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博士Jae-Dong Lee（韩国 KC Tech）- KISM 2024
Jae-Dong Lee 拥有延世大学化学工程学士学位，以及韩国科学技术院 (KAIST) 化学工程硕士和博士学位。1998 年，他加入三星电子半导体研发中心担任 CMP 工程师。他参与了 CMP 技术领域的各种研发活动，例如浆料、垫片、计量（包括设备硬件和先进工艺控制 (APC)）。2005 年至 2006 年，他被派往比利时，担任 IMEC 先进互连计划的 CMP 受让人，为期 2 年。2014 年，他调往卡博特微电子公司 (CMC)，在 CMC 美国总部（美国伊利诺伊州）从事研发和技术营销工作 7 年。他在 CMP/清洁和半导体技术领域拥有 50 多项国际专利和出版物。自 2022 年以来，他一直担任 KC Tech 材料部门的研发和销售总经理。
活动记忆2023
更多。 div>我们想做的事情更少，但影响更大。 div>最相关，创新和变革性的项目。 div>让自己参与CIBER枢纽，增强健康中心，欧洲南方测试轨道以及当前的两个巨大挑战，在微电脑中遇到的挑战，其对大学，公司的影响，并证明IMEC在马拉加植入了马拉加，合并了与TSMC和Eurractice的一系列合作，需要巨大的ecors和Eurtracter的私人资源和私人资源，这是公众的私人时间和私有的项目，这是私人的私有项目，从最广泛的意义上讲。 div>与Eurecat的联盟，与瓦伦西亚的半导体集群，巴塞罗那健康枢纽正在绘制清晰的添加和协作线，以获得创新的竞争力和规模，这是高级社会可持续繁荣的唯一引擎。 div>
基于域壁运动的缩放自旋逻辑设备的全电控制
摘要 - 基于域墙（DW）运动的旋转逻辑设备提供了灵活的体系结构，以存储和携带逻辑信息在电路中。在此设备概念中，信息以多个磁性隧道连接（MTJ）共享的磁道磁态进行编码，并通过DW运动处理。在这里，我们证明可以使用新型的MTJ堆栈来实现这种基于纳米级DW的逻辑设备的全电动控制。除了各向同性的场驱动运动外，我们还显示了由电流驱动的DWS的方向运动，这是逻辑操作的关键要求。使用DW运动对逻辑门的完整电气控制。我们的设备在全晶片的IMEC的300毫米CMOS Fab中制造，这清除了大规模集成的路径。因此，此概念证明为逻辑和神经形态应用提供了高性能和低功率DW设备的潜在解决方案。
2023 年 IRDS CEQIP 路线图
姓名 领域 组织 Byun, Ilkwon Cryo-Semi, QIP-QC 韩国首尔国立大学 Cuthbert, Michael Cryo, QIP 英国国家量子计算中心 DeBenedictis, Erik QIP-QC Zettaflops，美国 Delfanazari, Kaveh QIP-QC 英国格拉斯哥大学 Fagaly, Robert L. SCE-App Tristan Technologies（已退休），美国 Fagas, Giorgios QIP 爱尔兰廷德尔国家研究所 Febvre, Pascal SCE-Fab 法国萨瓦大学勃朗峰分校 Filippov, Timur SCE-Logic HYPRES，美国 Fourie, Coenrad SCE-EDA 南非斯泰伦博斯大学 Frank, Michael SCE-Logic, -Roadmap 美国桑迪亚国家实验室 Gupta, Deep SCE, Cryo-Semi SEACORP，美国 Herr, Anna SCE IMEC，比利时 Herr, Quentin SCE IMEC，美国Holmes, D. Scott [主席] SCE Booz Allen Hamilton，美国 Humble, Travis QIP-QC 橡树岭国家实验室，美国 Leese de Escobar, Anna SCE-App, -Bench Technology Vector Inc.，美国 Min, Dongmoon Cryo-Semi，QIP-QC 首尔国立大学，韩国 Mueller, Peter QIP-QC IBM 苏黎世，瑞士 Mukhanov, Oleg QIP-QC, SCE-Logic SEEQC，美国 Nemoto, Kae QIP 国家信息研究所 (NII)，日本 Papa Rao, Satyavolu SCE-Fab，QIP 纽约州立大学理工学院，美国 Pelucchi, Emanuele QIP-QC 廷德尔国家研究所，爱尔兰 Plourde, Britton QIP, SCE 雪城大学，美国 Soloviev, Igor SCE 罗蒙诺索夫莫斯科国立大学，俄罗斯 Tzimpragos, George SCE-Logic, -Metrics 密歇根大学，美国 Van Horn, Andrew QIP-QC 杜克大学美国大学 Weides, Martin SCE, QIP 英国格拉斯哥大学 Yoshikawa, Noboyuki SCE-Logic, -Bench 日本横滨国立大学 You, Lixing SCE 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 该团队感谢 Paolo Gargini、An Chen、Elie Track 和 IEEE 超导委员会对开发 CEQIP IFT 的鼓励和支持。我们还要感谢 Linda Wilson 提供的行政帮助和支持。2023 年报告的贡献者包括外部系统连接 (OSC) IFT 的 Carlos Augusto。
设计与布局：
