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建立ZIF-8作为氢冷冻吸附的参考材料：实验室间研究
将氢（H 2）存储为能量载体，需要开发用于提高传统储存溶液的效率和安全性，例如压缩气体（350-700 bar）和低温液体（20-30 K）。[1]固态氢存储是开发的一种替代方法，可以通过金属 - 水流中的化学键或通过物理吸附（物理吸附）到达多孔材料表面的物理吸附（物理吸附），以达到涉及较低储存压力的技术储存密度。[2]在固态方法中，物理吸附显示了更快的动力学，用于充电和放电和完全可逆性。[3,4]使用吸附剂进行氢存储需要低温温度（冷冻吸附），通常在液氮的沸点周围，即77 K，以实现与高压或液态氢罐可比的实用重量和大量能力。[5–11]
versailles项目对X射线光电子光谱仪的强度校准的高级材料和标准性研究使用低密度聚乙烯
Benjamen P. Reed* 1 , David J. H. Cant 1 , Steve J. Spencer 1 , Abraham Jorge Carmona-Carmona 2 , Adam Bushell 3 , Alberto Herrera-Gómez 2 , Akira Kurokawa 4 , Andreas Thissen 5 , Andrew G. Thomas 6 , Andrew J. Britton 7 , Andrzej Bernasik 8 , Anne Fuchs 9 , Arthur P. Baddorf 10 , Bernd Bock 11 , Bill Theilacker 12 , Bin Cheng 13 , David G. Castner 14 , David J. Morgan 15 , David Valley 16 , Elizabeth A. Willneff 17 , Emily F. Smith 18 , Emmanuel Nolot 19 , Fangyan Xie 20 , Gilad Zorn 21 , Graham C. Smith 22 , Hideyuki Yasufuku 23 , Jeffery Fenton 24 , Jian Chen 20 , Jonathan D. P. Counsell 25 , Jörg Radnik 26 , Karen J. Gaskell 27 , Kateryna Artyushkova 16 , Li Yang 28 , Lulu Zhang 4 , Makiho Eguchi 29 , Marc Walker 30 , Mariusz Hajdyła 8 , Mateusz M. Marzec 8 , Matthew R. Linford 31 , Naoyoshi Kubota 29 , Orlando Cortazar- Martínez2，Paul Dietrich 5，Riki Satoh 29，Sven L. M. Schroeder 7，Tahereh G. Avval 31，Takaharu Nagatomi 32，Vincent Fernandez 33，Wayne Lake 34，Wayne Lake 34，Yasushi Azuma 4，Yasushi Azuma 4，Yusuke Yusuke Yoshikawa 355,36，and Alexander G./alexander G.
从单元到第二人物模块的扩展测试
将氢（H 2）存储为能量载体，需要开发用于提高传统储存溶液的效率和安全性，例如压缩气体（350-700 bar）和低温液体（20-30 K）。[1]固态氢存储是开发的一种替代方法，可以通过金属 - 水流中的化学键或通过物理吸附（物理吸附）到达多孔材料表面的物理吸附（物理吸附），以达到涉及较低储存压力的技术储存密度。[2]在固态方法中，物理吸附显示了更快的动力学，用于充电和放电和完全可逆性。[3,4]使用吸附剂进行氢存储需要低温温度（冷冻吸附），通常在液氮的沸点周围，即77 K，以实现与高压或液态氢罐可比的实用重量和大量能力。[5–11]
使用原子力显微镜对石墨烯氧化石墨片的厚度测量：国际实验室间比较的结果
1 1技术创新中心国家市场法规，国家计量学研究所（NIM），北京，100029，中华民国2中，中国吉利安格大学，杭州大学，辛吉安，辛吉安吉安，310018材料科学，国家计量与测试国家实验室（LNE），29 Avenue Roger Hennequin，F-78197，F-78197，法国5号，5个国家测量研究所（NMIA），布拉德菲尔德路36号，新南威尔士州Lindfield，新南威尔士州2070年，澳大利亚2070年，澳大利亚6号研究中心，国民研究委员会（NRC），加拿大研究委员会（NRC）。 