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石墨烯铜球形颗粒Graphene copper spherical particles
石墨烯/铜复合粉具有石墨烯涂层球形铜粉的独特核心壳结构，石墨烯和铜的复合材料充分利用了其力学，电力和热力学的协同优势。
确定铜线扩展方法的设备构建设计和参数
摘要。本文分析了在铜材料上处理牵引机上使用的伸展方法中发生的表面层的因素，以及研究的原因（研究原因）的结构，并提供了建议。在牵引力机中充分说明了为传统拉伸方法推荐的设备结构的实质，基本元素，依恋顺序和操作原理。在设备结构的工作部分的伸展过程中，提出了用于确定压缩，拉伸，伸长系数，电压和拉伸力的公式。在设备的结构中以理论上的研究为目的，在拉伸M1品牌的拉伸铜线过程中的压缩值取决于拉伸比的比率，以及技术单位对重力的锥角度的依赖性，由基于这些弹力的弹力弹性的参数来确定重力的参数，以延伸为基础，以伸展的方式伸展，以伸展的速度延伸，以伸展的速度延伸。行业使用的牵引机技术设备。以理论上的研究为目的，在拉伸M1品牌的拉伸铜线过程中的压缩值取决于拉伸比的比率，以及技术单位对重力的锥角度的依赖性，由基于这些弹力的弹力弹性的参数来确定重力的参数，以延伸为基础，以伸展的方式伸展，以伸展的速度延伸，以伸展的速度延伸。行业使用的牵引机技术设备。
在暴露于广谱氢氧化铜的烟草生态系统中微生物群落的反应
氢氧化铜是一种广谱铜杀菌剂，通常用于控制作物真菌和细菌性疾病。除了控制靶向病原体外，氢氧化铜还可能影响植物层生态系统中其他非靶向微生物。在施用杀菌剂后的四个时间点（在喷涂之前和5、10和15天之前），通过使用Illumina高通量测序技术和生物学工具研究了患病和健康的烟草微生物微生物对氢氧化铜应激的反应。结果表明，健康群体的微生物组社区比疾病组更受影响，而真菌群落比细菌群落更敏感。疾病组中最常见的属是替代植物，波兰菌，cladosporium，pantoea，ralstonia，pseudomonas和sphinghomonas;在健康组中，这些是替代人，cladosporium，symmetrospora，ralstonia和pantoea。喷涂后，健康和患病组的真菌群落的α多样性在5天后下降，然后显示出越来越多的趋势，健康组在15天时显着增加。健康和患病群体中细菌群落的α多样性在15天时增加，而健康的组有显着差异。在健康和患病的叶片的真菌群落中，替代品和cladosporium的相对丰度降低了，而波动脉症，stagonosporopsis，Symmetroppora，Epicoccum和Phoma的相对丰度则增加。Pantoea的相对丰度首先减少，然后增加，而Ralstonia，Pseudomonas和Sphingomonas的相对丰度首先增加，然后在健康和患病的叶片的细菌群落中减少。虽然氢氧化铜降低了致病真菌替代性和cradosporium的相对丰度，但它也导致有益细菌（例如放线菌和Pantoea）的降低，并增加了潜在的病原体，例如波里米亚和稳定性。用氢氧化铜处理后，患病组的代谢能力得到了改善，而健康组的代谢能力得到了显着抑制，随着应用时间的延长，代谢活性逐渐恢复。结果揭示了在氢氧化铜应激下，微生物群落组成和健康和患病的烟草的代谢功能的变化，为未来对植物层的微生态保护的研究提供了理论基础。
植物提取物作为针对铜腐蚀的腐蚀抑制剂 -
预防腐蚀方法之一是在腐蚀性环境中添加称为抑制剂的化合物。抑制剂可以是无机或有机化合物。但是，由于其毒性影响，这些化合物对人类健康和环境很危险。除了获得它们之外，困难和昂贵。出于这个原因，近年来许多研究的主题是许多研究的主题。科学家专注于一类新的抑制剂，例如植物提取物，水果和蔬菜提取物和精油。植物提取物是研究最多的这些抑制剂，称为绿色抑制剂。植物提取物的保护作用是由于其分子在金属表面上的吸附。他们通过阻止活性位点为金属提供保护膜。膜的形成为金属表面提供了腐蚀性介质的物理屏障，并提供了腐蚀性攻击的保护作用。铜是高贵的金属，由于该特性，它表明可以抵抗腐蚀。然而，某些条件会引起铜的腐蚀，例如污染的空气，氧化酸，氧化重金属盐，硫氨以及一些硫和氨和氨化合物。因此，对铜腐蚀的研究很重要。在这篇综述中，用植物提取物总结了研究，这对铜的腐蚀具有抑制作用。
铜钻石中的波颗粒相互作用
在由粒子相互作用引起的固体中的波传播的背景下，据信铜钻石的复合结构对材料的响应有重大影响。这限制了早期研究中使用的各向同性均质弹性和弹性模型的准确性，该模型在这种情况下对材料的行为进行了建模。本研究旨在研究铜钻石的介观行为，并讨论建模材料内部复合结构的优势和局限性。考虑到外部影响和内部热冲击的结果，在2D有限元模拟中对CUCD的材料响应进行了建模。考虑了各种同质模型，并与介观模型进行了比较。发现所测试的均匀模型能够捕获材料中的波传播效应，并且包含硬化模型使他们的性能能够接近所考虑的中尺度模型的性能，这在计算上需要更高的计算要求。
在工业用电介质上制造铜图案......