2021 年，大多数会议和展览仍在线上举行。为了促进与利益相关者的互动，我们尝试了不同类型的虚拟活动，例如 ESSCIRC-ESSDERC2021 的小组讨论以及与 DSP Valley 和 Silicon Saxony 分别联合举办的两次在线行业集群活动。我们还继续进一步提高我们的数字影响力。例如，EUROPRACTICE LinkedIn 现在有超过 1900 名关注者。接下来，我们举办了另外三场非常成功的网络研讨会系列，专门讨论 MEMS 技术、柔性电子和 imec MPW 服务。我们所有网络研讨会的录音都可以在 EUROPRACTICE 的 YouTube 频道上找到。此外，我们重新设计和重组了我们的网站，使导航更加直观，整体体验更加用户友好。最后，我们的实体培训课程经过重新配置和调整，可在线呈现为现场讲师指导的培训，包括使用远程可访问的设计工具环境的动手实践课程。
Edinger , P. , Takabayashi , A Y. , Errando-Herranz , C. , Khan , U. , Sattari , H. 等人。 (2021) 用于 SC 的硅光子微机电移相器
可编程光子集成电路正成为量子信息处理和人工神经网络等应用的一个有吸引力的平台。然而，由于商业代工厂缺乏低功耗和低损耗的移相器，目前的可编程电路在可扩展性方面受到限制。在这里，我们在硅光子代工平台 (IMEC 的 iSiPP50G) 上展示了一种带有低功耗光子微机电系统 (MEMS) 驱动的紧凑型移相器。该设备在 1550 nm 处实现 (2.9 π ± π) 相移，插入损耗为 (0.33 + 0.15 − 0.10) dB，V π 为 (10.7 + 2.2 − 1.4) V，L π 为 (17.2 + 8.8 − 4.3) µ m。我们还测量了空气中的 1.03MHz 的驱动带宽 f − 3 dB。我们相信，我们在硅光子代工厂兼容技术中实现的低损耗和低功耗光子 MEMS 移相器的演示消除了可编程光子集成电路规模化的主要障碍。© 2021 美国光学学会
紧凑型宽带悬浮硅光子定向耦合器
定向耦合器广泛用于光子集成电路，作为高效片上光子信号路由的基本元件。传统上，定向耦合器完全封装在该技术的波导包层材料中。在本文中，我们展示了一种紧凑的宽带定向耦合器，它完全悬浮在空气中，并在交叉状态下表现出高效的功率耦合。该耦合器是基于 IMEC 的 iSiPP50G 标准平台设计和制造的，基于水氟 (HF) 蒸汽蚀刻的后处理允许释放独立组件。实验证实了 λ = 1560 nm 时的低插入损耗 0.5 dB 和 λ = 1550 nm 时的 1 dB 带宽 35 nm。该定向耦合器体积小巧，仅为 20 µ m × 30 µ m，机械稳定性高，可作为大规模硅光子微机电系统 (MEMS) 电路的基本构建模块。© 2020 美国光学学会
EMLC 2025
进一步的成员Abboud，Frank E. Ectronics，Crolles（法国）Levinson，Harry J.，HJL光刻，加利福尼亚州萨拉托加（美国）Maas，Maas，Raymond，Asml，Veldhoven（荷兰）Maly，Enrico，Photronics MZG，Dresden（德国） CEA-LETI，GRENOBLE（法国）Ronse，Kurt，IMEC，Leuven（比利时）Scheruebl，Thomas，Carl Zeiss SMT，Jena（德国）Schnabel，Ronald，Ronald，Vde E.V.德累斯顿 (德国) Schuch、Nivea、应用材料、格勒诺布尔 (法国) Sundermann、Frank、意法半导体、克罗尔 (法国) Tschinkl、Martin、Toppan Photomasks、德累斯顿 (德国) Varga、Ksenija、EV Group、Florian am Inn (奥地利) Wurm、Stefan、ATICE LLC、纽约州奥尔巴尼 (美国) Yoshitake、Shushuke、NuFlare Technology、横滨 (日本) Zeggaoui、Nassima、西门子工业软件、梅朗 (法国) Zurbrick、Larry、是德科技、圣克拉拉 (美国)
EUV 光刻中的氢气回收
DWARDS VACUUM 开发了一种氢气回收系统 (HRS)，可以回收和再利用极紫外 (EUV) 光刻工具使用的约 80% 的氢气。该系统降低了净氢气消耗和成本，降低了供应中断带来的财务和工艺风险以及氢气运输和分配的安全风险，并降低了 EUV 光刻的总能耗和碳足迹。EUV 光刻在所有先进节点制造中都是必不可少的。事实证明，它适合大批量生产，其减少工艺周期数的经济效益现已明确，并且运行中的系统数量正在稳步增加。EUV 工具使用大量氢气，目前约为每分钟 600 标准升，并且可能进一步增加。回收和再循环氢气使制造商能够大幅削减供应需求。Edwards 的 HRS 是与比利时鲁汶 imec 合作开展的十年开发计划的成果。该系统
立足过去，展望未来
一般成员 Frank E. Abboud，英特尔公司 Uwe FW Behringer，UBC Microelectronics Ingo Bork，西门子 EDA Tom Cecil，Synopsys 公司 Brian Cha，Entegris 韩国 Aki Fujimura，D2S 公司 Emily Gallagher，imec Jon Haines，美光科技公司 Koji Ichimura，大日本印刷株式会社 Bryan Kasprowicz，HOYA Romain J Lallement，IBM 研究 Khalid Makhamreh，应用材料公司 Kent Nakagawa，Toppan Photomasks 公司 Patrick Naulleau，EUV Tech 公司 Jan Hendrik Peters，bmbg consult Steven Renwick，尼康 Douglas J. Resnick，佳能纳米技术公司 Thomas Scheruebl，卡尔蔡司 SMT GmbH Ray Shi，KLA 公司 Thomas Struck，英飞凌科技股份公司 Anthony Vacca，自动视觉检测 Andy Wall，HOYA Michael Watt， Shin-Etsu MicroSi Inc. Larry Zurbrick，是德科技公司