关键字:制造产量,MMIC,MIM电容器,压力,摘要这项工作的目的是观察和分析MIM电容器结构中的应变相关效应,从而导致制造产量的降解。我们的结果表明,形成MIM结构的层之间的应变差会导致SIN X绝缘子层中应力诱导的缺陷。可以观察到这些缺陷,当MIM结构的面积 /电容增加时,它们成为一个显着的屈服限制。根据我们的技术,我们提出了一些过程和设计修改,以解决与压力相关的问题。测试了每种方法,并提出了产生的产量。ntroduction 用于金属构造仪(MIM)电容器的单片微波集成电路(MMIC)模具。 在高效放大器的现代设计中,MIM结构的数量和大小增加。 另一方面,据报道,集成的MIM电容器是导致2009年至2016年期间客户回报的失败机制的10个主要原因之一[1]。 因此,所有元素的累积产量,尤其是MIM电容器,应保持最高水平,以维持可靠的技术和低成本。 我们以前研究了电容器底部电极对MIM电容器产量的粗糙度的影响[2]。 此类缺陷是最明显的,并且相对容易通过光学检查检测。 可以使用适当的金属化技术和高级MIM层结构来减轻它们(例如,见图 [1]的5个)。用于金属构造仪(MIM)电容器的单片微波集成电路(MMIC)模具。在高效放大器的现代设计中,MIM结构的数量和大小增加。另一方面,据报道,集成的MIM电容器是导致2009年至2016年期间客户回报的失败机制的10个主要原因之一[1]。因此,所有元素的累积产量,尤其是MIM电容器,应保持最高水平,以维持可靠的技术和低成本。我们以前研究了电容器底部电极对MIM电容器产量的粗糙度的影响[2]。此类缺陷是最明显的,并且相对容易通过光学检查检测。可以使用适当的金属化技术和高级MIM层结构来减轻它们(例如,见图[1]的5个)。从我们的优化工作中,降低MIM电容器产量的原因如下:用于MIM结构的介电(SIN X)的材料特性和质量,底部电极的表面质量,由于夹层MIM结构而导致的热和/或机械应力相关问题。在这项工作中,我们提出了基于SIN X的MIMS的设计修改,以减少与热 /机械应力引起的绝缘体菌株相关的电容器故障。
在硅(SI)和氮化硅(SIN)基于光子整合电路(PICS)的基于硅(SI)上的薄膜(SIN)上的薄膜(PICS)的异质整合在未来未来的纳米光子薄片调制器的发展中起着至关重要的作用。由于铁电薄膜的电形(EO)特性在很大程度上取决于它们的晶体相和质地,因此在这些平台上的Batio 3薄系统的整合远非微不足道。到目前为止,已经开发了使用SRTIO 3模板结合使用SRTIO 3模板纤维与高真空沉积方法结合使用的常规集成途径,但是它的吞吐量较低,昂贵,需要单晶基板。要缩小这一差距,需要一种成本效率,高通量和可扩展的方法来集成高纹理的Batio 3薄膜。因此,提出了使用LA 2 O 2 CO 3模板膜与化学溶液沉积(CSD)过程结合使用LA 2 O 2 CO 3模板膜整合的替代方法。在这项工作中,溶液处理的BATIO 3薄片的结构和EO特性是表征的,并评估了其整合到光圈谐振器中。BATIO 3纤维表现出纹理,其大型皮孔系数(r E e镜)为139 pm v-1,并且在基于环的谐振器调制器中积分显示为1.881 V cm的V le,带宽为40 GHz。这可以使Batio 3薄膜在PIC平台上进行低成本,高通量和富裕整合,并在PIC平台上以及潜在的大规模制造纳米光子BATIO 3薄片调制器。
CEA-LETI的Vertatile Photonics平台提供了200毫米和300毫米CMOS兼容的过程,可利用行业前工业化设备的顶部。除了硅外,CEA-LETI还掌握了无定形SI,SIGE,GE和SIN层的整合和堆叠。因此,CEA-LETI现在提供了几个图片平台:•光子学SOI•超低损失SI 3 N 4•SIGE / SI•3-8 µm波长•GE / SIGE低损失8-12 µm波长CEA-LETI CEA-LETI不仅证明了IIII-V-Bonded bybond bybond bybondepie bynepie and epi-epi-epi-epi-epi-epi-ln的集成。新一代性能激光器,调节器和探测器的超导材料。
