引发的化学蒸气沉积(ICVD)代表了一种用于生产聚合物薄膜的新技术,尤其是对于很难通过召开方式处理的材料,例如polytetrafluoroethelene(ptfe,ptfe,commorly com com com com com com com necly neteflon®)。在ICVD过程中,有机前体气体在热表面上热分解以产生单体自由基。这些自由基通过启动和传播步骤聚合,以在底物表面形成所需材料。我们证明了使用ICVD技术在各种底物上创建PTFE表面,从纳米级到宏观”。我们表明,在复杂的几何形状上,涂料可以使涂料变得超薄且高度奇异,从而为从医疗设备到纺织品的应用带来了重大好处。该过程对于大面积和移动的Web底物也非常可扩展,并且由于气体利用率的高效,经济性良好。可以将其扩展到其他材料系统,包括硅酮聚合物及其共聚物,以及结合其他功能,例如环氧基团。在许多商业应用中,包括内陆,医疗设备,纺织品和消费者光学器件都有很大的部署机会。我们将详细讨论沉积过程,以及GVD的商业化计划。
摘要。从电缆绝缘到先进电子设备,介电材料在众多应用中都备受关注。设备小型化的新趋势使得对能够精确生产纳米级介电薄膜的需求不断增加。此外,通常还需要特殊的机械性能,例如在柔性有机电子领域。聚合物是此目的的首选材料。然而,通过湿化学方法生产具有低缺陷密度且不含残留溶剂等的精确纳米级薄膜极其困难。引发化学气相沉积 (iCVD) 是一种无溶剂聚合物薄膜沉积工艺,可用于生产具有纳米级控制的高质量介电薄膜,从而避免了这些问题。这项工作通过一些新的 iCVD 应用示例展示了 iCVD 工艺在电气应用领域的多功能性。例如,通过在柱状氧化锌 (ZnO:Fe) 气体传感结构上添加疏水性有机硅氧烷薄膜,乙醇到氢气的选择性发生了变化,并且在高湿度水平下的性能也得到了改善。因此,改进后的传感器可用于潮湿环境,尤其是用于呼吸测试,这可以通过尖端的非侵入性方法诊断某些疾病。