布朗利水库是一个受汞 (Hg) 污染的水力发电水库,具有动态水文和地球化学条件,位于美国爱达荷州的赫尔斯峡谷综合体内。鱼类中的甲基汞 (MeHg) 污染是该水库令人担忧的问题。虽然甲基汞的产生历来被归因于硫酸盐还原菌和产甲烷古菌,但携带 hgcA 基因的微生物在分类学和代谢上是多样的,驱动汞 (Hg) 甲基化的主要生物地球化学循环尚不清楚。在本研究中,在连续四年 (2016-2019) 的分层时期测量了整个布朗利水库的汞形态和氧化还原活性化合物,以确定甲基汞产生的地点和氧化还原条件。对一组样本进行了宏基因组测序,以表征具有 hgcA 的微生物群落,并确定生物地球化学循环与甲基汞产生之间的可能联系。生物地球化学概况表明,原位水柱汞甲基化是甲基汞的主要来源。这些概况与以携带 hgcA 的微生物为重点的基因组解析宏基因组学相结合,表明该系统中的甲基汞生成发生在硝酸盐或锰还原条件下,而这些条件以前被认为可以阻止汞甲基化。利用这种多学科方法,我们确定了水文年际变化对氧化还原状态、微生物代谢策略、汞甲基化剂的丰度和代谢多样性以及最终对整个水库的甲基汞浓度的连锁效应。这项工作扩展了已知的有利于产生甲基汞的条件,并表明在某些地方通过硝酸盐或锰修正来缓解汞甲基化的努力可能会失败。
2.4 目前英国排放清单中人为排放的不确定性 14 2.4.1 来自 NAEI 的数据 14 2.4.2 来自 ISR 数据库的数据 14 2.4.3 公共电力生产商 16 2.4.4 焚烧 17 2.4.5 产品的生产和使用 17 2.4.6 家庭燃烧 18 2.4.7 垃圾填埋场 18 2.4.8 预算考虑 19 2.5 汞的自然排放和再排放 19 2.5.1 简介 19 2.5.2 直接测量汞交换通量 20 2.5.3 根据空气浓度变化估计的汞排放量 23 2.5.4 汞浓度和沉积物的历史水平 24 2.6 排放量的时间变化和趋势 25 2.6.1 时间变化 25 2.6.2未来排放趋势 25
摘要:由于人为活性,海洋的汞含量(HG)含量增加了两倍,尽管黑海洋(> 200 m)已成为重要的HG储层,但有毒和生物蓄积的甲基汞(MEHG)的浓度很低,因此很难测量。因此,当前对深海中HG周期的理解受到严格的数据限制,控制MEHG的因素及其转换率仍然很大程度上未知。通过分析52个全球分布的巴基拉质深元素宏基因组和26个来自Malaspina Expedition的新元转录组,我们的研究揭示了在全球浴类海洋中(〜4000 m深度)中细菌编码基因Mera和Merb的广泛分布和表达。这些基因与Hg II还原和MEHG脱甲基化相关的基因在粒子附着的分数中尤为普遍。此外,我们的结果表明,水质量年龄和有机物组成塑造了拥有Mera和Merb基因的结构,这些群落和Merb基因生活在不同的粒径分数,其丰度及其表达水平。命令的成员Corynebacteriales,Rhodobacterales,Alteromonadales,Oceanospirillales,Moraxelleles和Flavobacteriales是深海中包含Mera和Merb基因的主要分类参与者。这些发现,加上我们先前具有具有代谢能力降解MEHG的深层层流海洋的纯培养物分离株的结果,表明甲基汞脱甲基化和HG II还原可能发生在全球黑暗海洋中,这是生物圈中最大的生物组。关键字:汞,甲基汞,浴样,细菌脱甲基化,宏基因组,metatranscriptomes,mer基因■简介
图 2. p(g2T-TT) 和 pgBTTT 聚合物的截面突出显示 S--O 相互作用(黑色虚线 OHDGLQJ WR SODQDUL]HG GLKHGUDOV EROG UHG ZLWK ș -180°),以及在没有 S--O 的情况下具有扭曲二面角的截面(WHUDFWLRQV EROG EODFN ZLWK ș -156°)。红色虚线方块突出显示 pgBTTT 和 p(g2T-77 *HRPHWULHV ZHUH RSWLPL]HG XVLQJ Ȧ% ;' - * ZKHUH Ȧ Bohr -1
重金属(HM)被确定为关键的环境污染物,其特征在于其极端毒性,在生态系统中积累的能力以及缺乏降解性。汞以离子形式是最有毒的污染物之一,对免疫系统,神经系统和细胞结构构成了严重的风险。用于检测重金属的电化学方法由于能够产生准确的结果,更快地进行分析并达到更高灵敏度水平而引起了相当大的关注。这项研究的主要目标是开发一个基于碳的传感器,适合确定汞汞(II)。在这里,基于氧化石墨烯和金纳米颗粒的优势,我们开发了用-rgo@au修改的碳传感器。使用透射电子显微镜(TEM)和能量分散性X射线光谱(EDS)对所获得的纳米材料(RGO@au)完全表征。通过循环伏安法(CV)进行CPE/RGOAU传感器的电化学表征,方波阳极剥离伏安法(SWASV)用作确定Hg(II)的典型技术。Hg(II)的氧化峰电流与0.66-1.96 ppm的浓度成正比,检测极限为0.31 ppm。在追求实际应用时,传感器接受了其他测试,以测量水样中的Hg(II)浓度。
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Xtreme HG确实是陶瓷涂料技术的突破。这是细节市场的第一批手动陶瓷涂层,可在涂层的寿命中获得高疏水性,含水性和光滑性。随着溶剂的干燥,涂层开始交联,形成了与底物的化学键。进一步的蒸发形成了接触表面上的疏水性,含水量和湿滑的磨损层。Hg具有耐磨的耐磨性表面,如附件数据所示,可以重复洗涤。
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1. 乔尔·M·多斯坎德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