摘要:在通常的具有偶数格点的Su–Schrieffer–Heeger(SSH)模型中,由于边缘态同时占据两端点,因此不易实现左右边缘态之间的拓扑泵浦。本文提出一种方案,研究由一维超导传输线谐振器阵列映射的偶数尺寸周期调制SSH模型中的拓扑边缘泵浦。我们发现最初在第一个谐振器中准备的光子最终可以以一定的比例在两端谐振器处被观察到。两端谐振器处最终的光子分裂表明本超导电路有望实现拓扑分束器。进一步,我们证明了两端谐振器之间的分裂比例可以从1到0任意调节,这意味着实现可调拓扑分束器是潜在的可行性。同时,我们还证明了可调拓扑分束器由于零能量模式的拓扑保护而不受系统中加入的轻微无序的影响,并且发现可调拓扑分束器对全局现场无序的鲁棒性远高于对最近邻无序的鲁棒性。我们的工作极大地拓展了拓扑物质在量子信息处理中的实际应用,为拓扑量子光学器件的工程化开辟了一条新途径。
图 1:(a) GaAs 核(蓝色)- Ge 壳(红色)NW 示意图,具有受控晶相:纤锌矿 (WZ)、闪锌矿 (ZB),具有堆垛层错 (SF) 区域。通过 RHEED 原位监测样品,以获得有关 GaAs/Ge NW 晶体结构的实时信息。在 WZ GaAs 生长期间(b)29 分钟(c)35 分钟和六方 Ge 生长期间(d)3 分钟(e)10 分钟,沿 [1-10] 方位角记录的 RHEED 图案。WZ 点以白色箭头突出显示。(f) 45° 倾斜 SEM 图像(二次电子对比度)显示 GaAs/Ge NW。比例尺为 1 m。
(3) [ 流动 ] • Prabhupada Dixit : 奇异和多奇异强子的产量和流动 • Shaowei Lan : 已识别粒子的各向异性流测量 • Xionghong He : 3 GeV FXT Au+Au 碰撞中的轻核产生和流动
摘要。我们提出了一项全面的数值研究,对梁导演望远镜的主镜上的热诱导的光差。尤其是我们研究了高功率激光诱导的变形,导致的单色畸变及其对成像和激光聚焦的影响,在共享的孔径束主系统中,原代望远镜镜的性能。作为一个实际的例子,我们考虑了一个基于6×4 kW的单模高功率激光源和具有500 mm圆形透明孔径的主镜。单色畸变的详细组合及其对光学性能的影响是为硼硅酸盐和Zerodur®基材提供的,具有相同的反射涂层,用于电流激光束主管的应用。我们的分析表明,使用Athermal底物(即Zerodur®),高功率激光器可以有效地指向具有高反射性涂层(> 99.9%)的主镜子的成像降解。另一方面,只有在严格控制的环境温度下,具有相对较高的热膨胀系数(即硼硅酸盐)的底物才能有效使用。©2021光学仪器工程师协会(SPIE)[doi:10.1117/1.oe.60.6.6.065102]
追求更小的光斑尺寸一直是全球许多核微探针小组的目标,因此需要高质量的分辨率标准。此类标准必须与最先进的核微束光斑尺寸的精确测量相一致,即对于卢瑟福背散射光谱和质子诱导 X 射线发射等大电流应用,光斑尺寸为 400 nm,对于扫描透射离子显微镜或离子束诱导电荷等低电流应用,光斑尺寸为 100 nm。因此,构建高质量核微探针分辨率标准的标准非常严格:该标准必须是三维的且表面光滑,边缘清晰度优于最先进的束斑分辨率,并且侧壁垂直。质子束微加工 (PBM) 是一种具有巨大潜力的制造精确 3D 微结构的新技术。最近的发展表明,可以从这些微形状中形成金属微结构(镍和铜)。新加坡国立大学核显微镜研究中心已经制造了镍 PBM 分辨率标准原型,这些新标准在表面光滑度、垂直壁和边缘清晰度方面远远优于许多团体目前使用的 2000 目金网格。使用 OM2000 微探针终端站/HVEE Singletron 系统使用新 PBM 标准进行的光束分辨率测试结果显示,对于 50 pA 2 MeV 质子束,光斑尺寸为 290 nm 450 nm。2002 年由 Elsevier Science BV 出版
