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通过能量控制焊接和淬火工艺制造的样品
由于沉积区域和基材的快速加热和冷却循环，定向能量沉积 (DED) 工艺沉积区域附近会出现复杂的残余应力分布。残余应力会导致沉积区域附近出现缺陷和过早失效。人们已经对多种热处理技术进行了广泛的研究，并将其应用于通过 DED 工艺沉积的部件，以释放残余应力。本研究旨在利用热机械分析研究通过 DED 和淬火工艺制备的试样的残余应力特性。采用耦合热机械分析技术预测淬火步骤后沉积区域附近的残余应力分布。沉积和冷却措施的有限元 (FE) 分析结果表明，在弹性恢复完成后，沉积区域附近的残余应力显著增加。加热和淬火阶段的 FE 分析结果进一步表明，在淬火初始阶段，沉积区域附近的残余应力显著增加。此外，观察发现，无论沉积材料如何，淬火残余应力均小于弹性恢复后的残余应力。
电池健康估计策略
电池健康估计策略的电池状态：从数据分析到端云协作框架Yang，K.，Zhang，L.，Zhang，Z.Published PDF deposited in Coventry University's Repository Original citation: Yang, K, Zhang, L, Zhang, Z, Yu, H, Wang, W, Ouyang, M, Zhang, C, Sun, Q, Yan, X, Yang, S & Liu, X 2023, 'Battery State of Health Estimate Strategies: From Data Analysis to End-Cloud Collaborative Framework', Batteries, vol.9，不。7，351。https：//dx.doi.org/10.3390/batteries9070351 doi 10.3390/电池/电池9070351 ISSN 2313-0105出版商出版商：MDPI本文本文是根据创建范围（CCC）（CCC）（CC）（ccccccception（CC）分发的一篇开放访问文章（CC） https://creativecommons.org/licenses/4.0/）
cdcc_operation_manual_n.pdf div>
“ Margin Fund Accounts ” – the CDCS record provided to each Clearing Member containing all Margin deposited by such Clearing Member to CDCC, in respect to the Firm Margin Accounts, GCM Regime Margin Accounts and Non-GCM Regime Margin Accounts for any of the following: (1) Base Initial Margin (or Adjusted Base Initial Margin, as the case may be), (2) Additional Margin for Market Liquidity Risk, (3) Additional Margin for Specific Wrong-Way Risk, （4）不匹配定居风险的额外边缘，（5）日内变异差风险的额外利润率，（6）无偿期权保费风险的额外保证金，（7）银行假期风险的额外保证金，（8）（8）额外的保证金，（8）变异保证金交付风险的变化余量风险，（9）额外的资本保证金风险；对于未安置的项目；按照风险手册或本文第8节中规定的整体。
通过加性摩擦搅拌制造产生的材料的辐射测试
通过梅尔德过程沉积的标本。在此图像中，可以看到底物和第一个沉积层之间的界面以及第一和第二沉积层之间的界面。有助于识别接口红色箭头以及两侧的绿色虚线。
原始发表论文的引用（记录版本）：Yuan, M., Karamchedu, S., Fan, Y. et al (2022). Study of flaws in directing energy dep
采用定向能量沉积技术在用于硬面堆焊的热作工具钢基材上沉积了具有不同层数的冷作工具钢。本研究涉及了覆层工具钢中的缺陷和微观结构。在沉积区发现了包括孔隙和裂纹在内的缺陷，其数量随着沉积高度或层数的增加而增加。大的不规则孔隙主要位于沉积层的下部区域。此类孔隙的形成归因于合金元素在孔隙表面的偏析和热量输入不足。非平衡共晶微观结构是孔隙邻近区域的特征。另一方面，开裂往往发生在沉积层的上部。确定了导致开裂的两个重要因素。第一个是微观结构梯度，当从底部移动到顶部沉积层时，微观结构梯度从细胞状树枝状晶变为柱状树枝状晶。其次，根据Thermocalc软件的模拟，沉积的冷作工具钢表现出相对较大的凝固温度范围，从而对热裂纹具有很高的敏感性。