0R6, Canada 7 Bruno Kessler Foundation, Sensors and Devices Center, Micro Nano Facility Unit ( MNF ) , Trento I-38123, Italy 8 National Institute of Metrology ( Thailand ) ( NIMT ) , 3 / 4-5 Moo 3, Klong 5, Klong Luang, Pathumthani, Thailand 9 Danmarks Nationale Metrologiinstitut ( DFM ) , Kogle Allé 5 D-2970 Hørsholm Danmark 10 National Institute of Metrology, Quality and Technology ( INMETRO ) , Duque de Caxias RJ, Brazil 11 Center for Measurement Standards, Industrial Technology Research Institute ( CMS / ITRI ) , Hsinchu 30011, Chinese TaiPei, People ' s Republic of China 12 Swinburne University of Technology, John Street, Hawthorn, VIC 3122 Australia1技术创新中心国家市场法规，国家计量学研究所（NIM），北京，100029，中华民国2中，中国吉利安格大学，杭州大学，辛吉安，辛吉安吉安，310018材料科学，国家计量与测试国家实验室（LNE），29 Avenue Roger Hennequin，F-78197，F-78197，法国5号，5个国家测量研究所（NMIA），布拉德菲尔德路36号，新南威尔士州Lindfield，新南威尔士州2070年，澳大利亚2070年，澳大利亚6号研究中心，国民研究委员会（NRC），加拿大研究委员会（NRC）。 0R6, Canada 7 Bruno Kessler Foundation, Sensors and Devices Center, Micro Nano Facility Unit ( MNF ) , Trento I-38123, Italy 8 National Institute of Metrology ( Thailand ) ( NIMT ) , 3 / 4-5 Moo 3, Klong 5, Klong Luang, Pathumthani, Thailand 9 Danmarks Nationale Metrologiinstitut ( DFM ) , Kogle Allé 5 D-2970 Hørsholm Danmark 10 National Institute of Metrology, Quality and Technology ( INMETRO ) , Duque de Caxias RJ, Brazil 11 Center for Measurement Standards, Industrial Technology Research Institute ( CMS / ITRI ) , Hsinchu 30011, Chinese TaiPei, People ' s Republic of China 12 Swinburne University of Technology, John Street, Hawthorn, VIC 3122 Australia
versailles项目对X射线光电子光谱仪的强度校准的高级材料和标准性研究使用低密度聚乙烯
Benjamen P. Reed* 1 , David J. H. Cant 1 , Steve J. Spencer 1 , Abraham Jorge Carmona-Carmona 2 , Adam Bushell 3 , Alberto Herrera-Gómez 2 , Akira Kurokawa 4 , Andreas Thissen 5 , Andrew G. Thomas 6 , Andrew J. Britton 7 , Andrzej Bernasik 8 , Anne Fuchs 9 , Arthur P. Baddorf 10 , Bernd Bock 11 , Bill Theilacker 12 , Bin Cheng 13 , David G. Castner 14 , David J. Morgan 15 , David Valley 16 , Elizabeth A. Willneff 17 , Emily F. Smith 18 , Emmanuel Nolot 19 , Fangyan Xie 20 , Gilad Zorn 21 , Graham C. Smith 22 , Hideyuki Yasufuku 23 , Jeffery Fenton 24 , Jian Chen 20 , Jonathan D. P. Counsell 25 , Jörg Radnik 26 , Karen J. Gaskell 27 , Kateryna Artyushkova 16 , Li Yang 28 , Lulu Zhang 4 , Makiho Eguchi 29 , Marc Walker 30 , Mariusz Hajdyła 8 , Mateusz M. Marzec 8 , Matthew R. Linford 31 , Naoyoshi Kubota 29 , Orlando Cortazar- Martínez2，Paul Dietrich 5，Riki Satoh 29，Sven L. M. Schroeder 7，Tahereh G. Avval 31，Takaharu Nagatomi 32，Vincent Fernandez 33，Wayne Lake 34，Wayne Lake 34，Yasushi Azuma 4，Yasushi Azuma 4，Yusuke Yusuke Yoshikawa 355,36，and Alexander G./alexander G.