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受控液体离子氮碳共渗工艺 (TENIFER
可控液体离子氮碳共渗工艺（TENIFER ® 和 ARCOR ® ）可替代电镀涂层 Dr. Joachim Boßlet Durferrit GmbH，德国曼海姆 Danilo Assad Ludewigs Durferrit do Brasil，巴西迪亚德马 众所周知，由于其工艺特性，如高质量水平的最佳再现性，离子液体中的氮碳共渗可为处理后的部件提供出色的耐磨性、点蚀、咬合、卡死和表面疲劳抗性。但是，防腐效果仍然中等。可以通过在氧化盐熔体中进行后热处理来解决此问题，在氮化层表面产生非常薄但致密的氧化层。结合抛光和浸渍，氧化部件可以具有光滑、美观的黑色表面，从而显著提高盐雾试验中长达 1000 小时的耐腐蚀性，而不会失去上述优点。本文讨论了应用受控液体离子氮碳共渗 (CLIN) 工艺（如 TENIFER ® 和 ARCOR ®）来取代镀铬、镀镍和镀锌等电镀层，因为它们具有出色的耐腐蚀性和耐磨性，并强调了使用它们的经济和环境优势。由于易于操作，不需要复杂的工厂设备。工艺时间相当短，允许灵活工作，而无需为工作负载建立更大的缓冲容量。1.简介 CLIN 是用于钢和铸铁氮碳共渗和氧化的现代环保工艺的家族名称。氮和碳的扩散会产生所谓的化合物层，该层具有非金属特性。与其他涂层相比，该边缘区域的突出优势在于，牢固的化合物扩散在基材上，而不是涂在表面上。因此，它们表现出非常好的附着力，裂纹敏感性明显降低。根据所用材料，这些层的硬度为 800 至 1500 维氏硬度。化合物层由下面的扩散层支撑。CLIN 处理的部件可提供卓越的防磨损、防卡死、防擦伤、防点蚀和防疲劳保护。2.工艺特点 基本上所有类型的铁材料都可以在盐熔体中进行氮碳共渗，无需任何特殊的初步预处理，例如工具钢、低碳钢、阀门钢、奥氏体钢、铸铁或烧结材料。工艺顺序并不复杂。处理温度通常为 570 - 590 °C。经过短暂的预清洁和在空气中预热至 350 - 400 °C 后，将部件在盐熔体中进行氮碳共渗，通常持续 60 - 120 分钟。在特殊情况下，可以使用较低 (480 °C) 或较高 (630 °C) 的温度。对于淬火，使用水、空气、氮气、真空或氧化冷却浴。随后，用热水级联清洁炉料。对于氮碳共渗熔体，仅需控制以下几个参数： • 熔体的化学成分 • 处理温度 • 处理时间 与其他处理介质相比，盐熔体具有极高的氮含量。浸入液体盐浴后，氮碳共渗过程立即开始。几分钟后，已经形成了一个紧凑的
通过碳纳米膜实现超高离子排斥
制造人工膜为人类提供洁净水，关键是制造出大小相似的通道。[2,3] 商业上使用的渗透膜大多由聚合物制成，其分子链通常随机排列，因此孔径分布较宽。[4] 合成纳米导管，如碳和氮化硼纳米管[5–7] 以及通过有机合成制成的孔[8] ，能够在分子水平上控制通道特性，并已被证明可以使水快速高效地流过它们。[5,6] 然而，制造直径小于 1 纳米 [3,9] 的孔隙仍然具有挑战性，这些孔隙可以阻挡 Na + 、K + 和 Cl – 等小离子。此外，将大量平行的通道组装成边界清晰的膜也是一项技术挑战。[3,4] 二维材料的出现为创建这种小通道提供了进一步的途径。近期的例子包括石墨烯中制成的亚纳米孔[10,11]，以及在氧化石墨烯[12]和二硫化钼层之间组装的二维通道[13]。所得膜表现出选择性离子渗透，但仍然缺乏可以阻止所有离子通过的孔结构。因此，开发具有高离子选择性通道的新型二维材料是十分有必要的，这可以为先进的渗透膜奠定基础。为了应对这一挑战，有人提出利用分子自组装技术辅助辐射诱导交联来创建具有明确孔结构的单分子厚的碳纳米膜（CNM）。[14]我们最近报道了分子通过 Au(111) 表面由三联苯硫醇 (TPT) 单层制备的约 1.2 纳米厚的 CNM 进行传输。 [15] 单层纳米薄膜在低能电子作用下会断裂 TPT 前驱体中的 C H 键，将高度有序的分子结构转化为坚固的可转移交联碳网络（图 1a）。这些纳米膜可允许极高的水流量，同时几乎不渗透非极性分子和原子。这归因于亚纳米通道的高面密度（≈ 10 18 m − 2 ，即每平方纳米 1 个亚纳米孔），极性水分子可以通过这些通道以单行传输。[15,16] 因此，通道密度远远超过其他纳米结构膜达到的≈ 10 14 –10 16 m − 2 。[5,10,17] 因此，这些膜代表了一种潜在的新型 2D 膜，可用于实现高性能