磁铁溅射技术，用于分析RF溅射功率对沉积在SIO2/SI底物上的铝薄膜微结构表面形态的影响
摘要在这项研究中，铝（Al）薄膜使用RF磁铁溅射技术沉积在SIO 2 /Si底物上，以分析RF溅射功率对微观结构表面形态的影响。采用不同的溅射RF功率（100-400 W）形成薄膜。使用X射线衍射模式（XRD），扫描电子显微镜（SEM），原子力显微镜（AFM）和傅立叶转换红外（FTIR）光谱研究，研究了沉积的Al薄膜的特征。X射线衍射（XRD）结果表明，低溅射功率的沉积膜具有无定形性质。通过增加溅射功率，观察到结晶。AFM分析结果表明，300 W的RF功率是增强最光滑的Al薄膜的最佳溅射功率。FTIR结果表明，不同的RF功率会影响沉积膜的化学结构。SEM结果表明，通过增加旋转功率，可以导致在底物表面形成孤立的纹理。总而言之，RF功率对沉积膜的性质，尤其是结晶和形状有重大影响。
磁控溅射技术分析射频溅射功率对SiO2/Si基片上沉积铝薄膜微结构表面形貌的影响
摘要 本研究采用射频磁控溅射技术在SiO2/Si基底上沉积铝（Al）薄膜，以分析射频溅射功率对微结构表面形貌的影响。采用不同的溅射射频功率（100–400 W）来沉积Al薄膜。利用X射线衍射图（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）和傅里叶变换红外（FTIR）光谱研究了沉积Al薄膜的特性。X射线衍射（XRD）结果表明，低溅射功率下沉积的薄膜具有非晶性质。随着溅射功率的增加，可以观察到结晶。AFM分析结果表明，300 W的射频功率是生长最光滑Al薄膜的最佳溅射功率。FTIR结果表明，不同的射频功率影响沉积薄膜的化学结构。 SEM结果表明，随着溅射功率的增加，基体表面形成了孤立的纹理。总之，射频功率对沉积薄膜的性质，特别是结晶和形状有显著的影响。
材料
摘要：本文介绍了采用脉冲反应磁控溅射法制备的氧化锌涂层的微观结构、光学、电学和纳米机械性能的研究结果。在金属、浅介质和深介质溅射模式下沉积了三组 ZnOx 薄膜。结构研究表明，在金属模式下沉积的薄膜为纳米晶，具有金属锌和氧化锌的混合六方相，晶粒尺寸分别为 9.1 和 6.0 nm。相反，在两种介电模式下沉积的涂层均具有纳米晶 ZnO 结构，平均晶粒尺寸小于 10 nm。此外，在介电模式下沉积的涂层在可见光波长范围内的平均透射率为 84%，而在金属模式下沉积的薄膜是不透明的。电性能测量表明，沉积态薄膜的电阻率在 10 − 4 Ω cm 至 10 8 Ω cm 范围内。以金属模式沉积的涂层硬度最低，为 2.2 GPa，耐刮擦性在所有溅射涂层中最低，而以深介电模式溅射的薄膜具有最佳的机械性能。所得硬度为 11.5 GPa，是迄今为止文献中报道的未掺杂 ZnO 的最高硬度之一。
CIBC注册计划转移现金激励提议
金额或等同于支付奖金的合格CIBC注册计划产品。如果客户随后启动根据本提议存入的资产转让，请在2024年8月31日（a）2024年8月31日（a）的CIBC公司以外的金融机构转移到CIBC集团以外的一组公司，以将资产转移到2024年5月31日的2024年5月31日，并在2024年5月30日登记的产品中存入合格的CIBC注册计划产品，以转移到2024年的登记量中，以供量转移到2024年，b），该产品的运输量为2024年，该产品的运输量为2024年，该产品的运输量，该产品的转让为2024年。 2024年7月31日。12。CIBC，SI和ISI对未接收或完成日期完成的转移概不负责
报告摘要
PXD037708。质谱蛋白质组学和 NTA 数据集的数据分析以及描述归纳策略的补充图表可在 https://github.com/duff-lab-team/AD-EV-characterisation 上访问。人类蛋白质组可从通用蛋白质资源 (UniProt) 获得，登录号为 UP000005640。图 3a 中显示的断层图像已存入电子显微镜数据库 (EMDB)，登录号为 16064。单粒子低温电子显微镜数据集已存入电子显微镜公共图像档案 (EMPIAR)，登录号如下：EV 数据集为 11300，细胞数据集为 11301。单粒子低温电子显微镜图谱已存入 EMDB，登录号如下：EV 图谱为 16035，细胞图谱为 16039。原子模型已存入蛋白质数据库 (PDB)，登录号如下：EV 模型为 8BGS，细胞模型为 8BGV。任何其他数据均可向相应作者索取。