离子束蚀刻 (IBE) 通过定向和精确控制的离子能量轰击蚀刻目标,去除材料。IBE 也称为“离子束铣削”。IBE 源从惰性气体(通常是氩气)产生等离子体。一组电偏置网格确定离子束能量和离子束内的离子角发散。离子束撞击基材,通过物理溅射去除材料。离子束蚀刻具有其他等离子体工艺所不具备的定向灵活性。虽然 IBE 的蚀刻速率通常低于反应离子蚀刻 (RIE),但 IBE 可为需要精确轮廓控制的应用提供高精度(高各向异性)。此外,离子束蚀刻可用于去除 RIE 可能无法成功的材料。离子束可以蚀刻与 RIE 不兼容的合金和复合材料。离子束蚀刻有许多应用,包括磁传感器的纳米加工、MEMS 设备以及表面声波 (SAW) 和体声波 (BAW) 滤波器的修整。一种较新的应用是制造高性能非易失性存储器,特别是“自旋转移扭矩” MRAM(磁阻随机存取存储器)。
主要应用 • 通过 DLW 进行快速非接触式原型设计 • 微系统技术中的光学应用 • 用于湿法和干法蚀刻工艺的蚀刻掩模 • 用于电镀的模具 • 用于印章制造/模板制造的模具
- 可以使用MLCS实现。- 每个光束仅处理目标的一部分 - 可以通过标准的“正向”或反迭代方法来计划 - 给出更高的自由度,并可能更宽松的剂量
轻离子束剂量测定 Hugo Palmans 1、Russell Thomas 1、David Shipley 1、Andrzej Kacperek 2 1 生活质量部,辐射剂量测定团队 2 道格拉斯回旋加速器,Clatterbridge 肿瘤中心,威勒尔,英国 摘要 本报告概述了“改进的轻离子束剂量测定”战略研究项目所做的科学工作,以及英国贸易和工业部 2001-2004 国家测量系统、电离辐射计量计划下的工作。它根据 2004-2007 国家测量系统、英国贸易和工业部电离辐射计量计划下开展的工作进行了修订,以完成早期计划中启动的工作。这项工作还极大地受益于 Clatterbridge 肿瘤中心和加拿大自然科学与工程研究委员会 (NSERC) 的研究项目以及与比利时根特大学的合作。引言部分简要介绍了质子束放射治疗领域,第二章对相关文献进行了全面概述。第三章介绍并讨论了该项目范围内进行的实验工作,第四章讨论了支持进行的模拟。结论部分总结了主要成就以及这项工作为 NPL 创造的机会。
轻离子束剂量测定 Hugo Palmans 1 、Russell Thomas 1 、David Shipley 1 、Andrzej Kacperek 2 1 生活质量部,辐射剂量测定团队 2 道格拉斯回旋加速器,Clatterbridge 肿瘤中心,威勒尔,英国 摘要 本报告概述了战略研究项目“改进的轻离子束剂量测定”中所做的科学工作以及英国贸易和工业部 2001-2004 年国家测量系统、电离辐射计量计划下的工作。它根据英国贸易和工业部 2004-2007 年国家测量系统、电离辐射计量计划下开展的工作进行了修订,以完成早期计划中启动的工作。这项工作还极大地受益于克莱特布里奇肿瘤中心和加拿大自然科学与工程研究委员会 (NSERC) 的研究项目以及与比利时根特大学的合作。介绍是对质子束放射治疗领域的一个非常简短的介绍,第二章提供了文献的广泛概述。第三章介绍并讨论了在本项目范围内进行的实验工作,第四章讨论了为支持而进行的模拟。结论部分总结了这项工作为 NPL 创造的主要成就和机遇。