在 DLW 技术中，值得注意的是直接激光金属化 (DLM) 技术，该技术专注于精确选择和合成前体，用一定强度和脉冲持续时间的激光照射，导致化学反应并在表面形成金属微图案 [23,37,38]。例如，研究表明，DLM 可成功用于在玻璃和陶瓷表面制造铜、镍、金和其他金属基微图案 [39,40,41]。由于许多纳米材料的前体制备可能很复杂且耗时，DLM 方法的进一步发展导致找到了廉价、环保且易于合成的新型前体。研究表明，深共熔溶剂 (DES) 可能取代人们所寻求的前体，这种溶剂此前已被证明是分析化学中的有效萃取剂 [42] 以及电化学金属化的介质 [43]。
将碳酸盐用作碳钢的腐蚀抑制剂在燃烧后碳捕获
她效应大学，她的官员，S1 3JD，英国B b曼彻斯特大学化学工程系，曼彻斯特大学，曼彻斯特大学，M13 9PL，英国C英国C型催化枢纽，Harwell，Harwell，Harwell，Harwell，Rutherford Appleton，Rutherford Appleton，Harwell，Harwell，Harwell，Harwell，Ox11 0fa，UK demang dement，UK D Inturand of nucement of nordy n forne Elettra-Sincrotrone Trieste, Strada Statale 14, 34149, Basovizza, Trieste, Italy f Department of Materials Science and Engineering, University of Sheffield, Sheffield, S1 3JD, UK g Diamond Light Source, Harwell Science and Innovation Campus, Didcot OX11 0DE, UK h The University of Manchester at Harwell, Diamond Light Source, Harwell Science and Innovation校园，DIDCOT OX11 0DE，UK她效应大学，她的官员，S1 3JD，英国B b曼彻斯特大学化学工程系，曼彻斯特大学，曼彻斯特大学，M13 9PL，英国C英国C型催化枢纽，Harwell，Harwell，Harwell，Harwell，Rutherford Appleton，Rutherford Appleton，Harwell，Harwell，Harwell，Harwell，Ox11 0fa，UK demang dement，UK D Inturand of nucement of nordy n forne Elettra-Sincrotrone Trieste, Strada Statale 14, 34149, Basovizza, Trieste, Italy f Department of Materials Science and Engineering, University of Sheffield, Sheffield, S1 3JD, UK g Diamond Light Source, Harwell Science and Innovation Campus, Didcot OX11 0DE, UK h The University of Manchester at Harwell, Diamond Light Source, Harwell Science and Innovation校园，DIDCOT OX11 0DE，UK她效应大学，她的官员，S1 3JD，英国B b曼彻斯特大学化学工程系，曼彻斯特大学，曼彻斯特大学，M13 9PL，英国C英国C型催化枢纽，Harwell，Harwell，Harwell，Harwell，Rutherford Appleton，Rutherford Appleton，Harwell，Harwell，Harwell，Harwell，Ox11 0fa，UK demang dement，UK D Inturand of nucement of nordy n forne Elettra-Sincrotrone Trieste, Strada Statale 14, 34149, Basovizza, Trieste, Italy f Department of Materials Science and Engineering, University of Sheffield, Sheffield, S1 3JD, UK g Diamond Light Source, Harwell Science and Innovation Campus, Didcot OX11 0DE, UK h The University of Manchester at Harwell, Diamond Light Source, Harwell Science and Innovation校园，DIDCOT OX11 0DE，UK
铜 - 终止复合材料中的电子传输
我们使用密度功能理论（DFT）框架研究了铜 - 甘油（CU – G）复合材料的电子传输性能。通过改变铜/石墨烯/铜（Cu/g/cu）界面模型的界面距离来研究复合材料中的传导。使用kubo-greenwood公式计算的模型的电子电导率表明，电导率随Cu – g的降低而增加，并且饱和以下是阈值Cu – g g距离。基于DFT的BADER电荷分析表明，在界面层和石墨烯的Cu原子之间的电荷转移增加，Cu – G距离降低。状态的电子密度揭示了铜和碳原子在费米水平附近的贡献，而Cu – G界面距离降低。通过计算Cu/g/cu模型的空格电导率，我们表明石墨烯在小Cu – G距离处形成了电子传导的桥梁，从而增强了电导率。
ATP7B依赖性脉络丛功能障碍会导致瞬态铜缺陷和发育中的小鼠脑的代谢变化
1约翰·霍普金斯大学医学院，巴尔的摩，马里兰州2号医学系，约翰·霍普金斯大学医学院临床药理学系，巴尔的摩，马里兰州巴尔的摩大学医学院3神经变性和干细胞计划，约翰·霍普克斯大学医学院，巴尔蒂群岛医学院，约翰·霍尔斯特大学，约翰·霍尔斯特·霍尔斯特，约翰马里兰州，马里兰大学药学系5号，马里兰州巴尔的摩大学药学院，马里兰州，马里兰州6号，加利福尼亚大学伯克利分校化学系6加利福尼亚州伯克利，约翰·霍普金斯大学医学院，马里兰州巴尔的摩的约翰·霍普金斯大学医学院神经科学系10号。美利坚合众国
