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摘要。多次超导体是对非常规超导性的全面理解的主要挑战之一。在这里,将多频率特征分别研究为轨道和司文的自由度,因为它们对超导和磁性或电荷顺序具有不同的效果。我们建立在矩阵随机相近似(RPA)的框架上,该矩阵近似(RPA)是RPA Feynman图和顶点校正的,以在异地退化Hubbard模型中处理电子电子相互作用。结果,没有sublattice自由度的系统倾向于主导自旋波动,而具有多个sublattice位点和轨道的系统则有利于电荷波动。最后,我们明确地证明了通过有限Q配对来抵消了零动量转移Q的自旋波动对超导配对强度λ的已知抑制,这总是改善λ。
开发SSB用于室温操作。5,其中,锂离子导电argyrodites li 6 ps 5 x(x = cl,br,i)经过了广泛的研究,由于其高离子电导率,它们的电力稳定性和加工性,引起了极大的关注。6–8 Li 6 PS 5 Br的电导率可以合成控制,如Gautam等人所证明的那样。 表明,可以通过从不同退火温度中淬火6 ps 5 br来获得不同的Br /S 2位点疾病(因此不同的离子电导率)。 9,该疾病被认为将电荷不均匀性引入阴离子sublattice(疾病越高,电荷不均匀性越大 - 导致跨不同晶体学LI + 的锂离子密度越扩散(或扩散)较高(或扩散)。6–8 Li 6 PS 5 Br的电导率可以合成控制,如Gautam等人所证明的那样。表明,可以通过从不同退火温度中淬火6 ps 5 br来获得不同的Br /S 2位点疾病(因此不同的离子电导率)。9,该疾病被认为将电荷不均匀性引入阴离子sublattice(疾病越高,电荷不均匀性越大 - 导致跨不同晶体学LI +
随着温度的降低,旋转sublattice冻结的倾向,尤其是在固定中心的缺陷和/或无序周围。例如,在YBMGGAO 4的三角形拉力中,非磁离子Mg和GA之间存在位点障碍会诱导自旋玻璃行为[2]。然而,混乱并不总是对QSL状态有害。对pyrochlore氧化物[3,4]和1 T -TAS 2 [5]的研究表明,淬灭的疾病没有竞争,而是与挫败感诱发强量子逆转的合作,并可能引起新兴的旋转疾病,导致无间隙激发负责。从实验的角度来看,QSL状态不会打破任何对称性,从而使使用单个技术识别识别[6]。非弹性中子散射的作用
【主要发表论文】 [1] T. Furuhara,Y.-J. Zhang,M. Sato,G. Mimamoto,M. Enoki,H. Ohtani,T. Uesugi,H. Numakura:“高强度钢的亚晶格合金设计-间隙和替代溶质纳米级聚集的应用-”,Scripta Materialia,223(2023),115063 [2] T. Furuhara,Y.-J. Zhang,G. Miyamoto:“转变界面在先进高强度钢设计中的作用”,IOP会议系列:材料科学与工程,580(2019),012005。 [3] X.-G.张,G. Miyamoto,Y. Toji,S. Nambu,T. Koseki,T. Furuhara:“Fe-2Mn-1.5Si-0.3C合金中马氏体回复奥氏体的取向”,材料学报,144(2018),601-612。
摘要:格约化算法(例如 BKZ(Block-Korkine-Zolotarev))在评估基于格的密码学的安全性方面起着核心作用。BKZ 中用于查找投影子格中最短向量的子程序可以用枚举算法实例化。枚举过程可以看作是在某些枚举树上的深度优先搜索,枚举树的节点表示系数的部分分配,对应于格点,即格基与系数的线性组合。这项工作基于 Montanaro 的量子树回溯算法,对量子格枚举的成本进行了具体的分析。更准确地说,我们在量子电路模型中给出了具体的实现。我们还展示了如何通过并行化组件来优化电路深度。基于设计的电路,我们讨论了格枚举所需的具体量子资源估计。
我们从理论上证明了通过施加平面塞曼场可以在二维 Z 2 拓扑绝缘体中实现具有稳健角态的二阶拓扑绝缘体。塞曼场破坏了时间反演对称性,从而破坏了 Z 2 拓扑相。然而,它尊重一些晶体对称性,因此可以保护高阶拓扑相。以 Kane-Mele 模型为具体例子,我们发现沿锯齿边界的自旋螺旋边缘态被塞曼场隔开,而在两个锯齿边缘的交叉点处出现了带隙内角态,该角态与场的方向无关。我们进一步表明,角态对平面外塞曼场、交错亚晶格势、Rashba 自旋轨道耦合和蜂窝晶格的屈曲具有稳健性,使它们在实验上可行。在著名的 Bernevig-Hughes-Zhang 模型中也可以发现类似的行为。
分子氧与半导体氧化物表面的相互作用在许多技术中起着关键作用。这个主题很难通过实验和理论来实现,这主要是由于多种施加电荷状态,吸附氧气的吸附构和反应通道。在这里,我们使用非接触原子力显微镜(AFM)和密度功能性the-Ory(DFT)的组合来解决金红石TIO 2(110)表面上的吸附O 2,这在金属氧化物的表面化学中提出了长期的挑战。我们表明,通过氧气量终止的化学惰性AFM尖端可以很好地解决吸附物种和底物的氧气sublattice。吸附的O 2分子可以从表面接受一个或两个电子极性,形成超氧或过氧物种。在与应用相关的任何条件下,过氧状态是最优选的。非侵入成像的可能性使我们能够解释与尖端注入电子/孔注入相关的行为,与紫外光的相互作用以及热退火的效果。
我们研究了霍尔斯坦扩展哈伯德模型的电子电子和电子 - phonon介导的配对,并在范霍夫填充物附近的kagome晶格上进行,我们研究了它们对电子配对状态的综合作用。我们发现,它们的组合可以在跨界区域促进异国情调的配对,在该区域中,填充物接近Van Hove的奇异性。尤其是在P型Van Hove填充时,E 1 U(P -Wave)和B 2 U(F Y 3 - 3 - 3 - 3 YX 2 -Wave)配对变得领先,在M -type van Hove flling,E 1 U和A 2 g(I -Wave)配对中得到了促进。此外,我们表明,由于费米表面的sublattice质地,电子 - 光子相互作用获得了显着的动量依赖性,从而可以促进非S波配对。我们对这些配对倾向进行了详细的分析,并讨论了对基于钒的Kagome超导体A V 3 SB 5的含义。
altermagnets(AMS)是一类新的磁性材料,结合了铁磁体和抗铁磁铁的受益旋转特性,最近引起了极大的关注。在这里,我们已经确定了分层的插入过渡金属二苯甲管中的altermagnetism,conb 4 se 8,它用NBSE 2层之间的插入式CO原子的有序sublattice结晶。单晶合成,并使用单晶衍射和扫描隧道显微镜进行结构表征。磁性测量结果揭示了168 K的易于轴抗铁磁性。密度功能理论(DFT)计算表明,具有易于轴旋转方向的A型抗反磁性排序是基态,通过单晶中子衍射实验验证了基态。电子带结构在此磁态显示自旋切割带中,证实了该化合物中的altermagnetism。Conb 4 Se 8的分层结构提出了一个有前途的平台,用于测试与Altermagnetism相关的各种预测属性。