Invertau配备了两个检测器端口和两个激发端口,允许用户进行各种FLIM方法,包括两光激发。Horiba的剪切时间相关的单光子计数(TCSPC)FIPHO时正时电子设备能够解决寿命范围从<15 picseconds到秒。invertau能够将寿命从〜50ps到10的NS,扫描(如果单点),同时无缝地使用我们的Deltadiode激光菜单。invertau也与第三方激光器兼容。
subμm光刻发展至少可以追溯到1983年,并于1986年进行了审查,当时该领域仍处于大学研究状态[2]。目标是实现具有尖锐侧壁的二维模式,其尖锐的侧壁明显小于常规光学方法的可能性,这些光学方法被光的波长确定和限制。不仅考虑了光孔构成重要的方法,而且还考虑了光孔本身产生所需模式的能力。在上述出版物中回顾了几种用于生成光刻图像的方案 - 光影影像学,接触光刻,全息光刻,电子束光刻,X射线光刻和离子光刻。强度降解