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2021年1月15日机构名称:

在低缺失率制度中的多项式时间痕量重建

在痕量重建问题中，未知的源字符串x∈{0，1} n通过概率删除通道传输，该通道独立删除了各个位与某些固定概率δ并串联存活的位，从而导致x的跟踪。问题是重建X给定访问独立轨迹的X。任意（最坏情况）字符串的痕量重建是一个具有挑战性的问题，当前的poly（n）时算法是Batu等人的2004年算法。[2]。该算法可以重建一个任意源字符串x∈{0，1} n在poly（n）时间中，规定删除速率Δ符号ΔΔ≤n-（1 / 2+ε）对于某些ε>0。< / div>> < / div>> < / div>在这项工作中，我们通过为任何缺失速率δ≤n-（1 /3+ε）提供了poly（n） - 时算法的结果。我们的算法通过交替基于对齐的过程来起作用，我们显示了源字符串的一部分不是“高度重复性”的，并有效地确定了源字符串高度重复性子词的长度。

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2020年12月29日机构名称:

在确定性多项式时间中计算单变量的 Igusa 局部 zeta 函数

Igusa 的局部 zeta 函数 Z f , p ( s ) 是生成函数，它计算 f ( x ) mod pk 中所有 k 的积分根的数量 N k ( f )。在解析数论中，有一个著名结果，即 Z f , p 是 Q ( ps ) 中的有理函数。我们针对一元多项式 f 给出了这一事实的基本证明。我们的证明是建设性的，因为它给出了根数量的闭式表达式 N k ( f )。我们的证明与 Dwivedi、Mittal 和 Saxena (计算复杂性会议，2019) 最近的根计数算法相结合，产生了第一个确定性的 poly( | f | , log p ) 时间算法来计算 Z f , p ( s )。以前，只有当 f 完全分裂在 Q p 上时才知道一种算法；它需要有理根来使用树的生成函数的概念（Zúñiga-Galindo，J. Int. Seq.，2003）。

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2020年10月7日机构名称:

统计推断中的多项式方法：理论和实践

本调查提供了基于多项式理论的一系列技术的阐述，共同称为多项式方法，这些方法最近已应用于成功解决统计推断中的几个具有挑战性的问题。主题包括多项式近似，多项式插值和多数化，力矩空间和正值多项式，正交多项式和高siAN正交正交正交正交，其主要概率和统计应用在大型域和学习混合模型上的性质估计中。这些技术不仅为具有可证明最佳性的高度实用算法的设计提供了有用的工具，而且还用于通过瞬间匹配的方法来建立推理问题的基本限制。在诸如熵和支撑大小估计，不同的元素问题和学习高斯混合模型等具体问题中证明了多名方法的效果。

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2020年2月15日机构名称:

开发适应机器人机械手多项式轨迹规划特性的人工智能方法

摘要 — 当轨迹类型已知时，可以使用数学方法计算机器人操纵器的轨迹规划。然而，由于复杂的数学方程和推导，传统的数学方法变得难以实现。本研究介绍了使用人工神经网络 (ANN) 来克服这些限制，通过求解非线性函数并适应轨迹规划的特点。本研究利用虚拟三自由度 (DOF) 机器人操纵器。将对 ANN 的超参数进行分析和选择，以获得 ANN 的最佳性能。最后，将使用样本数据通过将实际结果（数学方法）与 ANN 结果进行比较来评估开发的 ANN 拓扑的稳健性。  索引术语 — 人工神经网络、正向运动学、轨迹规划、机器人操纵器

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2024年12月28日机构名称:

乘以多项式课程计划

课程摘要和总结：在摘要中，教师将使用课程目标1、2A和3A的学生工作来重新访问从标准算法乘法，类似的术语，到分布属性，到多项式的途径。课程摘要中的示例问题：

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2011年3月27日机构名称:

用单步过程在Si中制造多项式3-D纳米结构

1引言有许多电子设备利用各种形状的3-D结构，例如颗粒，圆锥体，光子带隙晶体，磁倍率随机访问记忆（MRAM）和纳米电机械系统（NEMS）（NEMS）。这些结构的特性对它们的尺寸特征（例如形状，大小等）表现出很高的灵敏度，这通常会导致功能增强。由于这些3D结构中的特征大小降低了纳米级，因此在制造中实现高维准确性和可靠性变得越来越具有挑战性。因此，越来越需要改善这些3-D结构的精确和可靠性。已经提出并采用了各种方法，以试图制造具有纳米级特征的3-D结构。They include plasma etching, 1 electrodeposi- tion with a special patterning and biasing of the seed layer, 2 direct and laser-assisted chemical etching, 3 ultrasonic machining, 4 electro-discharge machining, 5 layer-by-layer laser-induced polymerization, 6 nanoimprint lithography, 7 , 8 hole-area modulation, 9 local nanolithography by atomic force显微镜（AFM），10平行纳米氧化，11等。

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