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评估以流动为中心的微流体装置制造...
。CC-BY-NC 4.0国际许可证的永久性。根据作者/资助者提供的预印本（未经Peer Review的认证）提供，他已授予Biorxiv的许可证，以在2025年2月7日发布的此版本中在版权所有者中显示预印本。 https://doi.org/10.1101/2025.02.02.636143 doi：Biorxiv Preprint
制造用于医疗设备开发的放射线，载有药物的可吸收聚合物
图4。在10-12周内释放了放射性，机械强度，Gadolinium（GD）和二吡啶胺（DPA）的纵向监测。（a）在Hounsfield单元（HU）中测量的放射性量，随着时间的流逝逐渐减少，反映了机械强度（B）的降低趋势，被评估为千克（kg）的损耗。（c，d）GD和DPA含量显示出稳定的减少，反映了它们在研究期间的受控释放。PPDO，聚-P-二恶酮。
制造用于医疗器械开发的不透射线、载药可吸收聚合物
图 4. 10-12 周内纵向监测射线不透性、机械强度、钆 (Gd) 和双嘧达莫 (DPA) 释放情况。(A) 以亨斯菲尔德单位 (HU) 为单位测量的射线不透性随时间推移逐渐降低，与机械强度 (B) 的下降趋势相吻合，机械强度以千克 (kg) 为单位评估为断裂载荷。(C、D) Gd 和 DPA 含量稳步降低，反映出它们在研究期间的控制释放。PPDO，聚对二氧杂环己酮。
脑样生物组织的生物制作：智力的结构
1国家主要实验室，机械工程学院，Xi'an Jiaotong大学，XI'AN 710054，中华人民共和国2国家医疗产品管理局（NMPA）添加剂制造设备的研究和评估的主要实验室医学技术，西安北大学，西安710054，中华人民共和国4神经疾病和脑功能实验室，西南医科大学附属医院，卢祖646000，中国人民共和国5，中国人民协会5
快速响应、低能量输入微型点火器的设计与制造
HAL 是一个多学科开放存取档案库，用于存放和传播科学研究文献，无论这些文献是否已出版。这些文献可能来自法国或国外的教学和研究机构，也可能来自公共或私人研究中心。
制造和优化藻酸盐膜以改善废水处理
藻酸盐是一种从棕色藻类中提取的自然存在的生物聚合物，它提出了一种有希望的途径，用于开发可持续和效率的废水处理膜。本综述全面研究了基于藻酸盐的膜在制造，修饰和应用有效的水纯净方面的最新进展。纸张研究了各种制造技术，包括铸造，静电纺丝和3D打印，这些印刷不存在所得藻酸盐膜的结构和功能特性。为提高性能，采用了交联，掺入诸如诸如效果，并且采用了表面功能化。这些修改优化了至关重要的特性，例如机械强度，孔隙率，选择性和防毒性抗性。此外，响应表面方法论（RSM）已成为系统地优化制造参数的宝贵工具，使研究人员能够确定达到所需膜特性的最佳条件。将藻酸盐膜与生物处理过程的整合，例如植物修复（利用微藻）和霉菌修复（采用真菌），提供了一种协同方法，以增强废水处理能力。通过将这些微生物固定在藻酸盐基质中，它们的生物修复能力得到扩增，从而改善了污染物降解和营养去除。总而言之，基于藻酸盐的膜表现出显着的潜力，作为废水处理的可持续和有效技术。持续的研究和开发，重点是优化制造过程，并与生物系统探索创新的整合策略，将进一步推动藻酸膜膜在应对水污污染的全球压力挑战时的应用。
Vishay Siliconix 宣布商业功率 MOSFET（Si2318CDS、Si3424CDV）晶圆制造基地转移
Vishay Siliconix Vishay Electronic GmbH Vishay Intertechnology Asia Pte. Ltd 2585 Junction Avenue, Dr.-Felix-Zandman-Platz 1, 37A Tampines Street 92, #07-01, - - - 美国加利福尼亚州圣何塞 95134 德国塞尔布 D-95100 新加坡，新加坡 528886 电话：+1-408-988-8000 电话：+49-9287-71-0 电话：+65-6788-6668 传真：+1-408-567-8942 传真：+49-9287-70435 传真：+65-6788-0988 - - -
顶平纳秒激光烧蚀制备柔性透明银方形网状电极
我们报道了一种简便的顶平方形纳秒 (ns) 激光直写 (LDW) 烧蚀技术，在薄银膜基底上制备柔性透明电极的方形银蜂窝结构。方形银蜂窝结构具有表面光滑、边缘清晰、机械稳定性、与基底的强附着力以及良好的电阻和透明度。由于通过一步顶平方形纳秒 LDW 烧蚀银膜进行简便的冷加工，可以制备不同厚度的银网电极 (20 nm、50 nm、160 nm)，这些电极具有光滑的金属蜂窝表面和优异的边缘清晰度。特别是，该策略能够制备高方形蜂窝面密度（烧蚀方形蜂窝占总面积的比例）的银网，从而显着提高透明度 (>85%)，而不会显著牺牲电导率（<23.2 Ω sq−1 电阻单位）。因此，所提出的金属蜂窝结构显示出与聚萘二甲酸乙二酯（PEN）柔性基板的兼容性，适用于银基可穿戴电子设备，且电极上没有任何保护层。
通过无掩模局部原子层沉积图案化纳米级金属氧化物薄膜进行纳米制造
摘要 ：改进的露天空间原子层沉积 (SALD) 头用于在各种基底上制造复杂氧化物图案。共反应物保持在周围大气中，设计了一个由三个同心喷嘴和一个前体出口组成的简单注入头。可以轻松且可逆地修改金属前体出口的直径，从而可以直接形成具有不同横向尺寸的图案。成功证明了无掩模沉积均匀和同质的 TiO 2 和 ZrO 2 薄膜，横向分辨率从毫米到几百微米范围可调，同时将膜厚度保持在几纳米到几百纳米范围内，并在纳米级控制。这种局部 SALD 方法称为 LOCALD，还可以在结构化基底上进行层堆叠和沉积。
先进微电子制造研究生证书。...
1. 能够运用工程、科学和数学原理来识别、制定和解决先进微电子制造问题。 2. 能够与各种受众就先进微电子制造概念和技术相关主题进行有效交流。 3. 能够开发和开展适当的先进微电子制造实验，分析和解释数据，并使用工程判断得出有关微电子制造的结论。