；2020 年 4 月 7 日接受；2020 年 4 月 17 日在线发表 DOI：10.2116/analsci.20N002
热处理对电子束蒸发纳米晶体ZnO膜特性的影响
氧化锌薄膜在室温下通过电子束蒸发在玻璃基板上生长，然后在不同温度下在250至550 c的不同温度下退火压力600 mbar退火。薄膜的电气，光学和结构特性，例如电阻率，光透射率，带隙和晶粒尺寸，这是退火温度的函数。X射线衍射表明，最大强度峰对应于（002）在各种温度下退火的ZnoFILM的主要方向。最大宽度的全宽度，在退火处理后减少，这证明了晶体质量的改善。扫描电子显微镜图像表明，通过增加退火温度，晶粒尺寸变得更大，并且该结果与X射线衍射分析一致。由Elsevier Ltd.