CEA-LETI的Vertatile Photonics平台提供了200毫米和300毫米CMOS兼容的过程,可利用行业前工业化设备的顶部。除了硅外,CEA-LETI还掌握了无定形SI,SIGE,GE和SIN层的整合和堆叠。因此,CEA-LETI现在提供了几个图片平台:•光子学SOI•超低损失SI 3 N 4•SIGE / SI•3-8 µm波长•GE / SIGE低损失8-12 µm波长CEA-LETI CEA-LETI不仅证明了IIII-V-Bonded bybond bybond bybondepie bynepie and epi-epi-epi-epi-epi-epi-ln的集成。新一代性能激光器,调节器和探测器的超导材料。
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作为古老的水手,在我杀死了信天翁后,我被直接恐惧淹没了,尽管并不完全意识到我的罪过的严重性。起初,我的同伴赞扬了这一行为,但很快,我无意识的事迹开始展开。曾经狂热的风死了,我们被困在众多一动不动的海中。那时,我感觉到了自己的罪过,好像无辜的鸟的灵魂挂在我的脖子上,将我标记为造成我们痛苦的原因。信天翁的死亡象征着我与自然和神圣秩序的脱节。我的惩罚不仅是外部的,而且是通过无生命的海洋和我的船员的沉默指控,而且内部的惩罚 - 对我的灵魂感到痛苦。我违反了神圣的纽带,现在大自然和天堂反对我。口渴,我的船员的死眼,孤立的眼睛 - 这些是我的折磨,也是理解我的违法行为的途径。我意识到我的罪不仅反对那只鸟,而且反对生命本身。只有通过深刻的痛苦和目睹所有生物的美,包括我曾经鄙视的黏糊糊的海蛇,我才能寻求救赎。在不知不觉中祝福他们时,我开始了缓慢而痛苦的赎罪之旅,得知真正的悔改不仅需要后悔,而且需要对一生的深刻敬意。这个罪恶,惩罚和最终救赎的循环告诉我,无论多么小,每一个生活都与神的神圣和交织在一起。我的诅咒被解除了,但是我永远讲述了我的故事,这是一个活着的提醒,救赎是艰难的,我们必须与周围的世界和谐相处。
附录 /员工列表独立的学术单位格式:学位:大学 /地区 /地区的名称,尤其(RSC);事务,澳门研究小组协调员无线和多学科研究小组PUI在澳门的Mak Zairen BS博士学位微波部电力研究小组研究小组Sai Weng Sin教授BS,MS,PhD,MACAU教授Man Kay Law La Luo Bunki BS,香港科学与技术实验室基础设施协调协调员Yan Zhun Zhun Zhang Chang BS,Shanghai Shanghai Suctor,Shanghai Suctor; Chan Chen Zhixing BS,华盛顿大学;
********问题:P7_31 **************** ****** 主电路从这里开始************** M1 VD VG 0 0 NMOS0P18 + L=0.5u + W=12u + M=1 V2 VDD 0 1Vdc I1 VDD VD DC 200u R1 VG VD 22MEG TC=0,0 R2 0 VO 15k TC=0,0 C1 VD VO 1 TC=0,0 C2 VI VG 1 TC=0,0 V3 VI 0 AC 1 +SIN 0 10m 1k 0 0 0 ******* 主电路从这里结束********************************************** ***************** NMOS 模型从这里开始 ************************************* .model NMOS0P18 NMOS(Level=1 VTO=0.8 GAMMA=0.3 PHI=0.84 + LD=0 WD=0 UO=450 LAMBDA=0.05 TOX=4.08E-9 PB=0.9) ***************** NMOS 模型到此结束 *****************************************