由于服务器和数据中心级别的功率密度不断增加,高性能计算服务器的热管理正成为数据中心冷却行业面临的普遍挑战。高效散热也与电子封装可靠性直接相关。由于水基冷却剂的热性能更高,直接芯片液体冷却等改进的冷却技术可以满足不断增长的冷却需求。使用动态冷却概念,实验研究了一种进一步提高直接液体冷却 (DLC) 效率的方法。开发了一种流量控制装置 (FCD),用于使用陶瓷加热器调节流向四个定制热测试车辆 (TTV) 的流量。TTV 组件被放置在标准 19 英寸信息技术设备 (ITE) 机架的四个不同高度,位于安装有冷板的测试夹具中。每个 TTV 的流量调节是基于每个 TTV 的功耗进行的。每个 TTV 的功耗因整个机架中各种非均匀功率分布值而变化。分析了冷却剂入口温度和流速对 TTV 温度和机架压降的影响。结果表明,TTV 上的温度更加均匀,最大功率时 TTV 上的最高温度降低。还通过将所得结果与已发表的文献进行比较,分析了温度均匀性对封装级可靠性的影响。
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本文提出了对记忆的全新理解,这也将改变有关记忆增强的争论的坐标。我们不应该把记忆看作一个仓库,而应该从叙事的角度来思考记忆。这种观点让我们深入了解了我们构建记忆的实际过程——即通过构建有意义的摘要,而不是添加离散元素。我认为,这种关于记忆的新思维方式将使我们现有的或在不久的将来拥有的大多数增强记忆的技术在伦理上不再那么令人担忧。主要思想是,(生物)记忆与记忆增强以通常的方式以创造性和重新阐述的方式相互作用。最后,我将举几个案例来说明前面的观点。
北京石墨烯技术研究院有限公司,中国航发北京航空材料研究院,北京 100095,中国 * 电子邮件:shaojiuyan@126.com 收稿日期:2020 年 4 月 25 日 / 接受日期:2020 年 6 月 17 日/发表日期:2020 年 8 月 10 日 LiCoO 2 正极在高压操作下会发生严重的副反应和快速的容量衰减。在本研究中,通过小尺寸石墨烯纳米片对 LiCoO 2 进行部分涂覆,以实验研究石墨烯改性机理在 4.5V 截止电压下改善 LiCoO 2 正极电化学性能方面。与原始 LiCoO 2 相比,G-LCO 在 2.5 和 4.5 V vs. Li + /Li 之间表现出更好的循环稳定性和倍率能力。进一步研究表明,部分涂覆石墨烯纳米片可以有效抑制电池阻抗的增加并缓解阴极电解质界面(CEI)的生长,从而获得出色的电化学性能。这项研究为提高高截止电压下 LiCoO 2 的循环稳定性和倍率性能提供了新的见解。关键词:LiCoO 2 ,部分涂层,石墨烯纳米片,CEI 层,高电压 1. 介绍
摘要 - 在这项工作中,我们基于以前的出版物和基于Iffusion的GenerativeModelsForsPeechenHancement。我们介绍了基于随机微分方程的扩散过程的详细概述,并深入研究了其含义的广泛理论研究。与通常的有条件生成任务相反,我们不会从纯高斯噪声中开始反向过程,而是从嘈杂的语音和高斯噪声的混合物开始。这与我们的前进过程相匹配,该过程通过包括一个漂移术语从干净的语音到嘈杂的语音。我们表明,此过程仅使用30个扩散步骤来生成高质量的干净语音估计。通过调整网络架构,我们能够显着提高语音增强性能,表明网络而不是形式主义是我们原始范围的主要限制。在广泛的跨数据库评估中,我们表明,改进的方法可以与最近的判别模型竞争,并在评估与培训不同的语料库时可以更好地概括。我们使用现实世界的嘈杂录音和听力实验的仪器评估来补充结果,其中我们提出的方法是最好的。检查以解决反向过程的不同采样器配置,使我们能够平衡性能和计算速度驱动量。此外,Weshowthatthatthatthatthatthepropsed方法也适用于消耗,因此不限于添加背景噪声的去除。