立方 NaSbS2 作为离子电子耦合半导体……
这是以下文章的已接受版本：Harikesh, P. C., Surendran, A., Ghosh, B., John, R. A., Moorthy, A., Yantara, N., . . . Mathews, N. (2020). Cubic NaSbS2 as an ionic‑electroniccoupled semiconductor for switchable photovoltaic and neuromorphic device applications. Advanced Materials, 32(7), 1906976‑，最终版本已发布于 https://doi.org/10.1002/adma.201906976。本文可根据 Wiley 自存档政策 [https://authorservices.wiley.com/authorresources/Journal‑Authors/licensing/self‑archiving.html] 用于非商业用途。
通过量子退火优化电池材料中的离子配置
多元素化合物中离子排列的建模是能源材料计算研究的普遍挑战。混合或部分占据晶格位置的材料被广泛研究，例如用于光伏电池的掺杂半导体[1-3]，或用于锂离子电池（LIB）的插层材料和离子导体[4-7]。虽然元素的配置排列会影响计算的热力学[8,9]、电子[10]、化学[11]和离子传输参数[12,13]，但构建可靠的占据无序模型是模拟的一大困难[14-19]。对于包含 M 个位置的模拟单元，其中一部分 θ 被占据，可能的配置总数由（使用斯特林公式）M θ M 给出
研究以优化锂金属阳极
开发可再生能源技术是解决耗尽化石燃料带来的全球变暖和空气污染问题的有效方法。由于高理论能力（3860 mAh/g）和锂金属阳极的低电化学潜力，锂金属电池（LMB）引起了极大的研究注意，并通过电动汽车的可扩展应用和剧烈的部署。不幸的是，Li金属阳极的进一步商业化受到Li树突在锂镀层/剥离过程中的随机生长的阻碍，从而导致活跃的LI和分离器上的穿刺持续消耗。最近，MA的小组提出了一种新的方法，以系统地研究官能团与LI型树突生成之间的关系。 所提出的新方法可能是一种有效的工具，可以在电解质添加剂和Li木树状形成中获得新的见解，这对于高表现Li Metal Electrode材料的合理结构设计非常有价值。 ©2021，过程工程研究所，中国科学院。 Elsevier B.V.的出版服务代表Keai Communications Co.，Ltd. 这是CC BY-NC-ND许可证（http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/）下的开放访问文章。最近，MA的小组提出了一种新的方法，以系统地研究官能团与LI型树突生成之间的关系。所提出的新方法可能是一种有效的工具，可以在电解质添加剂和Li木树状形成中获得新的见解，这对于高表现Li Metal Electrode材料的合理结构设计非常有价值。©2021，过程工程研究所，中国科学院。Elsevier B.V.的出版服务代表Keai Communications Co.，Ltd.这是CC BY-NC-ND许可证（http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/）下的开放访问文章。
石墨烯层的表面等离子等离子控制...
Pay，J。Y.，Medwal，R.，Nair，R.V.，Chaurasiya，A.，Battito，M.，Rawat，R.S.S.M。（2020）。控制爆发抢劫中过度词的等离子体。Letters，20（11），8305‑8311。